JP2007197235A - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び磁気ディスクの製造方法。 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、中心部に円孔12を有する円板状のガラス基板10を準備する基板準備工程と、円孔12を囲むガラス基板10の内周端面14を鏡面研磨する内周端面研磨工程とを備え、ガラス基板10の内周端面14は、ガラス基板の主表面と垂直な側壁部22と、主表面と側壁部22との間に介在する面取部24とを備え、内周端面研磨工程は、主として内周端面14の面取部24を研磨ブラシを用いて研磨する研磨ブラシ利用工程と、研磨ブラシ利用工程の後に、主として内周端面14の側壁部22を研磨パッドを用いて研磨する研磨パッド利用工程とを有する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の一実施形態に係るガラス基板10の構成の一例を示す。図1(a)は、ガラス基板10を切断してみたときの斜視図である。ガラス基板10は、回転数5400rpm以上(例えば7200rpm、10000rpm以上等)の2.5インチ径の磁気ディスク用ガラス基板であり、中心部を貫通する円孔12を有する。円孔12の径は、例えば18〜21mm(例えば20mm程度)である。ガラス基板10において、主表面、内周端面14、及び外周端面16は、鏡面研磨されている。
(実施例1)
以下の工程を経て、実施例1に係るガラス基板を製造した。
以下の工程により、円孔を有するガラス基板を準備した。最初に、ダウンドロー法で形成したシートガラスから、研削砥石で直径49mmφ、厚さ1.1mmの円盤状にそれぞれ切り出したアルミノシリケイトガラスからなるガラス基板を、比較的粗いダイヤモンド砥石で研削加工して、直径48mm(1.8インチ)φ、厚さ0.51mmに成形した。この場合、ダウンドロー法の代わりに、溶融ガラスを、上型、下型、胴型を用いてダイレクト・プレスして、円盤状のガラス基板を得てもよい。アルミノシリケイトガラスとしては、モル%表示で、SiO2を57〜74%、ZrO2を0〜2.8%、Al2O3を3〜15%、LiO2を7〜16%、Na2Oを4〜14%を主成分として含有する化学強化用ガラスを使用した。
図2を用いて説明した方法により、ガラス基板の内周端面を鏡面研磨した。研磨ブラシ利用工程では、図3を用いて説明したチャンネルブラシを用いた。この研磨ブラシをガラス基板の円孔に挿入して、円孔内に研磨液を供給しつつ研磨ブラシを回転させた。研磨液としては、酸化セリウム研磨砥粒を含む研磨液を用いた。
研磨ブラシを用いて、ガラス基板の外周端面を鏡面研磨した。
第一研磨工程を施した。この第一研磨工程は、砂掛け工程で残留した傷や歪みの除去を目的とするもので、研磨装置を用いて行った。詳しくは、ポリシャ(研磨パッド、研磨布)として硬質ポリシャ(セリウムパッドMHC15:スピードファム社製)を用い、以下の研磨条件で第一研磨工程を実施した。
研磨液:酸化セリウム+水
荷重:300g/cm2(L=238kg)
研磨時間:15分
除去量:30μm
下定盤回転数:40rpm
上定盤回転数:35rpm
内ギア回転数:14rpm
外ギア回転数:29rpm
次に、ガラス基板に化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400℃に加熱し、300℃に予熱された洗浄済みのガラス基板を約3時間浸漬して行った。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行った。
研磨パッド利用工程を行わなかった以外は実施例1と同様にして、比較例1に係るガラス基板を製造した。また、研磨ブラシ利用工程を行わなかった以外は実施例1と同様にして、比較例2に係るガラス基板を製造した。
研磨パッド利用工程で用いる研磨パッドのパッド部を無発泡ポリウレタンで形成したこと、及び研磨パッド利用工程の研磨時間以外は実施例1と同様にして、実施例2に係るガラス基板を製造した。また、研磨パッドのパッド部を研磨剤フィラー入りの発泡ポリウレタンで形成し、パッド部の硬さをJIS−A硬度で70とした以外は実施例1と同様にして、実施例3に係るガラス基板を製造した。パッド部の硬さをJIS−A硬度で70〜95とした以外は実施例1と同様にして、実施例4に係るガラス基板を製造した。実施例1〜4の何れにおいても、内周端面の端面品質は良好であった。
磁気ディスク用ガラス基板上に、第1下地層としてCrTi下地層、第2下地層としてAlRu下地層、第3下地層としてCrMo下地層を成膜し、次いで、CoCrPtB合金からなる磁性層を成膜した。下地層および磁性層はDCマグネトロンスパッタリング法で成膜した。次にプラズマCVD法で、水素化炭素保護層を成膜し、この上に、ディップ法でパーフロロポリエーテル化合物からなる潤滑層を成膜した。以上のようにして磁気ディスクを製造した。
得られた磁気ディスクを、回転数が7200回転/分のハードディスクドライプに搭載し連続運転試験を実施した。なお、磁気ヘッドは再生素子部が磁気抵抗効果を利用して記録信号を再生するMR型磁気ヘッドを用い、ハードディスクドライブに組み込んだ。なお、この磁気ヘッドの磁気ディスク上の浮上量は8nmに設定されている。
結果、実施例Aの磁気ディスクを搭載したハードディスクドライブは、特に障害を起こすこともなく、情報の記録再生を行うことができた。
比較例Aの磁気ディスクにおいては、7200回転/分の回転数で磁気ディスクを回転させると、情報の記録再生を満足に行うことができなかった。従来のハードディスクが利用していた回転数である4200回転/分の回転数では、この障害は検出されなかった。ガラス基板の側面部の直線性が5400回転/分以上の回転数に対して不適切であることが原因であると考察された。
比較例Bの磁気ディスクにおいては、再生信号を観察すると、サーマルアスペリティ特有の波形が検出されていた。ガラス基板の面取部が鏡面とされていないことが原因であると考察された。
Claims (6)
- 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
中心部に円孔を有する円板状のガラス基板を準備する基板準備工程と、
前記円孔を囲む前記ガラス基板の内周端面を鏡面研磨する内周端面研磨工程と
を備え、
前記ガラス基板の前記内周端面は、
前記ガラス基板の主表面と垂直な側壁部と、
前記主表面と前記側壁部との間に介在する斜面部と
を備え、
前記内周端面研磨工程は、
主として前記内周端面の前記斜面部を研磨ブラシを用いて研磨する研磨ブラシ利用工程と、
前記研磨ブラシ利用工程の後に、主として前記内周端面の前記側壁部を研磨パッドを用いて研磨する研磨パッド利用工程と
を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記円孔の径は、21mm以下であり、
前記研磨ブラシ利用工程で用いられる前記研磨ブラシは、断面の径が20mm以下の研磨ブラシであることを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記内周端面研磨工程は、積層された複数枚の前記ガラス基板の前記内周端面を同時に研磨し、
前記研磨パッド利用工程で用いられる前記研磨パッドは、JIS−A硬度で30〜65の発泡樹脂で形成されたことを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記研磨バッドは、前記ガラス基板の前記内周端面と接触すべき面に、軸方向に延伸する溝部を有することを特徴とする請求項3に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 請求項1から4の何れかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法で製造されたことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
- 請求項5に記載の磁気ディスク用ガラス基板上に少なくとも磁気記録層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
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