JP2007250166A - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガラス基板1を、研磨材を含有するスラリーを供給しながら、ガラス基板1と研磨パッド10とを相対的に移動させて研磨する主表面研磨工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、前記研磨パッド10は、研磨材2を25〜33(重量%)、好ましくは27〜30(重量%)含有することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
この実施例においては、(1)粗ラッピング工程、(2)形状加工工程、(3)精ラッピング工程、(4)端面研磨工程、(5)第一ポリッシング工程、(6)第二ポリッシング工程、(7)洗浄工程、(8)化学強化工程、(9)洗浄工程、(10)磁気ディスクの製造工程を経て、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを製造した。以下、各工程を詳細に説明する。
まず、溶融ガラスを、上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスして、直径66mmφ、厚さ1.2mmの円盤状のアルミノシリケートガラスからなるガラス基板を得た。この場合、ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円盤状のガラス基板を得ても良い。なお、アルミノシリケートガラスとしては、SiO2:58〜75重量%、Al2O3:5〜23重量%、Li2O:3〜10重量%、Na2O:4〜13重量%を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。
次に,円筒状の砥石を用いてガラス基板の中央部分に孔を開けると共に、外周端面も研削して直径65mmφとした後、外周端面及び内周面に所定の面取り加工を施した。このときのガラス基板端面(内周、外周)の表面粗さは、Rmaxで4μm程度であった。
次に、砥粒の粒度を#1000(粒径約8〜16μm)に変え、ガラス基板表面をラッピングすることにより、平坦度3μm、表面粗さRmaxが2μm程度、Raが0.2μm程度とした。尚、Rmax、Raは原子間力顕微鏡(AFM)で測定、平坦度は、平坦度測定装置で測定したもので、基板表面の最も高い部位と、もっとも低い部位との上下方向(表面に垂直な方向)の距離(高低差)である。上記精ラッピング工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、水の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。
次いで、ブラシ研磨により、ガラス基板を回転させながらガラス基板の端面(内周、外周)の表面粗さをRmaxで1μm、Raで0.3μm程度に研磨した。上記端面研磨工程を終えたガラス基板の表面を水洗浄した。
次に、第一ポリッシング工程(主表面研磨工程)を施した。この第一ポリッシング工程は、上述したラッピング工程で残留した傷や歪みの除去を目的とするもので、両面研磨装置3を用いて以下の研磨条件で実施した。研磨装置3には、本発明に係る研磨パッド10を使用した。
スラリー:酸化セリウム(粒径0.8〜1.0μm:平均1.3μm)砥粒に水を加えた遊離砥粒
研磨パッドの基体:ウレタン(Asker−A硬度95)
研磨パッドの含有研磨材:酸化セリウム(粒径1.5〜1.0μm:平均1.3μm)
研磨パッドの研磨材含有率:30(重量%)
荷重(付圧):80〜150g/cm2
研磨時間:30〜50分
除去量:35〜45μm
次に、第一ポリッシング工程で使用した両面研磨装置を用い、研磨パッドとして硬質パッドから軟質パッドに変えて第二ポリッシング工程を実施した。第二ポリッシングにおける研磨条件は、以下の条件とした。
スラリー:コロイダルシリカ(平均粒径 80nm)砥粒に水を加えた遊離砥粒
荷重(付圧):70〜120g/cm2
研磨時間:10〜30分
除去量:0.1〜5μm
上記第二ポリッシング工程を終えたガラス基板を、アルカリ(NaOH)、硫酸に順次浸漬して、洗浄を行った。尚、各洗浄槽には超音波を印加した。さらに、中性洗剤、純水、純水、IPA、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。
次に、上記ラッピング、ポリッシング、洗浄工程を終えたガラス基板に化学強化を施した。化学強化には、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化塩を用意し、この化学強化塩を375℃に加熱し、300℃に予熱された洗浄済みのガラス基板を約3時間浸漬して行った。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強化するように、複数のガラス基板が端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行った。
上記急冷を終えたガラス基板を、約40℃に加熱した硫酸に浸漬し、超音波をかけながら洗浄を行った。
上述した工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板に対し、インライン型スパッタリング装置にて、CrTi層、CoW下地層、CoPtCrB磁性層、水素化カーボン保護層を成膜し、ディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を形成して磁気ディスクを作製した。
上記のようにして得られたガラス基板と、異なる組成の研磨パッド(参考例1〜5)を用いて製造したガラス基板とを比較したものを図2に示す。図2において硬度(Asker−A)は日本ゴム協会標準規格(準拠規格:JISK6253,ASTM D2240)に定める評価法によった。
2 …研磨材
3 …研磨装置
10 …研磨パッド
11 …気泡
12 …酸化セリウム
31 …上定盤
32 …下定盤
33 …研磨用キャリア
34 …インターナルギア
35 …太陽ギア
Claims (9)
- ガラス基板を研磨材を含有するスラリーを供給しながら、ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させて研磨する主表面研磨工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、
前記研磨パッドは、研磨材を25〜33(重量%)含有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 研磨材を含有するスラリーをガラス基板と研磨パッドとの間に供給し、ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させることで、ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨パッドとして発泡樹脂からなるパッドを用いるとともに、
前記研磨パッドにおける研磨の表面の発泡状態を一定に保持しながら研磨を行うことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記スラリーに含有される研磨材の粒径が0.5〜2.0μmであって、前記研磨パッドに含有される研磨材の粒径が同じ範囲の径であることを特徴とする請求項1または請求項2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨パッドのAsker−A硬度が90以上であることを特徴とする請求項1または請求項2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨材は酸化セリウムまたはコロイダルシリカであることを特徴とする請求項1または請求項2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨パッドはウレタンまたは発泡ポリウレタンであることを特徴とする請求項1または請求項2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 2.5インチ型ハードディスクドライブ、または、2.5インチ型ハードディスクドライブよりも小径の磁気ディスクを用いるハードディスクドライブに搭載する磁気ディスク用のガラス基板を製造することを特徴とする請求項1または請求項2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 少なくともガラス基板をラッピングする工程と、その工程後、粒径0.5〜2.0μmの研磨砥粒を含む研磨液を用いて研磨する第一ポリッシング工程と、粒径0.01〜1.0μmの研磨砥粒を含む研磨液を用いて研磨する第二ポリッシング工程とを有し、
前記主表面研磨工程とは前記第一ポリッシング工程であることを特徴とする請求項1または請求項2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 円盤状のガラス基板を、ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させて研磨する主表面研磨工程に用いる研磨パッドにおいて、
粒径が0.5〜2.0μmの研磨材を25〜33(重量%)含有し、Asker−A硬度が90以上であることを特徴とする研磨パッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007032233A JP5142548B2 (ja) | 2006-02-14 | 2007-02-13 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および研磨パッド |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006036456 | 2006-02-14 | ||
JP2006036456 | 2006-02-14 | ||
JP2007032233A JP5142548B2 (ja) | 2006-02-14 | 2007-02-13 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および研磨パッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007250166A true JP2007250166A (ja) | 2007-09-27 |
JP5142548B2 JP5142548B2 (ja) | 2013-02-13 |
Family
ID=38594251
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007032233A Active JP5142548B2 (ja) | 2006-02-14 | 2007-02-13 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および研磨パッド |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5142548B2 (ja) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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