JP5255974B2 - 真空室内のガス成分測定方法、及び真空装置 - Google Patents
真空室内のガス成分測定方法、及び真空装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5255974B2 JP5255974B2 JP2008259181A JP2008259181A JP5255974B2 JP 5255974 B2 JP5255974 B2 JP 5255974B2 JP 2008259181 A JP2008259181 A JP 2008259181A JP 2008259181 A JP2008259181 A JP 2008259181A JP 5255974 B2 JP5255974 B2 JP 5255974B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- gas
- vacuum chamber
- variable valve
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
(但し、Q:放出ガス量,P1:上流側圧力,P2:下流側圧力,C:コンダクタンス)
図5での下流側真空計34は真空チャンバ1内の圧力を測定する真空計でも代用が可能である。
(但し、q:放出ガス速度,P1:上流側圧力,P2:下流側圧力,C:コンダクタンス,A:ガストラップのガス吸着面積)
放出ガス速度においても、実施例3で述べたように全圧を測定する真空計を用いれば全てのガスの放出ガス速度となり、質量分析計で測定した結果を用いれば、それぞれの質量数ガスの放出ガス速度を示すことができる。こうして得られた値を装置に自動的に記録,表示させる機能を持たせ、先の実施例2で示したようにしきい値を超えたらアラームを発するようにさせれば、さらに高感度での装置の監視が可能となる。
2 真空排気装置
3 可変バルブ
4 質量分析計
5 取付管
6 電子銃室
7 コンデンサレンズ室
8 試料室
9 中間室
10 予備排気室
11 試料交換室
12 電子銃
13 引出電極
14 加速電極
15 固定絞り
16 コンデンサレンズ
17 偏向コイル
18 対物レンズ
19 対物レンズ絞り
20 試料ホルダ
21 試料
22,23 ゲートバルブ
24〜28 真空ポンプ
29 電子線
30 二次電子または反射電子
31 反射電子・二次電子検出器
32 排気バイパス
33 上流側真空計
34 下流側真空計
35 ガストラップ
36 四重極
37 イオンソース部
Claims (5)
- 真空室と、当該真空室に接続され、所定の排気速度で当該真空室の排気を行う真空排気装置を備えた真空装置において、
前記真空室内のガス成分を測定するガス成分測定装置と、
前記真空室と、前記真空排気装置との間に備えられる可変バルブと、
当該可変バルブの開度を調整することによって前記真空排気装置による排気速度を制御する制御装置とを備え、当該制御装置は、前記ガス成分測定装置によるガス成分測定が行われるときに、前記荷電粒子線を照射する前の前記真空室を予備排気するときの排気速度、或いは前記真空室内にて荷電粒子線を照射するときの排気速度と比較して、前記可変バルブの開度を絞ることによって、前記真空排気装置による排気速度を低下させることを特徴とする真空装置。 - 真空室と、当該真空室に接続され、所定の排気速度で当該真空室の排気を行う真空排気装置を備えた真空装置において、
前記真空室内のガス成分を測定するガス成分測定装置と、
前記真空室と、前記ガス成分測定装置との間に備えられる可変バルブと、
当該可変バルブの開度を調整することによって前記真空排気装置による排気速度を制御する制御装置とを備え、当該制御装置は、前記ガス成分測定装置によるガス成分測定が行われるときに、前記荷電粒子線を照射する前の前記真空室を予備排気するときの排気速度、或いは前記真空室内にて荷電粒子線を照射するときの排気速度と比較して、前記可変バルブの開度を絞ることによって、前記真空排気装置による排気速度を低下させることを特徴とする真空装置。 - 請求項2において、
前記真空室と前記可変バルブとの間に接続、或いは真空室に接続される第1の真空計と、前記可変バルブと前記ガス成分測定装置との間に接続される第2の真空計を備え、前記制御装置は、第1の第2の真空計の圧力差に基づいて、ガス量を演算することを特徴とする真空装置。 - 請求項2において、
前記可変バルブと、前記ガス成分測定装置との間にガストラップが接続されることを特徴とする真空装置。 - 請求項1または2において、
前記制御装置は、前記ガス成分測定装置による測定値が、所定値を超えたときに、その旨の信号を発生することを特徴とする真空装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008259181A JP5255974B2 (ja) | 2008-10-06 | 2008-10-06 | 真空室内のガス成分測定方法、及び真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008259181A JP5255974B2 (ja) | 2008-10-06 | 2008-10-06 | 真空室内のガス成分測定方法、及び真空装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010092633A JP2010092633A (ja) | 2010-04-22 |
JP5255974B2 true JP5255974B2 (ja) | 2013-08-07 |
Family
ID=42255174
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008259181A Expired - Fee Related JP5255974B2 (ja) | 2008-10-06 | 2008-10-06 | 真空室内のガス成分測定方法、及び真空装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5255974B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6166137B2 (ja) * | 2013-09-26 | 2017-07-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
