JP5359924B2 - 質量分析装置 - Google Patents
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Description
a)試料プレートが装置本体に装着された状態で、前記レーザ光照射部より該試料プレート上の所定位置にイオン化時よりも高いエネルギのレーザ光を照射することにより照射痕を形成する照射痕形成手段と、
b)マトリクス付着前の試料が保持され且つ前記照射痕が形成されている試料プレートが装置本体に装着された状態で、該プレート上の前記照射痕を含む顕微画像を取得して参照画像として保存する参照画像取得手段と、
c)マトリクス付着後の前記試料が保持された前記試料プレートが装置本体に再び装着された状態で、その時点で取得される該プレート上の照射痕を含む顕微画像と前記参照画像とを用い、照射痕の形状を認識して該照射痕の形状に基づいて試料プレートの取り外し・再装着前後の試料プレートの同一性を判断するとともに、照射痕の位置の相違から、試料プレート再装着時の位置ずれの大きさ及び方向を算出する位置ずれ検出手段と、
d)前記参照画像の取得と並行して取得された試料顕微画像に基づいて指定された試料上の分析領域に対する質量分析を実行する際に、前記位置ずれ検出手段により算出された位置ずれを補正するべく、前記レーザ光照射部からのレーザ光と試料との相対位置を変更する位置ずれ修正手段と、
を備えることを特徴としている。
以下、本発明に係る質量分析装置の一実施例(第1実施例)であるイメージング質量分析装置について、図1〜図4を参照しつつ説明する。図1は本実施例によるイメージング質量分析装置の要部の構成図である。
上述したように照射痕の形状は試料プレートに固有のものであるため、この照射痕を利用して試料プレートを特定(識別)するとともに試料プレートを管理することができる。第2実施例に係るイメージング質量分析装置はこうした機能を付加したものである。図5はこの第2実施例のイメージング質量分析装置の要部の構成図であり、第1実施例の装置と同一の構成要素には同一符号を付してある。
上記第2実施例の構成では、試料プレート毎の詳細な情報は装置(上記例ではプレート対応データ保存・管理部36)内に保存されるため、その情報量には実質的に制約がない。その反面、この情報が保持されている装置でしか表示等を行うことができないという制約がある。そこで、1つの照射痕を1個のピットとし、複数のピットの配列や数自体などに情報を持たせて試料プレート3上に複数の照射痕を形成するようにしたのが第3実施例である。図6はこの第3実施例によるイメージング質量分析装置の要部の構成図であり、第1及び第2実施例の装置と同一の構成要素には同一符号を付してある。
次に、本発明には含まれないものの、本発明に関連する参考例によるイメージング質量分析装置について説明する。まず、試料プレートが試料ステージ上に再び載置されたときの位置ずれを算出する手法が第1実施例とは相違する、第1参考例によるイメージング質量分析装置について説明する。図7は第1参考例によるイメージング質量分析装置の要部の構成図である。第1実施例では、レーザ光を試料プレートに照射することにより形成される照射痕を位置ずれ検出のための標識として利用していたが、この第1参考例では試料プレートの製造の過程でその表面に形成される研磨傷の模様を位置ずれ検出のための標識として利用する。
図8(a)を見れば分かるように、試料プレートのコーナー部のエッジにはバリ(突起)が生じており、その形状は特有である。そこで、試料プレート表面の研磨傷の模様の代わりに、試料プレートのコーナー部の微細形状を位置ずれ検出のための標識に利用することができる。即ち、図7に示した構成において、試料プレート3のコーナー部付近の顕微観察画像を位置合わせ基準画像保存部39に保存しておき、マトリクス付着後の試料プレートが試料ステージ2上に載置されると、画像比較解析部33はその時点で撮影された試料プレート3のコーナー部付近の顕微観察画像と位置合わせ基準画像保存部39に保存されている顕微観察画像とを比較し、同一部位であるとみなせる部位の位置の相違から位置ずれ量を計算する。
2…試料ステージ
3…試料プレート
4…試料
5…照射用窓
6…観察用窓
7…真空チャンバ
8…イオン輸送光学系
9…質量分析器
10…イオン検出器
11…レーザ照射部
13…レーザ集光光学系
14…CCDカメラ
15…観察用光学系
16…データ処理部
17…ステージ駆動部
20…制御/処理部
21…分析制御部
22…照射痕形成制御部
23…分析位置決定部
24…分析位置補正部
25…分析位置指定部
31…試料画像保存部
32…照射痕画像保存部
33…画像比較解析部
34…位置ずれ記憶部
40…操作部
41…表示部
50…観察視野
51…中心
Claims (3)
- 試料プレートが装置本体に着脱自在であり、該プレートを装置本体から取り外した状態で該プレートに保持させた試料にマトリクスを付着させたあと該プレートを装置本体に装着し、マトリクスが付着した試料にレーザ光照射部よりレーザ光を照射してイオン化を行うマトリクス支援レーザ脱離イオン化法によるイオン源を有する質量分析装置において、
a)試料プレートが装置本体に装着された状態で、前記レーザ光照射部より該試料プレート上の所定位置にイオン化時よりも高いエネルギのレーザ光を照射することにより照射痕を形成する照射痕形成手段と、
