JP5099703B2 - 荷電粒子線装置 - Google Patents
荷電粒子線装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5099703B2 JP5099703B2 JP2008180222A JP2008180222A JP5099703B2 JP 5099703 B2 JP5099703 B2 JP 5099703B2 JP 2008180222 A JP2008180222 A JP 2008180222A JP 2008180222 A JP2008180222 A JP 2008180222A JP 5099703 B2 JP5099703 B2 JP 5099703B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lubricant
- sliding
- charged particle
- particle beam
- decomposition reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
(化学物質1)トリクレジルフォスフェート若しくはその誘導体(TCP:Tricresyl Phosphate)
(化学物質2)ジ3級ドデシルジスルフィド(TDS:di−tert−dodecyl disulfide)
(化学物質3)ジチオカルバミン酸モリブデン(MoDTC:Molybdenum Dithocarbamate)
(化学物質4)フォスフォニウム誘導体からなるカチオンとリン酸誘導体からなるアニオンとによって構成されるイオン液体(トリ−n−ブチルメチルフォスフォニウムとジメチルリン酸とからなるイオン液体(TBMP−DMP:Tri−n−Butyl Methyl Phosphonium−Dimethylphospate))
なお、インダクション時間Tiを140時間以上で、臨界面圧Pcを0.5GPa以上にするために、潤滑剤をMACの基油と添加剤とによって構成し、MACの基油に対する化学物質1(TCP)の添加剤の添加量としては0.1〜10重量%、MACの基油に対する化学物質2(TDS)の添加剤の添加量としては1.5〜10重量%、MACの基油に対する化学物質3(MoDTC)の添加剤の添加量としては0.5〜5重量%、MACの基油に対する化学物質4(TBMP−DMP)の添加剤の添加量としては5〜20重量%、が好適であると推考される。
図1は、本発明の一実施の形態を示す、走査型電子顕微鏡の概略を説明するための図である。装置は、鏡筒1と、鏡筒1に取り付けられた荷電粒子線源2と、試料を装置外部から導入するロードロック室9と、試料を検査する試料室12と、これらを駆動する、図示しない制御部から、概略なっている。
Claims (1)
- 荷電粒子線が照射された試料から放出される荷電粒子を検出する検出器と、前記荷電粒
子線が照射される試料を包囲する真空室とを備えた荷電粒子線装置において、
前記真空室内に配置される摺動部材の摺動部には潤滑剤が塗布されており、
前記潤滑剤は基油と添加剤とから構成され、
前記基油は多アルキル置換シクロペンタン誘導体、またはリン酸誘導体からなるアニオ
ンとフォスフォニウム誘導体からなるカチオンによって構成されるイオン液体、のいずれ
かで形成され、
前記添加剤はトリクレジルフォスフェート若しくはその誘導体、またはジ3級ドデシル
ジスルフィド、またはジチオカルバミン酸モリブデン、またはリン酸誘導体からなるアニ
オンとフォスフォニウム誘導体からなるカチオンとによって構成されるイオン液体、のい
ずれかで形成されることを特徴とする荷電粒子線装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008180222A JP5099703B2 (ja) | 2008-07-10 | 2008-07-10 | 荷電粒子線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008180222A JP5099703B2 (ja) | 2008-07-10 | 2008-07-10 | 荷電粒子線装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010021345A JP2010021345A (ja) | 2010-01-28 |
JP5099703B2 true JP5099703B2 (ja) | 2012-12-19 |
Family
ID=41705954
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008180222A Expired - Fee Related JP5099703B2 (ja) | 2008-07-10 | 2008-07-10 | 荷電粒子線装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5099703B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111019744B (zh) * | 2019-11-27 | 2020-12-29 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 一种多烷基环戊烷润滑油组合物及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4721823A (en) * | 1986-09-19 | 1988-01-26 | Pennzoil Products Company | Lubricants comprising novel cyclopentanes, cyclopentadienes, cyclopentenes, and mixtures thereof and methods of manufacture |
JPH02218794A (ja) * | 1989-02-19 | 1990-08-31 | Sumikou Jiyunkatsuzai Kk | 潤滑油組成物 |
JPH05135725A (ja) * | 1991-11-07 | 1993-06-01 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置における有機ガス分子の除去方法 |
JP3567956B2 (ja) * | 1996-08-06 | 2004-09-22 | 日本精工株式会社 | グリース組成物 |
JP3911052B2 (ja) * | 1996-11-07 | 2007-05-09 | 協同油脂株式会社 | 潤滑剤組成物 |
JP2004259448A (ja) * | 2003-02-24 | 2004-09-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料ステージ駆動機構 |
JP5376746B2 (ja) * | 2003-11-05 | 2013-12-25 | 協同油脂株式会社 | 半固体状潤滑剤組成物 |
JP4875886B2 (ja) * | 2005-11-22 | 2012-02-15 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
-
2008
- 2008-07-10 JP JP2008180222A patent/JP5099703B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010021345A (ja) | 2010-01-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Singh et al. | An investigation of material and tribological properties of Sb2O3/Au-doped MoS2 solid lubricant films under sliding and rolling contact in different environments | |
Stephenson et al. | The Laplace Project: An integrated suite for preparing and transferring atom probe samples under cryogenic and UHV conditions | |
US6843927B2 (en) | Method and apparatus for endpoint detection in electron beam assisted etching | |
JP5046365B2 (ja) | サンプルを顕微処理するためのクラスタ器具 | |
US7394067B1 (en) | Systems and methods for reducing alteration of a specimen during analysis for charged particle based and other measurement systems | |
JP4875886B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
Philippon et al. | Role of nascent metallic surfaces on the tribochemistry of phosphite lubricant additives | |
CN104040677B (zh) | 具备真空容器的带电粒子线照射装置 | |
JP5099703B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
Bertrand | Chemical degradation of a multiply alkylated cyclopentane (MAC) oil during wear: implications for spacecraft attitude control system bearings | |
CN113748481A (zh) | 在样本的表面区域上自动聚焦带电粒子束的方法、计算带电粒子束装置的图像的锐度值的收敛集合的方法、及用于对样本成像的带电粒子束装置 | |
Horiuchi et al. | Contamination-free transmission electron microscopy for high-resolution carbon elemental mapping of polymers | |
US20090138995A1 (en) | Atom probe component treatments | |
JPWO2020218386A1 (ja) | 潤滑油組成物、その製造方法及び真空装置 | |
WO2012114409A1 (ja) | 真空装置及びそれに用いる潤滑油 | |
Seah et al. | Surface and interface characterization | |
JP5422610B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
Molina | Triboemission from ceramics: charge intensity and energy distribution characterizations | |
Boehm et al. | Modelling tribochemical reactions of additives by gas-phase lubrication | |
Takiwatari et al. | Effect of Surface Roughness on Tribochemical Decomposition of Synthetic Oils under High-Vacuum Conditions | |
JP2010129246A (ja) | 電子線観察装置及びその汚染評価方法 | |
Hofmann et al. | Quantitative compositional depth profiling | |
Cole et al. | Surface analysis methods for contaminant identification | |
JP2007070565A (ja) | 摺動ユニット及び摺動方法 | |
Singh | An Investigation of Material Properties and Tribological Performance of Magnetron Sputtered Thin Film Coatings |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110131 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120229 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120605 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120806 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120821 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120919 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151005 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |