JP3705976B2 - 分析・観察装置 - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、対象物の分析や観察を行うための装置に係わり、特に、メモリ、ASICなどのLSI、磁気デイスク装置、液晶など半導体デバイスの歩留り向上のために必要な、微小異物、汚染部を対象とする電子顕微鏡や2次イオン質量分析計、顕微レーザ質量分析計などの分析装置や観察装置(以下では分析/観察手段と総称する)を複数備えた分析・観察装置において、複数の分析/観察装置間の試料搬送及びその位置決めを高精度で高速に行う手段に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体製品の集積度の向上にともない、サブミクロンの微小異物や数原子層の微量汚染物でも不良の原因となってきている。不良解析には、これらの異物、汚染物の大きさ、形状や組成、成分の分析を行う必要がある。微小異物の観察には従来から電子顕微鏡が用いられている。また、微小異物、微量汚染物の高感度分析手法としては、荷電粒子やレーザ光を試料上の微小個所に照射して発生させたイオンを分析する2次イオン質量分析計や顕微レーザ質量分析計が開発されている。
【0003】
ところで異物の由来を究明するためには、これら複数の分析/観察手段で得られたデータを組合わせた総合的判断が必要なことが多い。また、顕微レーザ質量分析計の定量性向上のためには、レーザ光の照射による試料表面の蒸発の状態を知ることが必要である。このためにも、顕微レーザ質量分析計と電子顕微鏡とを組み合わせて、高度な観察を行うことが必要となる。
【0004】
電子顕微鏡、2次イオン質量分析計、顕微レーザ質量分析計及びイオンビーム加工装置を組み合わせた例は特開平10−223168号公報に記載されている。この従来装置は、電子顕微鏡の電子線と顕微レーザ質量分析計のレーザ光とを同じ位置に照射する場合と、異なる位置に照射する場合について述べている。前者は電子顕微鏡と顕微レーザ質量分析計のレンズ系を同軸に配置するため、観察性能及び分析性能が制限される。そこで観察性能及び分析性能を最大限に発揮させるため、後者の構成を採用すると、試料を電子顕微鏡と顕微レーザ質量分析計との間で移動する必要があり、試料台の位置合わせ精度を高くする必要が生じる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来技術で例示されるように、同一試料に対して電子顕微鏡による観察と顕微レーザ質量分析計による分析とを連続して行う際、電子顕微鏡と顕微レーザ質量分析計との間で試料を搬送する手段が必要となる。一般的な装置の大きさからして、両者間の移動距離は数十cmであるが、上記従来技術で述べられているように、試料ステージの移動距離と位置精度とは両立しない。そこで位置合わせ精度を向上させるため、上記従来技術では粗動機構と微動機構とを組み合わせている。
【0006】
しかしながら、上記従来技術は試料位置を直接的に計測する手段を備えていない。また、真空室内で試料を搬送するため、試料台を外部から見て、移動距離を測定することも難しい。このため、位置決めの際、測定者が電子顕微鏡や顕微レーザ質量分析計の試料像を観察しながら、異物を捜すことが必要となる。特に、粗動ステージの誤差のため、異物が視野外にある場合には、これを捜すのに非常に手間がかかる。
【0007】
本発明は、複数の分析/観察手段を備える分析・観測装置において、複数の分析/観察手段間で試料を搬送する際、該試料上の分析または観察対象物が移動先の分析/観察手段の視野内に入るように位置決めすることが可能な分析・観察装置を提供することを目的とする。
【0008】
なお、本明細書において、分析/観察手段の視野とは当該手段自身の分析/観察視野、あるいは当該手段と連動して分析/観察領域を設定するために用いられる光学的観察手段で観察可能な2次元領域を指し、例えば、走査型電子顕微鏡の視野や、顕微レーザ質量分析計に備え付けられている分析位置特定用カメラの視野を指すものとする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明では、分析/観察手段を複数備える分析・観察装置において、これら複数の分析/観察手段間で試料を移動させる際に、ある1つの分析/観察手段が分析または観察を行った前記試料上の特定個所を、他のの分析/観察手段の視野内に位置決めする位置決め手段とを備える。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施態様においては、試料を載せて分析/観察手段間を移動させる移動用ステージに、移動先の分析/観察手段の視野より狭い間隔で目盛が切られているスケールを設ける。さらに、分析/観察手段間を試料が移動する際、通過して行く目盛を、移動する移動用ステージに対して固定されているスケール観察光学系で観察してカウントすることにより、試料の移動距離をモニタする。本発明では、このモニタ結果を利用して位置決めを行うことで、試料上の対象物が移動先の分析/観察手段の視野に入るようにしている。以下、本発明のより具体的な実施形態を図面を参照して説明する。
【0011】
本発明の第1の実施形態を図1を参照して説明する。
【0012】
図1において、1は試料台、S(1)、S(2)、‥‥‥S(N)は目盛、Iは目盛間隔、3はスケール観察用光学系の視野、R0は視野3の幅、W1、W2はそれぞれ第1及び第2分析/観察装置の視野、R1,R2はそれぞれ視野W1,W2の幅、4は試料である。実線及び破線はそれぞれ第1及び第2分析/観察装置で試料分析または観察を行うときの試料台位置である。
【0013】
また上記各番号、記号にアポストロフィを付けたものは、破線の試料台位置に対応している。Lは2つの分析/観察装置の光軸間の距離である。Xは2つの分析/観察装置の光軸を結ぶ直線の方向、Yはこれと垂直な方向である。以下では、最初に第1分析/観察装置で試料分析または観察を行い、その後、試料台を移動して、第1分析/観察装置で分析あるいは観察した試料上の特定個所を、第2分析/観察装置の視野内に位置決めする場合を例に挙げて説明する。
【0014】
本発明では、スケール観察用光学系の視野の大きさR0とスケールの目盛間隔Iとは、
R0>I ……(数1)
の関係とする。これにより、視野3内には常に少なくとも1つの目盛が見えている。第1分析/観察装置で試料上の対象物となる異物を分析や観察している時に、視野3に見えている目盛のうちもっとも左側のもの(あるいはもっとも右側のもの)をS(i)とする。