b)マトリクス付着前の試料が保持され且つ前記照射痕が形成されている試料プレートが装置本体に装着された状態で、該プレート上の前記照射痕を含む顕微画像を取得して参照画像として保存する参照画像取得手段と、
c)マトリクス付着後の前記試料が保持された前記試料プレートが装置本体に再び装着された状態で、その時点で取得される該プレート上の照射痕を含む顕微画像と前記参照画像とを用い、照射痕の形状を認識して該照射痕の形状に基づいて試料プレートの取り外し・再装着前後の試料プレートの同一性を判断するとともに、照射痕の位置の相違から、試料プレート再装着時の位置ずれの大きさ及び方向を算出する位置ずれ検出手段と、
d)前記参照画像の取得と並行して取得された試料顕微画像に基づいて指定された試料上の分析領域に対する質量分析を実行する際に、前記位置ずれ検出手段により算出された位置ずれを補正するべく、前記レーザ光照射部からのレーザ光と試料との相対位置を変更する位置ずれ修正手段と、
を備えることを特徴とする質量分析装置。 - 請求項1に記載の質量分析装置であって、
前記照射痕形成手段により試料プレート上に形成される照射痕の形状を識別子とし、該識別子に対応付けて試料プレート、測定、又は試料に関する情報を記憶しておく情報記憶手段と、
試料プレートが装置本体に装着されたときに、その時点で取得される該プレート上の画像から照射痕の形状を認識し、前記情報記憶手段に照らして該試料プレートに対応した情報を取得して出力する情報取得手段と、
をさらに備えることを特徴とする質量分析装置。 - 請求項1に記載の質量分析装置であって、
前記照射痕形成手段により試料プレート上に形成される複数の照射痕の配列やパターンに試料プレートや測定に関する情報を対応付け、試料プレート自体に前記情報を保持させるようにしたことを特徴とする質量分析装置。
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WO2018097616A1 (ko) * | 2016-11-24 | 2018-05-31 | 주식회사 아스타 | Maldi tof ms 데이터 처리 장치 및 방법 |
KR101989473B1 (ko) * | 2016-11-24 | 2019-09-30 | 주식회사 아스타 | Maldi tof ms 데이터 처리 장치 및 방법 |
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CN109712862A (zh) * | 2019-01-28 | 2019-05-03 | 安图实验仪器(郑州)有限公司 | 适于基质辅助激光解析电离飞行时间质谱仪的光路系统 |
CN109801832B (zh) * | 2019-01-30 | 2021-04-30 | 广州市锐博生物科技有限公司 | 一种离子引出装置及其引出方法 |
CN109813796B (zh) * | 2019-03-05 | 2020-11-17 | 中国农业科学院农业质量标准与检测技术研究所 | 一种用于甜瓜组织中氯吡脲质谱成像方法 |
EP3942291A4 (en) * | 2019-03-21 | 2022-12-14 | C2Sense, Inc. | VOLATILE ION DETECTION SYSTEMS AND RELATED METHODS |
CN114450587A (zh) * | 2019-10-16 | 2022-05-06 | 株式会社岛津制作所 | 成像质量分析装置 |
CN110988102B (zh) * | 2019-12-10 | 2022-09-30 | 北京工业大学 | 一种可视化无鞘流的单细胞质谱分析系统 |
JP7384358B2 (ja) * | 2020-04-27 | 2023-11-21 | 株式会社島津製作所 | 有機化合物の構造解析方法 |
DE102021128848A1 (de) * | 2021-11-05 | 2023-05-11 | Bruker Daltonics GmbH & Co. KG | Vorrichtung zum desorbierenden Abtasten von Analytmaterial auf einem Probenträger |
CN115389602A (zh) * | 2022-04-10 | 2022-11-25 | 宁波华仪宁创智能科技有限公司 | 具有痕量检测功能的安检装置和方法 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP3500264B2 (ja) * | 1997-01-29 | 2004-02-23 | 株式会社日立製作所 | 試料分析装置 |
US20020009394A1 (en) * | 1999-04-02 | 2002-01-24 | Hubert Koster | Automated process line |
AU2002339871A1 (en) * | 2001-05-24 | 2002-12-03 | New Objective, Inc. | Method and apparatus for feedback controlled electrospray |
JP2003016988A (ja) * | 2001-06-27 | 2003-01-17 | Fujitsu Ltd | フォーカストイオンビーム装置及びそれを利用したフォーカストイオンビーム加工方法 |
