TWI759210B - 用於監測真空腔室的清潔度的清潔度監測器及方法 - Google Patents
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Abstract
一種清潔度監測器、一種評估系統及一種方法。清潔度監測器可包括:第一真空腔室、第二真空腔室、分子收集器、釋放單元、質譜儀、可經配置以使分子收集器自第一位置移動至第二位置之操縱器,及分析儀。質譜儀可具有至第二真空腔室之內部空間的視線。質譜儀可經配置以監測第二真空腔室之內部空間,並產生指示第二真空腔室之內部空間的內容物之偵測信號。偵測信號之第一子集可指示已釋放有機分子之至少子集的存在。分析儀可經配置以基於偵測信號決定(a)第一真空腔室及(b)受測試真空腔室中的至少一者之清潔度。受測試真空腔室流體耦合至第一真空腔室。
Description
本揭示案係關於清潔度監測器及用於監測真空腔室之清潔度的方法。
本申請案主張2020年5月20日提交之US 16/879,105的優先權。該案之揭示內容據此以引用方式全文併入本文且用於所有目的。
分子污染為半導體製造中之根本性問題。尤其係在包括真空腔室之工具中,如,掃描電子顯微鏡。
有機分子可能起源於真空腔室內部之有機成分,亦可能起源於先前插入真空腔室中之晶圓。
此些有機分子吸附在受檢查晶圓之表面上,且可能形成覆蓋該表面的小部分之島狀物。
此些島狀物可導致晶圓故障。
真空腔室之清潔度水平可能由於維護活動及受檢查晶圓之釋氣水平而隨時間變化。
愈來愈需要提供一種清潔度監測器及用於監測真空腔室之清潔度的方法。
如本申請案中所繪示,提供一種清潔度監測器、一種評估系統及一種方法。
根據一些實施例,一種清潔度監測器包括:第一真空腔室、第二真空腔室、質譜儀、分子收集器、釋放單元、操縱器及分析儀。分子收集器可經配置以在聚集週期期間並當位於第一真空腔室內之第一位置時聚集存在於第一真空腔室內之有機分子以提供已聚集有機分子。釋放單元可經配置以在釋放週期期間並當收集器位於第二真空腔室內之第二位置時引發該等已聚集有機分子之至少一子集朝向質譜儀釋放,以提供已釋放有機分子。操縱器可經配置以使分子收集器自第一位置移動至第二位置。質譜儀可具有至第二真空腔室之內部空間的視線,且可經配置以監測第二真空腔室之內部空間並產生指示第二真空腔室之內部空間的內容物之偵測信號,其中該等偵測信號之第一子集指示已釋放有機分子的存在。分析儀可經配置以基於該等偵測信號決定(a)第一真空腔室及(b)流體耦合至第一真空腔室之受測試真空腔室中的至少一者之清潔度。
在以下詳細描述中,為了提供對本揭示案之實施例的透徹理解,闡述諸多特定細節。然而,熟習此項技術者將理解,可在無此些特定細節的情況下實踐本揭示案之當前實施例。在其他情形下,未詳細描述熟知方法、程序及部件,以免混淆本揭示案之當前實施例。
在本說明書之結論部分中特別指出並明確要求保護被視為本揭示案的實施例之標的。然而,當結合隨附圖式閱讀時,可藉由參考以下詳細描述最佳地理解本揭示案之實施例,關於組織及操作方法連同其對象、特徵及優勢。
將瞭解,為了說明的簡單及清楚,諸圖中所示之元件未必按比例繪製。舉例而言,為了清楚,該等元件中之一些的尺寸可能相對於其他元件而言被放大。另外,在認為適當的情況下,可在諸圖中重複元件符號,以指示對應的或類似的元件。
因為本揭示案之所示實施例的大部分可使用熟習此項技術者所已知之電子部件及電路來實施,所以為了理解並瞭解本揭示案之當前實施例的基本概念且以免混淆或分散本揭示案之當前實施例的教示,將不以比如以上所示被視為必要之程度更大的程度來解釋細節。
本說明書中對方法之任何引用應比照能夠執行該方法之系統來應用。
本說明書中對系統之任何引用應比照可由該系統執行之方法來應用。
對術語「包括」或「具有」之任何引用應亦被解釋為代表「由……組成」或「基本上由……組成」。舉例而言,包括某些步驟之方法可包括額外步驟,可限於某些步驟,或分別可包括不會對方法之基本特性及新穎特性產生實質性影響的額外步驟。
以可互換方式使用片語「在真空腔室內」及「在真空腔室之內部空間內」。