【0015】
この異物を第2分析/観察装置にて分析または観察するためには、試料台1を上記Lの距離移動させる必要がある。Lは目盛間隔Iと次式の関係で表される。
【0016】
L=kI+α、kは整数、0≦α<I ……(数2)
ここで、kは移動開始からカウントした目盛のカウント数、αは目盛間隔I未満の距離成分である。
【0017】
すなわち、本実施形態において分析または観察対象となる異物を第1分析/観察装置から第2分析/観察装置の光軸近傍に移動させるには、試料移動前に目盛S(i)があった位置において、k本の目盛が通過することを、スケール観察用光学系を用いて確認すればよい。
【0018】
また本実施形態では、第1及び第2分析/観察装置の視野W1,W2の大きさは、ともにスケール観察用光学系の分解能より大きいものとする。すなわち、スケール観察用光学系の分解能をRとおくと、
R<R1 かつ R<R2 ……(数3)
である。そこで、上記の式(数2)を次のように書き換える。
【0019】
L=kI+jR+β、jは整数、−R/2≦β<R/2 ……(数4)
ここで、βはスケール観察用光学系の分解能R未満の距離成分である。
【0020】
これから、異物を第1及び第2分析/観察装置の視野W1,W2内に位置決めするためには、目盛S(i+k)が検出された位置からさらにjRの距離を移動することを、スケール観察用光学系を用いて確認すればよい。
【0021】
また、異物を第2分析/観察装置の測定位置にさらに高精度に位置決めするには、第2分析/観察装置で得られた像と第1分析/観察装置で得られた像とを画像処理装置等において比較し、これら2つの像に映っている異物位置のずれを求め、この求めたずれをフィードバックすることで試料台位置の位置決め動作を制御し、異物位置を一致させればよい。
【0022】
また、以上説明した操作、すなわちスケールの目盛を利用した試料台の移動距離のモニタリングや、移動前後の分析/観察装置からの像を利用した位置決めを自動化することにより、複数の分析/観察装置間で試料を搬送する際の、試料の位置決めを正確にかつ高速に行うことが可能となる。
【0023】
本発明の第2の実施形態を図2、図3を参照して説明する。
【0024】
本実施形態における分析・観察装置は、分析/観察装置として走査型電子顕微鏡(SEM)及び顕微レーザ質量分析計を備え、これら両装置間で試料を移動させて試料上の同一対象物を観察および分析するものである。
【0025】
本実施形態の分析・観察装置は、例えば図2に示すように、主要な構成として、試料を載せた試料台1を移動させるXYステージ202、試料台1上に設けられた目盛を観察するスケール観察用光学系カメラ203、スケール観察用光学系カメラ203の観測結果を利用して目盛位置を計測する目盛位置計測部204、対象物の顕微鏡観察を行う電子顕微鏡210、取得された電子顕微鏡像を記憶する画像記憶部211、記憶されている電子顕微鏡像から対象となる異物の位置を検出する異物位置検出部212、顕微レーザ質量分析計の分析位置を設定するために使用される顕微レーザ質量分析計用カメラ220、顕微レーザ質量分析計用カメラ220により取得された光学像を記憶する画像記憶部221、画像記憶部221に記憶された光学像から対象となる異物の位置を検出する異物位置検出部222、及び目盛位置計測部204、異物位置検出部212、222からの計測結果や検出結果を用いてXYステージ202の位置決めを行う制御コンピュータ201を備えている。
【0026】
本実施形態における具体的な装置構成例を図3に示す。図3において、1は試料台、S(1)、S(2)、‥‥‥S(N)は目盛、4は試料、11は顕微レーザ質量分析計用対物レンズ、11Lは顕微レーザ質量分析計のレーザ光及び観察光、11xはイオン引出穴及び電極、12は電子顕微鏡用対物レンズ、12eは電子線、22はスケール観察用対物レンズ、23は鏡、24は保持治具、25は結像レンズ、203はスケール観察用光学系カメラ、27は観察光、28は照明光源、29は半透明鏡である。
【0027】
また、本例において、図2のXYステージ202は、X方向移動用ステージ20X、Y方向移動用ステージ20Y、及び移動用ステージ20X、20Yが載置される基台21から構成される。本実施形態では、X方向移動用ステージ20XをY方向移動用ステージ20Yと試料台1との間に配置している。さらに、本実施形態では、このY方向移動用ステージ20Yには、保持治具24によってスケール観察用対物レンズ22及び鏡23が固定されている。また、スケール観察用光学系の結像レンズ25及びスケール観察用光学系カメラ203は、移動用ステージ20X,20Yを載せた基台21が配置される真空雰囲気の試料室の内部または外部に固定されている。
【0028】
上記図3の構成例によれば、試料4がY方向に移動するのと一緒にスケール観察用対物レンズ22も移動する。したがってスケール観察用対物レンズ22は常に目盛S(1)〜S(N)の上にあることになる。また、試料4がX方向に移動するときには、スケール観察用対物レンズ22は移動しない。
【0029】
したがって、本実施形態によれば、X方向の移動距離をスケール観察用光学系でモニタし、異物を必ず移動先の分析/観察装置の視野W1またはW2に入れるように位置決めすることが可能となる。
【0030】
さらに、本実施形態では、スケール観察用対物レンズ22から出て結像レンズ25に至る光はY方向に沿った平行光としている。したがってY方向移動用ステージ20Yによりスケール観察用対物レンズ22が移動しても、目盛S(1)〜S(N)は常にスケール観察用光学系カメラ203で観察可能である。
【0031】
このような配置にすることにより、スケール観察用光学系カメラ203は窓を介して試料を収容する真空容器の外部に置くことができ、一般に出回っている安価な大気圧での利用を想定したカメラが使用可能である。また真空容器内に電気部品や配線を置く必要がないため、真空度への影響も低くできる。
【0032】
以上説明したように、本実施形態によれば、各分析装置や観察装置間の試料受け渡し及び位置決めを、高い位置精度で高速に行うことができる。
【0033】
本発明の第3の実施形態を上記図1を参照して説明する。
【0034】
本実施形態の分析・観察装置では、例えば上記第1または第2の実施形態の試料台1に目盛S(1)〜S(N)と合わせて、試料台の移動する方向(本例ではX方向)に延びる直線Tを設けている。さらに、2つの分析/観察装置間で試料を移動させる間、直線TのY方向の位置変動を、例えばスケール観察用光学系のビデオカメラ等の光学的観察装置にてモニタする。