EP2290056A3 (en) * | 2001-10-05 | 2011-06-01 | Novartis AG | Mutated Abl kinase domains |
DE10258674A1 (de) * | 2002-12-13 | 2004-06-24 | Sunyx Surface Nanotechnologies Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Probenträgers für die MALDI-Massenspektrometrie |
US7145135B1 (en) * | 2003-05-30 | 2006-12-05 | Agilent Technologies, Inc. | Apparatus and method for MALDI source control with external image capture |
US7064318B2 (en) * | 2003-08-26 | 2006-06-20 | Thermo Finnigan Llc | Methods and apparatus for aligning ion optics in a mass spectrometer |
EP1810300A4 (en) * | 2004-02-12 | 2010-06-09 | Texas A & M Univ Sys | ADVANCED OPTICS FOR LASER PROFILES SET QUICKLY IN ANALYTIC SPECTROMETRY |
US20100090101A1 (en) * | 2004-06-04 | 2010-04-15 | Ionwerks, Inc. | Gold implantation/deposition of biological samples for laser desorption two and three dimensional depth profiling of biological tissues |
JP4766549B2 (ja) * | 2005-08-29 | 2011-09-07 | 株式会社島津製作所 | レーザー照射質量分析装置 |
AU2006321772A1 (en) * | 2005-12-08 | 2007-06-14 | Protein Discovery, Inc. | Methods and devices for concentration and fractionation of analytes for chemical analysis |
US20100005003A1 (en) * | 2006-05-11 | 2010-01-07 | Cassaday Tony L | Automated dry cleaning assembly system |
JP4998473B2 (ja) * | 2006-12-05 | 2012-08-15 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置 |
DE102006059695B3 (de) * | 2006-12-18 | 2008-07-10 | Bruker Daltonik Gmbh | Präparation einer Matrixschicht für die Massenspektrometrie |
US7564030B2 (en) * | 2007-02-13 | 2009-07-21 | Palo Alto Research Center Incorporated | Method and system for forming temporary images |
DE102007006933B4 (de) * | 2007-02-13 | 2011-02-24 | Bruker Daltonik Gmbh | Abstandsregelung in Ionenquellen für Flugzeitmassenspektrometer |
JP4952788B2 (ja) * | 2007-04-04 | 2012-06-13 | 株式会社島津製作所 | 質量分析データ解析方法及び装置 |
JP5020742B2 (ja) * | 2007-08-27 | 2012-09-05 | 日本電子株式会社 | Maldiイオン源を備えた質量分析装置およびmaldiイオン源用サンプルプレート |
JP2009068995A (ja) | 2007-09-13 | 2009-04-02 | Panasonic Corp | マイクロアレイ装置 |
WO2010047823A2 (en) * | 2008-10-23 | 2010-04-29 | President And Fellows Of Harvard College | Detection and modulation of cytochrome c acetylation |
CN201374493Y (zh) * | 2009-02-12 | 2009-12-30 | 北京志恒达科技有限公司 | 激光非正常触发防护器及激光灼刻标识装置 |
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