可提供清潔度監測器。清潔度監測器可包括第一真空腔室、第二真空腔室、分子收集器、釋放單元、操縱器、質譜儀及分析儀。
分子收集器可經配置以在聚集週期期間並當位於第一真空腔室內之第一位置時聚集存在於第一真空腔室內之有機分子。藉由分子收集器所聚集之有機分子稱作已聚集有機分子。
第一真空腔室可流體耦合至評估系統之受測試真空腔室。
評估系統可為檢查系統、計量系統、審查系統,及其類似者。第一真空腔室內之有機分子可自受測試真空腔室發射。受測試真空室係在受測試真空腔室之清潔度係藉由清潔度監測器測試的意義上進行測試的。
釋放單元可經配置以在釋放週期期間並當收集器位於第二真空腔室內之第二位置時引發已聚集有機分子之至少一個子集朝向質譜儀釋放。已聚集有機分子之該至少一個子集稱作已釋放有機分子。
操縱器可經配置以使分子收集器在第一位置與第二位置之間移動。
質譜儀可具有至第二真空腔室之內部空間的視線。質譜儀可經配置以監測第二真空腔室之內部空間,並產生指示第二真空腔室之內部空間的內容物之偵測信號。偵測信號之第一子集可指示已聚集有機分子之至少子集的存在。
分析儀可經配置以基於偵測信號決定第一真空腔室之清潔度。或者或另外,分析儀可經配置以基於偵測信號決定受測試真空腔室之清潔度。
第一真空腔室之內部空間的容積可大於第二真空腔室之內部空間的容積。舉例而言,第一真空腔室之內部空間的容積可以至少比第二真空腔室之內部空間的容積大10、20、30、40、50、60、70、80、90、100(且甚至更多)倍。
第二真空腔室之內部空間的較小容積增大了質譜儀之靈敏度,因為第二真空腔室之內部空間中的已聚集有機分子之濃度超過了第一真空腔室之內部空間中的已聚集有機分子之濃度。
在第二真空腔室中而不在第一真空腔室中執行已聚集有機分子之釋放,藉此增大第一真空腔室之清潔度。當第二真空腔室與第一真空腔室隔離或至少大體上與第一真空腔室隔離時,第一真空腔室之清潔度的增量可能更為明顯。
在釋放週期期間第一真空腔室與第二真空腔室之間的分離亦允許將更多時間及/或更多資源分配給釋放週期——因為釋放製程不會污染第一真空腔室。
可藉由使用分子收集器及操縱器來實現在釋放週期期間第一真空腔室與第二真空腔室之間的分離。此可簡化包括監測系統之系統並降低製造該系統之成本。
操縱器可包括移動機構及風箱。
移動機構可經配置以使分子收集器在第一位置與第二位置之間移動。
移動機構可機械耦合在分子收集器與第一真空腔室之間。
移動機構可為能夠使分子收集器在第一位置與第二位置之間移動的任何機械機構。移動機構可執行線性移動、非線性移動,及其類似者。移動機構可為活塞;旋轉單元;一或更多個馬達、一或更多個齒輪、一或更多個接頭之任意組合;及其類似者。
風箱可經配置以至少在第一位置與第二位置之間的移動期間使移動機構與第一真空腔室之內部空間隔離。該隔離可防止第一真空腔室之內部空間被移動機構污染。
清潔度監測器可包括流量控制單元,該流量控制單元可經配置以在釋放週期期間影響已聚集分子之至少子集的傳播。
在釋放週期之後,分子收集器可在第一真空腔室之內部空間內移動,以便執行有機分子之另一聚集。
因為第一真空腔室與第二真空腔室分離,且因為至少在釋放週期期間第二真空腔室內之壓力位準可能偏離第一真空腔室之壓力位準,所以在將分子收集器移回至第一分子收集器中之前,需要均衡第二真空腔室之壓力位準與第一真空腔室之壓力位準。
流量控制單元可經配置以在釋放週期的終點之後比較第二真空腔室之內部空間內的壓力與第一真空腔室之內部空間內的壓力。
流量控制單元可包括渦輪分子泵及閥。該閥可經配置以在監測週期期間關閉。該閥可經配置以在釋放週期的至少一部分期間以流體方式將第二真空腔室之內部空間耦合至渦輪分子泵。可使用流量控制之任何其他組合。
清潔度監測器可包括第一開口,該第一開口可由第一真空腔室及第二真空腔室共享。操縱器可經配置以使分子收集器穿過第一開口而同時使分子收集器在第一位置與第二位置之間移動。
清潔度監測器可包括第二開口,該第二開口可由第一真空腔室及受測試真空腔室共享。
釋放單元可包括熱耦合至分子收集器之加熱元件。
第1圖繪示清潔度監測器200之實例。
清潔度監測器200可用作用於監測並量測在受測試真空腔室內操作之設備的清潔度之獨立單元。