【0035】
本実施形態によれば、X軸方向移動用ステージ20XをX軸方向に移動するのに伴いY軸方向の位置がずれていく場合、このずれを検出し、該検出したずれ量をY軸方向移動用ステージ20Yの制御にフィードバックすることにより、ずれを補正し、ずれの影響も抑えることができる。
【0036】
本実施形態によれば、試料の移動方向と直交する方向でのずれを補正することができるため、試料受け渡しの位置精度をさらに高くすることができる。例えば、上記第2の実施形態において、顕微レーザ質量分析計と電子顕微鏡とが移動方向であるX軸方向からずれている場合などに、本実施形態によりその影響を防ぐことができる。
【0037】
本発明の第4の実施形態を図4を参照して説明する。
【0038】
本実施形態の分析・観察装置は、上記第2の実施形態の分析・観察装置において参照スケールを利用することで、試料の位置決め精度の向上を図ったものである。本実施形態の分析・観察装置の構成を示す図4において、23Aは半透明鏡、23Bは鏡、Uは参照スケールである。図中に示す他の構成は、上記第2の実施形態の構成と同じものであり、上記図3と共通の符号を用いている。
【0039】
本実施形態では、スケール観察用光学系において、上記第2の実施形態の鏡23に代えて半透明鏡23A及び鏡23Bを配置し、目盛S(1)〜S(N)と参照スケールUとをスケール観察用光学系カメラ203で同時観察するようにしたものである。参照スケールUは対物レンズ22、半透明鏡23A、鏡23Bとともに保持治具24に取り付けられている。
【0040】
例えば、Y方向移動用ステージ20Yを動かしたときに、ステージのガタツキ等のために保持治具24の向きが変ると、観察光27の向きが変り、ビデオカメラ26上の結像位置がずれる。したがってこのままでは目盛S(1)〜S(N)の観察位置精度が低下する。
【0041】
そこで本実施形態では、上記のようなY方向に対する保持冶具24の向きのずれによって起こる位置精度の低下を防止するために、保持治具24の向きが変った場合でも、目盛S(1)〜S(N)と一緒に参照スケールUもビデオカメラ26上で移動し、両者の相対位置関係は変化しないようにした。本実施形態では、保持冶具24の向きのずれの影響が相殺されるため、目盛S(1)〜S(N)の位置を正確に測定することができる。
【0042】
本実施形態によれば、移動用ステージのガタツキ等によって生じる保持冶具24のずれによる影響を抑えることができるため、より高精度の試料の位置合わせを行うことができる。
【0043】
本発明の第5の実施形態を図5、図6を参照して説明する。
【0044】
本実施形態では、本発明を適用した試料位置決めの手順について説明する。ここでは、分析・観察装置が上記図4に示した第4の実施形態の構成を備えているものとする。
【0045】
本実施形態の試料位置決めの手順では、図6のフローチャートに示すように、最初、電子顕微鏡によって得られたSEM像(画像G)を記憶し(ステップ601)、スケール観察用光学系中心から目盛までの距離Xsを求める(ステップ602)。図5(a)は電子顕微鏡で試料を観察している状態を示している。紙面に向かって左は電子顕微鏡の視野W1内に映った試料のSEM像、右はスケール観察用光学系の視野3に映ったスケールS(i)及び参照スケールUの像である。ここでは、試料の移動前にS(i)とUとが重なり合っている場合を考える。なお、図5(a)の左のSEM像には、レーザ質量分析装置で分析対象となり得る複数個の異物500が映っているものとする。
【0046】
次に、スケール観察用光学系のXsの位置を、k本の目盛が通過するまで、X方向移動用ステージ20Xを移動させる(ステップ603〜605)。図5(b)は、試料を顕微レーザ質量分析計側に移動したが、スケール観察用光学系による位置合わせを行う前の状態である。図中左は顕微レーザ質量分析計の視野W2内に映った試料像、右はスケール観察用光学系の視野3に映ったスケールS(i+k)及び参照スケールUの像である。本状態は図5(a)からk本のスケールが視野3内を通過したが、参照スケールUとは一致していない場合を想定している。
【0047】
次に、スケール観察用光学系中心から目盛までの距離が、Xs+jRとなるまでX方向移動用ステージ20Xをさらに駆動する(ステップ606、607)。図5(c)は、スケール観察用光学系による位置合わせを行った後の状態である。左右の像は図5(b)と同様である。
【0048】
次に、レーザ質量分析計に備えられている分析領域特定のための光学的観察装置による観察像が、上記ステップ601で取得されたSEM像(画像G)と一致しているかを調べる(ステップ608)。一致していない場合(ステップ608でNo)には、両像が一致するように、X及びY方向移動用ステージ20X、20Yを駆動し(ステップ609)、一致している場合には(ステップ608でYes)には、対象となる異物500をレーザ質量分析計で分析する(ステップ610)。
【0049】
本実施形態の図5(c)では、スケールS(i+k)と参照スケールUとが一致しているが、視野W2内の観察像は、図5(a)の視野W1内のSEM像とは一致していない状態を示している。
【0050】
両画像が一致していない場合には、例えば、図5(a)の視野W1内のSEM像と図5(c)の視野W2内の観察像とを画像処理装置に読み込み、視野W2内の観察像に映っている複数個の異物500aで構成されるパターンと、図5(a)の視野W1内のSEM像に映っていた異物500のパターンとを比較する。このように2つのパターンの比較処理を実施することにより、異物位置のずれを求め、これをX方向あるいはY方向移動用ステージ20X、20Yにフィードバックすることにより、ステージ位置を自動制御し、両者の異物位置を一致させることができる。図5(d)は上記位置決め制御操作を行った後の状態である。
【0051】
ところで一般に、スケールS(i)と参照スケールUとは上記のように重なっているとは限らないが、両者間の相対位置Xsを測定することにより、上記と同様の操作が可能である。
【0052】
本実施形態において、顕微レーザ質量分析計の試料観察用カメラは通常のTV撮影に用いられるもので良く、例えば、ピクセル数が横570×縦485、ピクセルサイズが□20μmのものを用いることができる。この1ピクセルを試料上の0.1μmに対応させるため、観察光学系の倍率を200倍とした。これにより、上記数3に記載したR2は、
