JP4998473B2 - 質量分析装置 - Google Patents
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Description
a)マトリックス付着前のサンプルが載せられたサンプルプレートが装置本体に装着された状態で、該プレート上のサンプルの2次元画像を取得して保持する画像取得手段と、
b)該画像取得手段により保持された2次元画像を表示手段に表示した表示画面上でオペレータが所望の位置を指定するための指定手段と、
c)マトリックス付着後のサンプルが載せられたサンプルプレートが装置本体に装着された状態で、前記指定手段により指定されたマトリックス付着前のサンプル上の位置に対応したマトリックス付着後のサンプル上の位置に対してレーザ光を照射して該位置についての質量分析を実行する分析制御手段と、
を備えることを特徴としている。
a)マトリックス付着前のサンプルが載せられたサンプルプレートが装置本体に装着された状態で、該プレート上のサンプルの2次元画像を取得して保持する画像取得手段と、
b)該画像取得手段により保持された2次元画像を表示手段に表示した表示画面上でオペレータが所望の1次元的な又は2次元的な領域を指定するための指定手段と、
c)マトリックス付着後のサンプルが載せられたサンプルプレートが装置本体に装着された状態で、前記指定手段により指定されたマトリックス付着前のサンプル上の領域に対応したマトリックス付着後のサンプル上の領域に対して照射位置を走査しながらレーザ光を照射して該領域の各微小領域についての質量分析を実行する分析制御手段と、
を備えることを特徴としている。
2…ステージ
3…サンプルプレート
4…サンプル
5…照射用窓
6…観察用窓
7…真空チャンバ
8…イオン輸送光学系
9…質量分析器
10…検出器
11…レーザ照射部
12…レーザ光
13…レーザ集光光学系
14…CCDカメラ
15…観察用光学系
16…データ処理部
17…ステージ駆動部
20、30、40…制御部
21、31、41…分析位置/領域設定部
22、33、43…分析位置/領域決定部
23…画像データ記憶部
24…表示部
25…操作部
32、42…位置ずれ補正部
34…位置ずれ認識処理部
35…位置ずれ算出部
44…画像解析処理部
50…プレートホルダ
51…本体部
511…凹部
512…開口
513…光通過窓
52…蓋部
521…開口窓
53…ネジ
M1、M2…マーキング
以下、本発明に係る質量分析装置の一実施例(第1実施例)であるMALDI顕微質量分析装置について図1〜図3を参照しつつ説明する。図1は本実施例によるMALDI顕微質量分析装置の全体構成図である。
次に本発明に係る質量分析装置の他の実施例(第2実施例)であるMALDI顕微質量分析装置について図4〜図7を参照しつつ説明する。図4はこの第2実施例によるMALDI顕微質量分析装置の全体構成図である。図1に示した第1実施例の構成と同じ構成要素には同一符号を付して説明を略す。
次に本発明に係る質量分析装置の他の実施例(第3実施例)であるMALDI顕微質量分析装置について図8を参照しつつ説明する。図8はこの第3実施例によるMALDI顕微質量分析装置の全体構成図である。図1に示した第1実施例、図4に示した第2実施例の構成と同じ構成要素には同一符号を付して説明を略す。
次に本発明に係る質量分析装置の他の実施例(第4実施例)であるMALDI顕微質量分析装置について図9を参照しつつ説明する。この第4実施例の顕微質量分析装置の構成は基本的に第2実施例又は第3実施例と同じである。
次に本発明に係る質量分析装置の他の実施例(第5実施例)であるMALDI顕微質量分析装置について図11を参照しつつ説明する。この第5実施例は第4実施例を発展させたものであり、サンプルプレート3自体に位置ずれ検知用のマーキングを設ける代わりに、サンプルプレート3を固定保持するプレートホルダにマーキングを設けている。
Claims (7)
- サンプルを載せるためのサンプルプレートが装置本体に着脱自在であり、該プレートを装置本体から取り外した状態で該プレート上に載せたサンプル上にマトリックスを付着させた後に該プレートを装置本体に装着し、マトリックスが付着されたサンプルにレーザ光を照射してイオン化を行うマトリックス支援レーザ脱離イオン化法によるイオン源を有する質量分析装置において、
a)マトリックス付着前のサンプルが載せられたサンプルプレートが装置本体に装着された状態で、該プレート上のサンプルの2次元画像を取得して保持する画像取得手段と、
b)該画像取得手段により保持された2次元画像を表示手段に表示した表示画面上でオペレータが所望の位置を指定するための指定手段と、
c)マトリックス付着後のサンプルが載せられたサンプルプレートが装置本体に装着された状態で、前記指定手段により指定されたマトリックス付着前のサンプル上の位置に対応したマトリックス付着後のサンプル上の位置に対してレーザ光を照射して該位置についての質量分析を実行する分析制御手段と、
を備えることを特徴とする質量分析装置。 - サンプルを載せるためのサンプルプレートが装置本体に着脱自在であり、該プレートを装置本体から取り外した状態で該プレート上に載せたサンプル上にマトリックスを付着させた後に該プレートを装置本体に装着し、マトリックスが付着されたサンプルにレーザ光を照射してイオン化を行うマトリックス支援レーザ脱離イオン化法によるイオン源を有する質量分析装置において、
a)マトリックス付着前のサンプルが載せられたサンプルプレートが装置本体に装着された状態で、該プレート上のサンプルの2次元画像を取得して保持する画像取得手段と、
b)該画像取得手段により保持された2次元画像を表示手段に表示した表示画面上でオペレータが所望の1次元的な又は2次元的な領域を指定するための指定手段と、
c)マトリックス付着後のサンプルが載せられたサンプルプレートが装置本体に装着された状態で、前記指定手段により指定されたマトリックス付着前のサンプル上の領域に対応したマトリックス付着後のサンプル上の領域に対して照射位置を走査しながらレーザ光を照射して該領域の各微小領域についての質量分析を実行する分析制御手段と、
を備えることを特徴とする質量分析装置。 - 装置本体に対するサンプルプレートの脱着の前後における該サンプルプレート又は該プレート上のサンプルの位置ずれの方向及び量を把握する位置ずれ把握手段と、
該位置ずれ把握手段により把握された位置ずれの方向及び量に応じてレーザ光の照射位置を修正するように該レーザ光とサンプルとの相対位置を変更する照射位置調整手段と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の質量分析装置。 - 前記位置ずれ把握手段は、マトリックス付着後のサンプルが載せられたサンプルプレートが装置本体に装着された状態で取得された該プレート上のサンプルの2次元画像と、前記画像取得手段により保持されているマトリックス付着前のサンプルの2次元画像とを比較可能に表示し、両2次元画像上での1乃至複数の同一個所についてのオペレータの指示に基づいて位置ずれの方向及び量を把握するものであることを特徴とする請求項3に記載の質量分析装置。
- 前記位置ずれ把握手段は、マトリックス付着後のサンプルが載せられたサンプルプレートが装置本体に装着された状態で取得された該プレート上のサンプルの2次元画像を取得する比較画像取得手段と、該比較画像取得手段により得られた2次元画像と前記画像取得手段により保持されているマトリックス付着前のサンプルの2次元画像とを画像解析することにより両画像の位置ずれの方向及び量を検出するずれ検出手段と、を含むことを特徴とする請求項3に記載の質量分析装置。
- 前記サンプルプレート上に位置識別用の標識を設け、前記位置ずれ把握手段は該標識を利用して位置ずれの方向及び量を把握することを特徴とする請求項3〜5のいずれかに記載の質量分析装置。
- 前記サンプルプレートを保持するホルダを装置本体に装着する構成とし、該ホルダに位置識別用の標識を設け、前記位置ずれ把握手段は該標識を利用して位置ずれの方向及び量を把握することを特徴とする請求項3〜5のいずれかに記載の質量分析装置。
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