清潔度監測器200可包括第一真空腔室201,該第一真空腔室201可流體耦合至受測試真空腔室301。
模組(例如,計量模組、檢查模組、缺陷審查及其類似者)可永久地或臨時地位於受測試真空腔室內。該模組可為掃描電子顯微鏡、透射電子顯微鏡、臨界尺寸掃描電子顯微鏡、缺陷審查掃描電子顯微鏡、離子研磨儀、帶電粒子成像儀,及其類似者。
清潔度監測器200亦可包括第二真空腔室202、分子收集器207、釋放單元、操縱器222、質譜儀21及分析儀223。
第二真空腔室202可機械耦合至第一真空腔室201。
釋放單元可包括加熱器208及流量控制單元221。
流量控制單元221可包括真空換能器203、泵送管線212、渦輪分子泵204、低真空泵206及閥205。
第1圖繪示處於第一真空腔室201之內部空間內的第一位置處之分子收集器207。
可藉由操縱器222移動分子收集器207。操縱器222可包括移動機構,諸如,由機械閥211控制之氣缸210。可藉由來自控制器225之控制信號控制機械閥211。
控制器225可屬於清潔度監測器或可屬於該模組。
風箱209安裝在分子收集器207與凸緣213之間。凸緣213安裝在第一真空腔室201之內部容積中。凸緣213為以機械方式將風箱209耦合至第一真空腔室201之機械元件的實例。
風箱209經配置以將第一真空腔室201之內部空間及分子收集器207與操縱器222隔離。
在第1圖中,加熱器208機械耦合且熱耦合至分子收集器207。
分子收集器207在位於第一真空腔室201之內部空間中時經配置以聚集第一真空腔室201之內部空間中的有機分子。有機分子可起源於流體耦合至第一真空腔室之受測試真空腔室。
聚集週期之持續時間可取決於有機分子之附著週期。可量測或估計該附著週期。不同的有機分子可表現出不同的附著週期。
可基於一或更多種有機分子之一或更多個附著週期來決定聚集週期之持續時間。
舉例而言,可基於一或更多種有機分子之平均附著週期來設定聚集週期之持續時間。
舉例而言,可基於一或更多種有機分子之一或更多個聚集週期的加權總和來設定聚集週期之持續時間。
舉例而言,可基於一或更多種有機分子之平均附著週期來設定聚集週期之持續時間。
舉例而言,聚集週期之範圍可在半小時與一個月之間、小於一小時、大於一個月,及其類似者。
在聚集週期的終點處,控制器可控制氣缸210以使分子收集器207移動至第二真空腔室202之內部空間內的第二位置。
第2圖繪示位於第二真空腔室202之內部空間內的第二位置處之分子收集器207。分子收集器207及操縱器222將第一真空腔室之內部空間與第二真空腔室之內部空間分離。
當分子收集器207位於第二真空腔室202之內部空間內時,釋放單元可執行用於自分子收集器207釋放已聚集有機分子之釋放製程。所釋放之有機分子稱作已釋放有機分子。
自分子收集器207表面之已聚集有機分子的釋放製程可包括以下至少一者:(a)使用加熱器208加熱分子收集器207及(b)藉由質譜儀量測已釋放分子。
量測可繼之以自第二真空腔室202抽空已釋放有機分子。自分子收集器207釋放全部的已聚集有機分子可為有益的。
釋放週期之持續時間可明顯比聚集週期短,且可取決於分子收集器207之表面溫度、表面上之已聚集有機分子的濃度、處於釋放位置之第二真空腔室的容積,及分子收集器207與質譜儀21之間的距離。
在釋放週期期間,第二真空腔室202中之壓力可升高。可藉由真空換能器203量測第二真空腔室202中之壓力。在量測週期的終點處,已釋放有機分子可被抽空。
可在比較第一真空腔室中之壓力位準與第二真空腔室中之壓力位準之前完成已釋放有機分子的抽空。
可與比較第一真空腔室中之壓力位準與第二真空腔室中之壓力位準並行地執行已釋放有機分子的抽空。
可藉由流量控制單元221執行壓力位準之比較及/或已釋放有機分子的抽空。
流量控制單元221之閥205可使流量控制單元221之渦輪分子泵204與第二真空腔室202流體耦合。渦輪分子泵204可經配置以提高第二真空腔室202中之真空水平。