R2=0.1μm×570=57μm ………(数5)
となる。
【0053】
また、スケール観察用光学系のカメラ26も顕微レーザ質量分析計のカメラと同じ物を用いる。図4のスケール観察用対物レンズ22と結像レンズ25の焦点距離をともに20mmとすることにより、20μmの分解能を得るようにした。この分解能Rと上記R2とは、上記数3を満たしている。また、R0は、
R0=20μm×570=11.4mm ………(数6)
となる。そこで目盛間隔を10mmとすることで、上記数1を満たすようにした。
【0054】
本実施形態において、上記図6のフローチャートに示すような一連の制御操作を自動化することにより、電子顕微鏡と顕微レーザ質量分析計との間の試料受け渡しを、高い位置精度でかつ観察分析処理の高速化、無人化を図ることができる。
【0055】
なお、本実施形態では、SEM像とレーザ質量分析計の観察像とに映った複数の異物からなるパターンを利用して2つの像のずれを補正したが、本発明において2つの像のずれを補正する処理はこれに限定されるものではなく、例えば個別の異物あるいは分析対象の形状を認識したり、あるいは、試料が半導体ウエハーの場合にはウエハーの配線パターンを認識することで、ずれを補正する構成としても良い。
【0056】
さらに、本実施形態では、走査型電子顕微鏡の像とレーザ質量分析計の光学観察像とを利用したが、本発明で利用することができる像の種類はこれらに限定されるものではなく、移動前と移動後における分析対象の位置が直接的あるいは間接的に確認することが可能なものであれば、他の種類の画像を使用しても良い。例えば、顕微赤外分光光度計、顕微ラマン分光光度計、2次イオン質量分析計、オージェ電子分光分析計、集束イオンビーム装置、X線マイクロアナライザ等の画像が挙げられる。
【0057】
【発明の効果】
本発明によれば、電子顕微鏡と顕微レーザ質量分析計等の真空容器中で分析や観察を行う手段を複数組み合わせた分析・観察装置において、各分析/観察手段間の試料受け渡し及び位置決めを高い位置精度で高速に行うことができる。
【0058】
さらに、本発明によれば、多数の分析対象を真空雰囲気中で分析・観察する場合でも、無人、自動化を図ることができ、分析・観察処理を短時間に実施することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施形態における試料台を説明するための説明図。
【図2】第2の実施形態の装置構成例を示すブロック図。
【図3】第2の実施形態の装置構成の要部を示す斜視図。
【図4】第4の実施形態の装置構成の要部を示す斜視図。
【図5】
図5(a):試料移動前の、分析/観察装置による像(左)とスケール観察用光学系による像(右)とを示す説明図。
図5(b):試料移動中の、分析/観察装置による像(左)とスケール観察用光学系による像(右)とを示す説明図。
図5(c):試料移動中の、分析/観察装置による像(左)とスケール観察用光学系による像(右)とを示す説明図。
図5(d):試料移動後の、分析/観察装置による像(左)とスケール観察用光学系による像(右)とを示す説明図。
【図6】第5の実施形態における試料の位置決め操作例を示すフローチャート。
【符号の説明】
1‥‥‥試料台
3‥‥‥スケール観察用光学系の視野
4‥‥‥試料
11‥‥‥顕微レーザ質量分析計用対物レンズ
12‥‥‥電子顕微鏡用対物レンズ
20X,20Y‥‥‥X,Y方向移動用ステージ
21‥‥‥基台
22‥‥‥スケール観察用対物レンズ
23‥‥‥鏡
23A‥‥‥半透明鏡
23B‥‥‥鏡
24‥‥‥保持治具
25‥‥‥結像レンズ
27‥‥‥観察光
28‥‥‥照明光源
29‥‥‥半透明鏡
203‥‥‥スケール観察用光学系カメラ
S(1)、S(2)、‥‥‥S(N)‥‥‥目盛
I‥‥‥目盛間隔
R0‥‥‥視野3の幅
W1、W2‥‥‥第1及び第2分析・観察装置の視野
R1,R2‥‥‥視野W1,W2の幅。
【発明の属する技術分野】
本発明は、対象物の分析や観察を行うための装置に係わり、特に、メモリ、ASICなどのLSI、磁気デイスク装置、液晶など半導体デバイスの歩留り向上のために必要な、微小異物、汚染部を対象とする電子顕微鏡や2次イオン質量分析計、顕微レーザ質量分析計などの分析装置や観察装置(以下では分析/観察手段と総称する)を複数備えた分析・観察装置において、複数の分析/観察装置間の試料搬送及びその位置決めを高精度で高速に行う手段に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体製品の集積度の向上にともない、サブミクロンの微小異物や数原子層の微量汚染物でも不良の原因となってきている。不良解析には、これらの異物、汚染物の大きさ、形状や組成、成分の分析を行う必要がある。微小異物の観察には従来から電子顕微鏡が用いられている。また、微小異物、微量汚染物の高感度分析手法としては、荷電粒子やレーザ光を試料上の微小個所に照射して発生させたイオンを分析する2次イオン質量分析計や顕微レーザ質量分析計が開発されている。
【0003】
ところで異物の由来を究明するためには、これら複数の分析/観察手段で得られたデータを組合わせた総合的判断が必要なことが多い。また、顕微レーザ質量分析計の定量性向上のためには、レーザ光の照射による試料表面の蒸発の状態を知ることが必要である。このためにも、顕微レーザ質量分析計と電子顕微鏡とを組み合わせて、高度な観察を行うことが必要となる。
【0004】
電子顕微鏡、2次イオン質量分析計、顕微レーザ質量分析計及びイオンビーム加工装置を組み合わせた例は特開平10−223168号公報に記載されている。この従来装置は、電子顕微鏡の電子線と顕微レーザ質量分析計のレーザ光とを同じ位置に照射する場合と、異なる位置に照射する場合について述べている。前者は電子顕微鏡と顕微レーザ質量分析計のレンズ系を同軸に配置するため、観察性能及び分析性能が制限される。そこで観察性能及び分析性能を最大限に発揮させるため、後者の構成を採用すると、試料を電子顕微鏡と顕微レーザ質量分析計との間で移動する必要があり、試料台の位置合わせ精度を高くする必要が生じる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来技術で例示されるように、同一試料に対して電子顕微鏡による観察と顕微レーザ質量分析計による分析とを連続して行う際、電子顕微鏡と顕微レーザ質量分析計との間で試料を搬送する手段が必要となる。一般的な装置の大きさからして、両者間の移動距離は数十cmであるが、上記従来技術で述べられているように、試料ステージの移動距離と位置精度とは両立しない。そこで位置合わせ精度を向上させるため、上記従来技術では粗動機構と微動機構とを組み合わせている。
【0006】
しかしながら、上記従来技術は試料位置を直接的に計測する手段を備えていない。また、真空室内で試料を搬送するため、試料台を外部から見て、移動距離を測定することも難しい。このため、位置決めの際、測定者が電子顕微鏡や顕微レーザ質量分析計の試料像を観察しながら、異物を捜すことが必要となる。特に、粗動ステージの誤差のため、異物が視野外にある場合には、これを捜すのに非常に手間がかかる。
【0007】
本発明は、複数の分析/観察手段を備える分析・観測装置において、複数の分析/観察手段間で試料を搬送する際、該試料上の分析または観察対象物が移動先の分析/観察手段の視野内に入るように位置決めすることが可能な分析・観察装置を提供することを目的とする。
【0008】
なお、本明細書において、分析/観察手段の視野とは当該手段自身の分析/観察視野、あるいは当該手段と連動して分析/観察領域を設定するために用いられる光学的観察手段で観察可能な2次元領域を指し、例えば、走査型電子顕微鏡の視野や、顕微レーザ質量分析計に備え付けられている分析位置特定用カメラの視野を指すものとする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明では、分析/観察手段を複数備える分析・観察装置において、これら複数の分析/観察手段間で試料を移動させる際に、ある1つの分析/観察手段が分析または観察を行った前記試料上の特定個所を、他のの分析/観察手段の視野内に位置決めする位置決め手段とを備える。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施態様においては、試料を載せて分析/観察手段間を移動させる移動用ステージに、移動先の分析/観察手段の視野より狭い間隔で目盛が切られているスケールを設ける。さらに、分析/観察手段間を試料が移動する際、通過して行く目盛を、移動する移動用ステージに対して固定されているスケール観察光学系で観察してカウントすることにより、試料の移動距離をモニタする。本発明では、このモニタ結果を利用して位置決めを行うことで、試料上の対象物が移動先の分析/観察手段の視野に入るようにしている。以下、本発明のより具体的な実施形態を図面を参照して説明する。
【0011】
本発明の第1の実施形態を図1を参照して説明する。
【0012】
図1において、1は試料台、S(1)、S(2)、‥‥‥S(N)は目盛、Iは目盛間隔、3はスケール観察用光学系の視野、R0は視野3の幅、W1、W2はそれぞれ第1及び第2分析/観察装置の視野、R1,R2はそれぞれ視野W1,W2の幅、4は試料である。実線及び破線はそれぞれ第1及び第2分析/観察装置で試料分析または観察を行うときの試料台位置である。
【0013】
また上記各番号、記号にアポストロフィを付けたものは、破線の試料台位置に対応している。Lは2つの分析/観察装置の光軸間の距離である。Xは2つの分析/観察装置の光軸を結ぶ直線の方向、Yはこれと垂直な方向である。以下では、最初に第1分析/観察装置で試料分析または観察を行い、その後、試料台を移動して、第1分析/観察装置で分析あるいは観察した試料上の特定個所を、第2分析/観察装置の視野内に位置決めする場合を例に挙げて説明する。
【0014】
本発明では、スケール観察用光学系の視野の大きさR0とスケールの目盛間隔Iとは、
R0>I ……(数1)
の関係とする。これにより、視野3内には常に少なくとも1つの目盛が見えている。第1分析/観察装置で試料上の対象物となる異物を分析や観察している時に、視野3に見えている目盛のうちもっとも左側のもの(あるいはもっとも右側のもの)をS(i)とする。
【0015】
この異物を第2分析/観察装置にて分析または観察するためには、試料台1を上記Lの距離移動させる必要がある。Lは目盛間隔Iと次式の関係で表される。
【0016】
L=kI+α、kは整数、0≦α<I ……(数2)
ここで、kは移動開始からカウントした目盛のカウント数、αは目盛間隔I未満の距離成分である。
【0017】
すなわち、本実施形態において分析または観察対象となる異物を第1分析/観察装置から第2分析/観察装置の光軸近傍に移動させるには、試料移動前に目盛S(i)があった位置において、k本の目盛が通過することを、スケール観察用光学系を用いて確認すればよい。
【0018】
また本実施形態では、第1及び第2分析/観察装置の視野W1,W2の大きさは、ともにスケール観察用光学系の分解能より大きいものとする。すなわち、スケール観察用光学系の分解能をRとおくと、
R<R1 かつ R<R2 ……(数3)
である。そこで、上記の式(数2)を次のように書き換える。
【0019】
L=kI+jR+β、jは整数、−R/2≦β<R/2 ……(数4)
ここで、βはスケール観察用光学系の分解能R未満の距離成分である。
【0020】
これから、異物を第1及び第2分析/観察装置の視野W1,W2内に位置決めするためには、目盛S(i+k)が検出された位置からさらにjRの距離を移動することを、スケール観察用光学系を用いて確認すればよい。
【0021】
また、異物を第2分析/観察装置の測定位置にさらに高精度に位置決めするには、第2分析/観察装置で得られた像と第1分析/観察装置で得られた像とを画像処理装置等において比較し、これら2つの像に映っている異物位置のずれを求め、この求めたずれをフィードバックすることで試料台位置の位置決め動作を制御し、異物位置を一致させればよい。
【0022】
また、以上説明した操作、すなわちスケールの目盛を利用した試料台の移動距離のモニタリングや、移動前後の分析/観察装置からの像を利用した位置決めを自動化することにより、複数の分析/観察装置間で試料を搬送する際の、試料の位置決めを正確にかつ高速に行うことが可能となる。
【0023】
本発明の第2の実施形態を図2、図3を参照して説明する。
【0024】
本実施形態における分析・観察装置は、分析/観察装置として走査型電子顕微鏡(SEM)及び顕微レーザ質量分析計を備え、これら両装置間で試料を移動させて試料上の同一対象物を観察および分析するものである。
【0025】