US20230402248A1 (en) * | 2020-12-16 | 2023-12-14 | Hitachi High-Tech Corporation | Vacuum Treatment Apparatus and Vacuum Treatment Method |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01120748A (ja) * | 1987-11-04 | 1989-05-12 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡 |
JPH05205686A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-08-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 差動排気抵抗装置 |
JPH08264152A (ja) * | 1995-03-27 | 1996-10-11 | Fujitsu Ltd | イオンビーム電流の補正方法、イオン注入方法及び装置 |
JP2002174606A (ja) * | 2000-12-05 | 2002-06-21 | Rigaku Corp | 昇温脱離分析装置とその方法 |
JP4991144B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2012-08-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料測定方法、及び荷電粒子線装置 |
JP4847900B2 (ja) * | 2007-03-09 | 2011-12-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査型電子顕微鏡 |
-
2008
- 2008-10-06 JP JP2008259181A patent/JP5255974B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010092633A (ja) | 2010-04-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101125913B1 (ko) | 기판 웨이퍼의 오염을 감시하기 위한 방법 및 장치 | |
JP5454416B2 (ja) | 質量分析装置 | |
US20060075968A1 (en) | Leak detector and process gas monitor | |
US7635842B2 (en) | Method and instrument for chemical defect characterization in high vacuum | |
CN107532965B (zh) | 泄漏检测器和检测泄漏的方法 | |
JP2007207758A (ja) | 所定の最終真空圧力を有する粒子光学装置 | |
TW202007945A (zh) | 氣體分析裝置及氣體分析方法 | |
JP2007506903A (ja) | ポンピングされた流体中の汚染物の検出 | |
WO2002075281A1 (en) | Vacuum sensor | |
JP5255974B2 (ja) | 真空室内のガス成分測定方法、及び真空装置 | |
US7601974B2 (en) | Charged particle beam apparatus | |
JP4972277B2 (ja) | 基板処理装置の復帰方法、該装置の復帰プログラム、及び基板処理装置 | |
KR101391822B1 (ko) | 공정 모니터링이 가능한 기판 처리 장치 및 이를 이용한 공정 모니터링 방법 | |
JP2009300095A (ja) | 汚染濃度計測装置 | |
JP2009300167A (ja) | アウトガス捕集装置および捕集方法 | |
JP4988905B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
TWI759210B (zh) | 用於監測真空腔室的清潔度的清潔度監測器及方法 | |
US11011345B2 (en) | Charged particle beam device | |
WO2013129196A1 (ja) | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法 | |
JP5828198B2 (ja) | プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法 | |
JP2011034741A (ja) | 気体分析装置及びそれを用いた検査装置 | |
JP2000149844A (ja) | 電子ビーム検査装置 | |
JP2014196980A (ja) | 気中残留物の測定装置、半導体製造装置及び気中残留物の測定方法 | |
CN113933454B (zh) | 极紫外光刻机材料检测装置及测试方法 | |
KR102689701B1 (ko) | 진공 챔버의 청정도를 모니터링하기 위한 청정도 모니터 및 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110223 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110223 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120910 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120918 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121225 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130326 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130422 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160426 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |