JP2007141741A - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】以上のような目的を達成するために、真空室内にて移動する移動部材の摺動部分に潤滑剤を塗布した走査型電子顕微鏡において、当該潤滑剤として、低分子成分が除去されたものを採用する。これによって、試料汚染を抑制することが可能となり、試料測定後のプロセスにおける不良発生の抑制が可能となる。
【選択図】図2
Description
Scanning Electron Microscope)などによって、パターン幅等を測定することにより、プロセスの評価を行うことが行われている。具体的には、CD−SEMに代表される走査電子顕微鏡によって、半導体ウェハ等の試料上に形成されたパターンが適正に形成されているか否かを判断するため、試料ステージによって試料を移動させ、所望のパターンに電子ビームが照射されるように、試料を移動させることが行われている。
25は、二次電子変換電極27によって、二次電子35に変換され、その二次電子35は二次荷電粒子検出器36により捕捉され、増幅器16を介して表示装置26の表示画面の輝度信号として使用される。
202に配置すればよい。エリプソメトリでは、まず位相差デルタおよび偏向角プサイが得られるので、それらから適切な数値を選択して、表示装置に表示すればよいが、それに限定されるものではなく、それをもとに演算して得られる値、たとえば表面の膜の屈折率や膜厚などを表示してもよい。
Claims (11)
- 荷電粒子線が照射された試料から放出される荷電粒子を検出する検出器と、前記荷電粒子線が照射される試料を包囲する真空室を備えた荷電粒子線装置において、
前記真空室内に配置される摺動部材の摺動部に、真空内において80℃以上220℃以下の温度で加熱精製された潤滑剤が塗布されていることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記潤滑剤は、フッ素系化合物を含むことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2において、
前記フッ素系化合物は、パーフルオロポリエーテルを含むことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項2において、
前記潤滑剤は、前記加熱精製によって、CF3 ,C2F5、及び/又はC3F7の一部が除去されたものであることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記潤滑剤は、炭化水素系の化合物を含むことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項1において、
前記潤滑剤は、動粘度が400〜700mm2/s であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 荷電粒子線が照射された試料から放出される荷電粒子を検出する検出器と、前記荷電粒子線が照射される試料を包囲する真空室を備えた荷電粒子線装置において、
前記真空室内に配置される摺動部材の摺動部に、パーフルオロポリエーテルを含む潤滑剤が塗布されており、当該潤滑剤は、動粘度が400〜700mm2/sであって、CF3,C2F5、及び/又はC3F7の一部を除去する工程を経て、得られたものであることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項7において、
前記CF3 ,C2F5、及び/又はC3F7の一部は、真空内における80℃以上220℃以下の加熱精製によって除去されるものであることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 荷電粒子線が照射された試料から放出される荷電粒子を検出する検出器と、前記荷電粒子線が照射される試料を包囲する真空室を備えた荷電粒子線装置において、
前記真空室内に存在する脂肪族炭化水素系物質,フタル酸エステル系物質、或いはパーフルオロポリエーテル系物質を検出する検出装置を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項9において、
前記検出装置は、四重極型質量分析計であることを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項9において、
前記検出装置は、光学式分析装置であることを特徴とする荷電粒子線装置。
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