本実施形態の分析・観察装置は、例えば図2に示すように、主要な構成として、試料を載せた試料台1を移動させるXYステージ202、試料台1上に設けられた目盛を観察するスケール観察用光学系カメラ203、スケール観察用光学系カメラ203の観測結果を利用して目盛位置を計測する目盛位置計測部204、対象物の顕微鏡観察を行う電子顕微鏡210、取得された電子顕微鏡像を記憶する画像記憶部211、記憶されている電子顕微鏡像から対象となる異物の位置を検出する異物位置検出部212、顕微レーザ質量分析計の分析位置を設定するために使用される顕微レーザ質量分析計用カメラ220、顕微レーザ質量分析計用カメラ220により取得された光学像を記憶する画像記憶部221、画像記憶部221に記憶された光学像から対象となる異物の位置を検出する異物位置検出部222、及び目盛位置計測部204、異物位置検出部212、222からの計測結果や検出結果を用いてXYステージ202の位置決めを行う制御コンピュータ201を備えている。
【0026】
本実施形態における具体的な装置構成例を図3に示す。図3において、1は試料台、S(1)、S(2)、‥‥‥S(N)は目盛、4は試料、11は顕微レーザ質量分析計用対物レンズ、11Lは顕微レーザ質量分析計のレーザ光及び観察光、11xはイオン引出穴及び電極、12は電子顕微鏡用対物レンズ、12eは電子線、22はスケール観察用対物レンズ、23は鏡、24は保持治具、25は結像レンズ、203はスケール観察用光学系カメラ、27は観察光、28は照明光源、29は半透明鏡である。
【0027】
また、本例において、図2のXYステージ202は、X方向移動用ステージ20X、Y方向移動用ステージ20Y、及び移動用ステージ20X、20Yが載置される基台21から構成される。本実施形態では、X方向移動用ステージ20XをY方向移動用ステージ20Yと試料台1との間に配置している。さらに、本実施形態では、このY方向移動用ステージ20Yには、保持治具24によってスケール観察用対物レンズ22及び鏡23が固定されている。また、スケール観察用光学系の結像レンズ25及びスケール観察用光学系カメラ203は、移動用ステージ20X,20Yを載せた基台21が配置される真空雰囲気の試料室の内部または外部に固定されている。
【0028】
上記図3の構成例によれば、試料4がY方向に移動するのと一緒にスケール観察用対物レンズ22も移動する。したがってスケール観察用対物レンズ22は常に目盛S(1)〜S(N)の上にあることになる。また、試料4がX方向に移動するときには、スケール観察用対物レンズ22は移動しない。
【0029】
したがって、本実施形態によれば、X方向の移動距離をスケール観察用光学系でモニタし、異物を必ず移動先の分析/観察装置の視野W1またはW2に入れるように位置決めすることが可能となる。
【0030】
さらに、本実施形態では、スケール観察用対物レンズ22から出て結像レンズ25に至る光はY方向に沿った平行光としている。したがってY方向移動用ステージ20Yによりスケール観察用対物レンズ22が移動しても、目盛S(1)〜S(N)は常にスケール観察用光学系カメラ203で観察可能である。
【0031】
このような配置にすることにより、スケール観察用光学系カメラ203は窓を介して試料を収容する真空容器の外部に置くことができ、一般に出回っている安価な大気圧での利用を想定したカメラが使用可能である。また真空容器内に電気部品や配線を置く必要がないため、真空度への影響も低くできる。
【0032】
以上説明したように、本実施形態によれば、各分析装置や観察装置間の試料受け渡し及び位置決めを、高い位置精度で高速に行うことができる。
【0033】
本発明の第3の実施形態を上記図1を参照して説明する。
【0034】
本実施形態の分析・観察装置では、例えば上記第1または第2の実施形態の試料台1に目盛S(1)〜S(N)と合わせて、試料台の移動する方向(本例ではX方向)に延びる直線Tを設けている。さらに、2つの分析/観察装置間で試料を移動させる間、直線TのY方向の位置変動を、例えばスケール観察用光学系のビデオカメラ等の光学的観察装置にてモニタする。
【0035】
本実施形態によれば、X軸方向移動用ステージ20XをX軸方向に移動するのに伴いY軸方向の位置がずれていく場合、このずれを検出し、該検出したずれ量をY軸方向移動用ステージ20Yの制御にフィードバックすることにより、ずれを補正し、ずれの影響も抑えることができる。
【0036】
本実施形態によれば、試料の移動方向と直交する方向でのずれを補正することができるため、試料受け渡しの位置精度をさらに高くすることができる。例えば、上記第2の実施形態において、顕微レーザ質量分析計と電子顕微鏡とが移動方向であるX軸方向からずれている場合などに、本実施形態によりその影響を防ぐことができる。
【0037】
本発明の第4の実施形態を図4を参照して説明する。
【0038】
本実施形態の分析・観察装置は、上記第2の実施形態の分析・観察装置において参照スケールを利用することで、試料の位置決め精度の向上を図ったものである。本実施形態の分析・観察装置の構成を示す図4において、23Aは半透明鏡、23Bは鏡、Uは参照スケールである。図中に示す他の構成は、上記第2の実施形態の構成と同じものであり、上記図3と共通の符号を用いている。
【0039】
本実施形態では、スケール観察用光学系において、上記第2の実施形態の鏡23に代えて半透明鏡23A及び鏡23Bを配置し、目盛S(1)〜S(N)と参照スケールUとをスケール観察用光学系カメラ203で同時観察するようにしたものである。参照スケールUは対物レンズ22、半透明鏡23A、鏡23Bとともに保持治具24に取り付けられている。
【0040】
例えば、Y方向移動用ステージ20Yを動かしたときに、ステージのガタツキ等のために保持治具24の向きが変ると、観察光27の向きが変り、ビデオカメラ26上の結像位置がずれる。したがってこのままでは目盛S(1)〜S(N)の観察位置精度が低下する。
【0041】
そこで本実施形態では、上記のようなY方向に対する保持冶具24の向きのずれによって起こる位置精度の低下を防止するために、保持治具24の向きが変った場合でも、目盛S(1)〜S(N)と一緒に参照スケールUもビデオカメラ26上で移動し、両者の相対位置関係は変化しないようにした。本実施形態では、保持冶具24の向きのずれの影響が相殺されるため、目盛S(1)〜S(N)の位置を正確に測定することができる。
【0042】
本実施形態によれば、移動用ステージのガタツキ等によって生じる保持冶具24のずれによる影響を抑えることができるため、より高精度の試料の位置合わせを行うことができる。
【0043】
本発明の第5の実施形態を図5、図6を参照して説明する。
【0044】