在第二真空腔室中之壓力等於第一真空腔室內之壓力之後,應(例如)藉由用閥205關閉泵送管線212來維持第二真空腔室中之壓力。另外,可藉由位於風箱209所限定之空間內的冷卻單元來冷卻分子收集器207。冷卻分子收集器207可繼之以將分子收集器207移動至第一位置。
清潔度監測器200可對有機分子表現出高靈敏度且可實現分子污染的高純度,因為已釋放有機分子係自第二真空腔室被移除。
第3圖及第4圖繪示包括受測試真空腔室301及清潔度監測器200之評估系統300的實例。
諸如但不限於評估模組(未示出)之模組可位於受測試真空腔室301內。
清潔度監測器200之第一真空腔室201經由第3圖中表示為302之第二開口流體耦合至受測試真空腔室301。第一真空腔室201及受測試真空腔室301可以任何其他方式彼此流體耦合。
在第3圖中,分子收集器207處於其第一位置。
在第4圖中,分子收集器處於其第二位置。
第3圖及第4圖亦繪示經配置以清潔受測試真空腔室301之電漿源310。
第4圖繪示經配置以隔離質譜儀21與電漿並增大質譜儀21之使用壽命之操縱器222。
第5圖根據本揭示案之實施例繪示方法500。
方法500可開始於藉由分子收集器聚集存在於第一真空腔室中之有機分子以提供已聚集有機分子之步驟510。
可在聚集週期期間且當分子收集器位於第一真空腔室內之第一位置處時執行有機分子之聚集。第一真空腔室可流體耦合至受測試真空腔室並耦合至第二真空腔室。該聚集導致已聚集有機分子。
步驟510可繼之以將分子收集器自第一位置移動至第二真空腔室內之第二位置的步驟520。
步驟520可繼之以步驟530及540。
步驟530可包括藉由釋放單元且在釋放週期期間引發已聚集有機分子之至少子集的釋放以提供已釋放有機分子。可朝向質譜儀導向已釋放有機分子。
步驟540可包括藉由質譜儀監測第二真空腔室之內部空間,並藉由質譜儀產生指示第二真空腔室之內部空間的內容物之偵測信號。
偵測信號之第一子集可指示已釋放有機分子的存在。
步驟530及540可繼之以步驟550及560。
步驟550可包括自第二真空腔室抽空任何已釋放有機分子。
步驟560可包括藉由分析儀且基於偵測信號決定(a)第一真空腔室及(b)流體耦合至第一真空腔室之受測試真空腔室中的至少一者之清潔度。
步驟560可包括比較在聚集週期期間獲得之偵測信號與在釋放週期期間獲得之偵測信號。該比較可包括比較代表相同原子量之分量的光譜元素。
該比較可包括僅比較具有某些原子量之光譜分量—諸如,有機分子之原子量或由於在質譜儀處理期間有機分子斷裂而產生之分子的原子量。
步驟560可包括基於第一真空腔室之清潔度決定受測試真空腔室之清潔度。可以任何方式計算或測試第一真空腔室之清潔度與受測試真空腔室之清潔度之間的關係。
舉例而言,可基於第一真空腔室及受測試真空腔室之清潔度彼此流體耦合的方式來決定該關係。
舉例而言,可多次且獨立於受測試真空腔室之清潔度的量測來量測第一真空腔室之清潔度,以提供兩個真空腔室之多個清潔度結果。可基於兩個真空腔室之多個清潔度結果來計算該關係。計算之非限制性實例可包括相關性、匹配演算法及其類似者。
注意,可以週期性或非週期性方式將方法500重複多次。
在前述說明書中,已參考本揭示案之實施例的特定實例描述了本揭示案之實施例。然而,將顯而易見,可在不脫離如在附加申請專利範圍中所闡述的本揭示案之實施例的更廣泛精神及範疇的情況下在其中作出各種修改及改變。
此外,在描述中及在申請專利範圍中,術語「前」、「後」、「頂部」、「底部」、「在……之上」、「在……下方」及其類似術語(若存在)用於描述性目的而未必用於描述永久性相對位置。應理解,在適當情況下,如此使用之術語為可互換的,以使得本文所述之本揭示案之實施例(例如)能夠以不同於本文所繪示或以其他方式描述之定向的定向進行操作。
有效地「相關聯」用以實現相同功能之部件的任何佈置,以使得實現所期望之功能。因而,可將本文中相組合以實現特定功能之任何兩個部件視為彼此「相關聯」,以使得實現所期望之功能,而與架構或中間部件無關。同樣,亦可將如此相關聯之任何兩個部件視為彼此「可操作地連接」或「可操作地耦合」以實現所期望之功能。
