JP5046365B2 - サンプルを顕微処理するためのクラスタ器具 - Google Patents
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Landscapes
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
102 カルーセル
104 器具
106 円
108、302、504、706 サンプル
110 カルーセルの回転軸
114 操作装置
120 マイクロメータ・スピンドル
210 デスクトップ走査電子顕微鏡(SEM)
212 研磨機械
214 光学顕微鏡
216 X線蛍光(XRF)器具
217 真空線
300、500 システム
304 真空室
305 SEM
306 凹み
308 ベース
310 スライド支持面
312 壁
320 真空ポンプ
501 シート
502、602 平滑面
503、603 キャビティ
505 ソール・プレート
506 低真空走査電子顕微鏡のカラム(ESEMカラム)
507 電子ビーム
508 中空
510 第3真空バッファボリューム
512 第2真空バッファボリューム
514 第1真空バッファボリューム
511 513 515 シャフト
518 519 520 離隔距離
601 シート
604 ウエハ
605 ソール・プレート
606 ESEMカラム
609 真空カラム
610 612 614 真空バッファボリューム
625 626 627 真空バルブ
702 カセット・ローダ/アンローダ
704 キャリア
708 サンプル・ホルダ
Claims (14)
- サンプルを顕微処理する装置であって、
回転軸の回りで回転可能なベースと、
大気圧未満においてサンプルを処理する少なくとも1つの帯電粒子ビーム器具を含む複数の器具であって、各器具が作業領域を含み、前記作業領域が、前記回転軸をほぼ中心とする器具円の上に配置される複数の器具と、
サンプルを保持するための、前記ベースの複数の凹みであって、前記回転軸を中心とするベース円に沿って、かつ、前記ベースが、前記複数の器具の前記作業領域内に前記複数の凹みを配置するように回転可能な前記器具円からの距離が等しく配置された前記凹みと、
前記凹みのサンプルが少なくとも1つの前記帯電粒子ビーム器具の作業領域内に回転し、前記器具が作動している間真空を保てるようなスライド真空封止を前記ベースと共に形成する前記帯電粒子ビーム器具の一部とを備える装置。 - 少なくとも1つの前記帯電粒子ビーム器具が、走査電子顕微鏡を含む請求項1に記載の装置。
- 前記荷電粒子ビーム器具の少なくとも1つが、前記器具において真空を提供するのを容易にするために真空バッファキャビティを含む請求項1に記載の装置。
- 前記器具の少なくとも1つが、材料運搬器具を備える請求項1に記載の装置。
- 前記サンプルを配置する配置装置をさらに備える請求項1に記載の装置。
- 前記配置装置が、前記サンプルを配置するために前記ベースを移動させる請求項5に記載の装置。
- 前記配置装置が、前記サンプルを配置するために、個々のサンプルのみを移動させる請
求項5に記載の装置。 - 前記複数の凹みの少なくとも1つが器具の前記作業領域と一致するように、ある角度変位において回転ベースを配置する配置装置をさらに備える請求項1に記載の装置。
- サンプルを前記サンプル・ホルダに配置することと、
前記複数の器具の第1の器具の前記作業領域まで前記サンプルを回転させることと、
前記複数の器具の前記第1の器具の上において前記サンプルを処理することと、
前記複数の器具の他の1つの前記作業領域まで前記サンプルを回転させることと、
前記複数の器具の前記他の1つの上において前記サンプルを処理することとを備える請求項1に記載の装置を使用する方法。 - サンプルについて顕微処理を実施するために複数の器具を使用する方法であって、
各器具が作業領域を有する複数の器具を提供し、前記器具の少なくとも1つが、前記サンプルが処理のために真空に配置されることを必要とすることと、
複数のサンプル凹みを有するターンテーブルを提供し、前記ターンテーブルが、前記複数の器具の作業領域間において前記サンプル凹みを回転させることと、前記サンプルを真空内に配置して作動することを必要とする前記器具と共に真空封止を形成することと、
第1のサンプルを前記サンプル・ホルダに配置することと、
前記複数の器具の第1の器具の前記作業領域まで前記第1のサンプルを回転させることと、
前記複数の器具の前記第1の器具の上において前記サンプルを処理することと、
第2のサンプルを第2の凹みに配置することと、
前記第1のサンプルを第2の器具の下に配置し、前記第2のサンプルを前記第1の器具の下に配置するために前記ターンテーブルを回転し、前記第1あるいは第2の器具において、前記第1および第2のサンプルのうち少なくとも1つは回転して真空環境に入りあるいは真空環境から出ることと、
前記第1のサンプルを前記第2の器具において、かつ、前記第2のサンプルを前記第1の器具において処理することとを備える方法。 - 前記複数の器具の1つにおいて前記第1あるいは第2のサンプルを処理することが、走査電子顕微鏡を使用して前記サンプルを観測することを含む請求項10に記載の方法。
- 前記複数の器具の1つにおいて前記第1あるいは第2のサンプルを処理することが、走査プローブ顕微鏡を使用して前記サンプルを観測することを含む請求項10に記載の方法。
- 前記サンプルを処理する前記器具の前記作業領域と前記サンプルとを位置合わせするために、前記複数の器具の1つの下で前記第1あるいは第2のサンプルの位置を調節することをさらに備える請求項10に記載の方法。
- 前記サンプルの前記位置を調節することが、前記ターンテーブルの位置を調節することを含む請求項10に記載の方法。
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