本実施形態では、本発明を適用した試料位置決めの手順について説明する。ここでは、分析・観察装置が上記図4に示した第4の実施形態の構成を備えているものとする。
【0045】
本実施形態の試料位置決めの手順では、図6のフローチャートに示すように、最初、電子顕微鏡によって得られたSEM像(画像G)を記憶し(ステップ601)、スケール観察用光学系中心から目盛までの距離Xsを求める(ステップ602)。図5(a)は電子顕微鏡で試料を観察している状態を示している。紙面に向かって左は電子顕微鏡の視野W1内に映った試料のSEM像、右はスケール観察用光学系の視野3に映ったスケールS(i)及び参照スケールUの像である。ここでは、試料の移動前にS(i)とUとが重なり合っている場合を考える。なお、図5(a)の左のSEM像には、レーザ質量分析装置で分析対象となり得る複数個の異物500が映っているものとする。
【0046】
次に、スケール観察用光学系のXsの位置を、k本の目盛が通過するまで、X方向移動用ステージ20Xを移動させる(ステップ603〜605)。図5(b)は、試料を顕微レーザ質量分析計側に移動したが、スケール観察用光学系による位置合わせを行う前の状態である。図中左は顕微レーザ質量分析計の視野W2内に映った試料像、右はスケール観察用光学系の視野3に映ったスケールS(i+k)及び参照スケールUの像である。本状態は図5(a)からk本のスケールが視野3内を通過したが、参照スケールUとは一致していない場合を想定している。
【0047】
次に、スケール観察用光学系中心から目盛までの距離が、Xs+jRとなるまでX方向移動用ステージ20Xをさらに駆動する(ステップ606、607)。図5(c)は、スケール観察用光学系による位置合わせを行った後の状態である。左右の像は図5(b)と同様である。
【0048】
次に、レーザ質量分析計に備えられている分析領域特定のための光学的観察装置による観察像が、上記ステップ601で取得されたSEM像(画像G)と一致しているかを調べる(ステップ608)。一致していない場合(ステップ608でNo)には、両像が一致するように、X及びY方向移動用ステージ20X、20Yを駆動し(ステップ609)、一致している場合には(ステップ608でYes)には、対象となる異物500をレーザ質量分析計で分析する(ステップ610)。
【0049】
本実施形態の図5(c)では、スケールS(i+k)と参照スケールUとが一致しているが、視野W2内の観察像は、図5(a)の視野W1内のSEM像とは一致していない状態を示している。
【0050】
両画像が一致していない場合には、例えば、図5(a)の視野W1内のSEM像と図5(c)の視野W2内の観察像とを画像処理装置に読み込み、視野W2内の観察像に映っている複数個の異物500aで構成されるパターンと、図5(a)の視野W1内のSEM像に映っていた異物500のパターンとを比較する。このように2つのパターンの比較処理を実施することにより、異物位置のずれを求め、これをX方向あるいはY方向移動用ステージ20X、20Yにフィードバックすることにより、ステージ位置を自動制御し、両者の異物位置を一致させることができる。図5(d)は上記位置決め制御操作を行った後の状態である。
【0051】
ところで一般に、スケールS(i)と参照スケールUとは上記のように重なっているとは限らないが、両者間の相対位置Xsを測定することにより、上記と同様の操作が可能である。
【0052】
本実施形態において、顕微レーザ質量分析計の試料観察用カメラは通常のTV撮影に用いられるもので良く、例えば、ピクセル数が横570×縦485、ピクセルサイズが□20μmのものを用いることができる。この1ピクセルを試料上の0.1μmに対応させるため、観察光学系の倍率を200倍とした。これにより、上記数3に記載したR2は、
R2=0.1μm×570=57μm ………(数5)
となる。
【0053】
また、スケール観察用光学系のカメラ26も顕微レーザ質量分析計のカメラと同じ物を用いる。図4のスケール観察用対物レンズ22と結像レンズ25の焦点距離をともに20mmとすることにより、20μmの分解能を得るようにした。この分解能Rと上記R2とは、上記数3を満たしている。また、R0は、
R0=20μm×570=11.4mm ………(数6)
となる。そこで目盛間隔を10mmとすることで、上記数1を満たすようにした。
【0054】
本実施形態において、上記図6のフローチャートに示すような一連の制御操作を自動化することにより、電子顕微鏡と顕微レーザ質量分析計との間の試料受け渡しを、高い位置精度でかつ観察分析処理の高速化、無人化を図ることができる。
【0055】
なお、本実施形態では、SEM像とレーザ質量分析計の観察像とに映った複数の異物からなるパターンを利用して2つの像のずれを補正したが、本発明において2つの像のずれを補正する処理はこれに限定されるものではなく、例えば個別の異物あるいは分析対象の形状を認識したり、あるいは、試料が半導体ウエハーの場合にはウエハーの配線パターンを認識することで、ずれを補正する構成としても良い。
【0056】
さらに、本実施形態では、走査型電子顕微鏡の像とレーザ質量分析計の光学観察像とを利用したが、本発明で利用することができる像の種類はこれらに限定されるものではなく、移動前と移動後における分析対象の位置が直接的あるいは間接的に確認することが可能なものであれば、他の種類の画像を使用しても良い。例えば、顕微赤外分光光度計、顕微ラマン分光光度計、2次イオン質量分析計、オージェ電子分光分析計、集束イオンビーム装置、X線マイクロアナライザ等の画像が挙げられる。
【0057】
【発明の効果】
本発明によれば、電子顕微鏡と顕微レーザ質量分析計等の真空容器中で分析や観察を行う手段を複数組み合わせた分析・観察装置において、各分析/観察手段間の試料受け渡し及び位置決めを高い位置精度で高速に行うことができる。
【0058】
さらに、本発明によれば、多数の分析対象を真空雰囲気中で分析・観察する場合でも、無人、自動化を図ることができ、分析・観察処理を短時間に実施することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施形態における試料台を説明するための説明図。
【図2】第2の実施形態の装置構成例を示すブロック図。
【図3】第2の実施形態の装置構成の要部を示す斜視図。
【図4】第4の実施形態の装置構成の要部を示す斜視図。
【図5】
図5(a):試料移動前の、分析/観察装置による像(左)とスケール観察用光学系による像(右)とを示す説明図。
図5(b):試料移動中の、分析/観察装置による像(左)とスケール観察用光学系による像(右)とを示す説明図。
図5(c):試料移動中の、分析/観察装置による像(左)とスケール観察用光学系による像(右)とを示す説明図。
図5(d):試料移動後の、分析/観察装置による像(左)とスケール観察用光学系による像(右)とを示す説明図。
【図6】第5の実施形態における試料の位置決め操作例を示すフローチャート。
【符号の説明】
1‥‥‥試料台
3‥‥‥スケール観察用光学系の視野
4‥‥‥試料
11‥‥‥顕微レーザ質量分析計用対物レンズ
12‥‥‥電子顕微鏡用対物レンズ
20X,20Y‥‥‥X,Y方向移動用ステージ
21‥‥‥基台
22‥‥‥スケール観察用対物レンズ
23‥‥‥鏡
23A‥‥‥半透明鏡
23B‥‥‥鏡
24‥‥‥保持治具
25‥‥‥結像レンズ
27‥‥‥観察光
28‥‥‥照明光源
29‥‥‥半透明鏡
203‥‥‥スケール観察用光学系カメラ
S(1)、S(2)、‥‥‥S(N)‥‥‥目盛
I‥‥‥目盛間隔
R0‥‥‥視野3の幅
W1、W2‥‥‥第1及び第2分析・観察装置の視野
R1,R2‥‥‥視野W1,W2の幅。
Claims (11)
- 試料の分析または観察を行う分析/観察手段を複数備え、該試料を該複数の分析/観察手段で分析または観察を行う分析・観察装置において、
前記複数の分析/観察手段間で試料を移動させる搬送手段と、
前記搬送手段の試料搬送に際して、第1の分析/観察手段が分析または観察を行った前記試料上の特定個所を、第2の分析/観察手段の視野内に位置決めする位置決め手段とを備え、
前記搬送手段は、前記試料を保持して予め定めた方向(以下ではX軸方向と称す)に移動するX軸方向移動用ステージと、該X軸方向移動用ステージを移動可能に支持するステージ支持部とを備え、
前記X軸方向移動用ステージは、前記X軸方向に沿ってある一定間隔の目盛が形成されているスケールを備え、
前記位置決め手段は、前記X軸方向移動用ステージのスケールを観察するための、前記ステージ支持部側に固定されたスケール観察光学系を備え、該スケール観察光学系による観察結果を利用して前記搬送手段の位置決め制御を実施するものであること
を特徴とする分析・観察装置。 - 請求項1に記載の分析・観察装置において、
前記スケール観察光学系の視野は前記スケールの目盛間隔より大きく、かつ試料搬送先の前記第2の分析/観察手段の視野は前記スケール観察光学系の分解能より大きいこと
を特徴とする分析・観察装置。 - 請求項2に記載の分析・観察装置において、
前記スケール観察光学系は、前記スケールに向かい合って設置された対物レンズ部と、該対物レンズ部からの光を受けて該スケールの像を結像させる結像部と、該結像されたスケールの像を撮像する撮像部とを備え、
前記対物レンズ部は、前記ステージ支持部側に固定されるよう設置され、
前記結像部は、当該分析・観察装置の筐体容器側に固定されるよう設置されていること
を特徴とする分析・観察装置。 - 請求項3に記載の分析・観察装置において、
前記第1及び第2の分析/観察手段は前記X軸方向に沿って並列配置されているものであり、
前記ステージ支持部は、
前記X軸方向移動用ステージを支持しつつ、該X軸方向と垂直なY軸方向に前記試料を載せた前記X軸方向移動用ステージを移動させるY軸方向移動用ステージと、
前記Y軸方向移動用ステージを前記Y軸方向に移動可能であるように、当該分析・観察装置の筐体容器に固定する基台とを備え、
前記対物レンズ部は、前記試料と共に前記Y軸方向に移動可能であるように、前記Y軸方向移動用ステージ側に固定して設置され、
前記対物レンズ部から前記結像部に至る光は、前記Y軸方向に平行であること
を特徴とする分析・観察装置。 - 請求項4に記載の分析・観察装置において、
前記Y軸方向移動用ステージ側に固定されるよう配置された参照スケールと、
前記参照スケールの像と前記X軸方向移動用ステージに形成されたスケールの像との合成像が前記撮像部で得られるように、前記参照スケールの像を導く光路を形成する光学系とをさらに有すること
を特徴とする分析・観察装置。 - 請求項1〜5のいずれかに記載の分析・観察装置において、
前記位置決め手段は、
前記第1の分析/観察手段により前記試料の移動前に得られた画像、及び前記試料を移動した後に前記第2の分析/観察手段により得られた画像をそれぞれ記憶する記憶手段と、
前記記憶した2つの画像を比較し、両画像に映る前記試料の位置ずれを検出し、該検出結果を利用して互いの画像に映る試料位置を一致させるように、前記搬送手段の位置決め動作を制御する制御手段とをさらに備えること
を特徴とする分析・観察装置。 - 請求項1〜6のいずれかに記載の分析・観察装置において、
前記複数の分析/観察手段は、走査形電子顕微鏡及びレーザ質量分析計であることを特徴とする分析・観察装置。 - 請求項1〜7記載の分析・観察装置は、試料を真空室内で分析または観察するものであることを特徴とする分析・観察装置。
- 請求項1〜7記載の分析・観察装置において、
前記複数の分析/観察手段は、可視光、赤外光、X線、電子及びイオンのうちいずれかを利用するものであることを特徴とする分析・観察装置。 - 複数の分析/観察手段を備える分析・観察装置において、分析または観察の対象となる試料を第1の分析/観察手段から第2の分析/観察手段へ移動させる際の位置決め制御方法であって、
前記試料を保持して移動するステージに、移動方向に沿ってある一定間隔で目盛が形成されているスケールを設け、
予め定めた固定個所を通過していく前記ステージに設けられている前記スケールの目盛を検出し、
前記検出結果を利用して、前記第1の分析/観察手段が分析または観察を行った前記試料上の特定個所を、前記第2の分析/観察手段の視野内に位置決めすること
を特徴とする位置決め制御方法。 - 試料を移動させる搬送手段と、該搬送手段の位置決めを行う位置決め手段とを備える試料移動装置において、
前記搬送手段は、前記試料を保持しつつ予め定めた方向へ移動するステージと、該ステージを移動可能に支持するステージ支持部とを備え、
前記ステージは、移動方向に沿ってある一定間隔の目盛が形成されているスケールを備え、
前記位置決め手段は、前記ステージ支持部側に固定された前記スケールを観察するためのスケール観察光学系を備え、該スケール観察光学系による観察結果を利用して前記搬送手段の位置決め制御を実施するものであること
を特徴とする試料移動装置。
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