另外,熟習此項技術者將認識到,上述操作之間的界限僅為說明性的。可將多個操作組合成單個操作,可將單個操作分佈在額外操作中,且可在時間上至少部分重疊地執行操作。此外,替代實施例可包括特定操作之多個個例,且在各種其他實施例中可改變操作之次序。
然而,其他修改、變化及替代亦為可能的。因此,應在說明性含義上而非限制性含義上來考慮本說明書及圖式。
在申請專利範圍中,放在括號之間的任何參考符號皆不應被解釋為限制申請專利範圍。詞語「包括」不排除除了申請專利範圍中所列出之元件或步驟以外的其他元件或步驟的存在。另外,如本文中所使用,術語「一(a)」或「一(an)」被定義為一或更多個。又,在申請專利範圍中使用諸如「至少一個」及「一或更多個」之介紹性片語不應被解釋為暗指由不定冠詞「一(a)」或「一(an)」引入另一請求項要素將含有此被引入的請求項要素之任何特定請求項限於僅含有一個此種要素的本揭示案之實施例,即使同一請求項包括介紹性片語「一或更多個」或「至少一個」以及不定冠詞(諸如,「一(a)」或「一(an)」)。除非另有說明,否則諸如「第一」及「第二」之術語用以任意地在此些術語所描述之元件之間進行區分。因此,此些術語未必意欲指示此些要素之時間或其他的優先級。在互不相同之請求項中列舉出某些措施的事實並不指示無法有利地使用此些措施之組合。
儘管本文中已繪示並描述了本揭示案之實施例的某些特徵,但一般熟習此項技術者現能想到許多修改、取代、變化及等效物。因此,應理解,附加申請專利範圍意欲涵蓋在本揭示案之實施例的真實精神內之任何此種修改及變化。
21:質譜儀
200:清潔度監測器
201:第一真空腔室
202:第二真空腔室
203:真空換能器
204:渦輪分子泵
205:閥
206:低真空泵
207:分子收集器
208:加熱器
209:風箱
210:氣缸
211:機械閥
212:泵送管線
213:凸緣
221:流量控制單元
222:操縱器
223:分析儀
225:控制器
300:評估系統
301:受測試真空腔室
302:開口
310:電漿源
500:方法
510:步驟
520:步驟
530:步驟
540:步驟
550:步驟
560:步驟
在本說明書之結論部分中特別指出並明確要求保護被視為本揭示案的實施例之標的。然而,當結合隨附圖式閱讀時,可藉由參考以下詳細描述最佳地理解本揭示案之實施例,關於組織及操作方法連同其對象、特徵及優勢。
第1圖繪示清潔度監測器之實例。
第2圖繪示清潔度監測器之實例。
第3圖繪示評估系統之實例。
第4圖繪示評估系統之實例;及
第5圖繪示方法之實例。
21:質譜儀
200:清潔度監測器
201:第一真空腔室
202:第二真空腔室
203:真空換能器
204:渦輪分子泵
205:閥
206:低真空泵
207:分子收集器
208:加熱器
209:風箱
210:氣缸
211:機械閥
212:泵送管線
213:凸緣
221:流量控制單元
222:操縱器
223:分析儀
225:控制器
301:受測試真空腔室
Claims (15)
- 一種清潔度監測器,包括:一第一真空腔室;一第二真空腔室;一質譜儀,具有至該第二真空腔室之一內部空間的一視線;一分子收集器,經配置以在一聚集週期期間並當定位在該第一真空腔室內之一第一位置時聚集存在於該第一真空腔室內之有機分子以提供已聚集有機分子;一釋放單元,經配置以在一釋放週期期間並當該分子收集器定位在該第二真空腔室內之一第二位置時引發該等已聚集有機分子之至少一子集朝向該質譜儀的一釋放,以提供已釋放有機分子;一操縱器,經配置以使該分子收集器自該第一位置移動至該第二位置;以及其中該質譜儀經配置以監測該第二真空腔室之該內部空間並產生指示該第二真空腔室之該內部空間的一內容物之偵測信號;其中該等偵測信號之一第一子集指示該等已釋放有機分子的存在;以及一分析儀,經配置以基於該等偵測信號決定(a)該第一真空腔室及(b)流體耦合至該第一真空腔室之一受測試真空腔室中的至少一者之該清潔度。
- 如請求項1所述之清潔度監測器,其中該第一真空腔室之一內部空間的一容積大於該第二真空腔室 之該內部空間的一容積。
- 如請求項1所述之清潔度監測器,其中該第一真空腔室之一內部空間的一容積比該第二真空腔室之該內部空間的一容積大至少十倍。
- 如請求項1所述之清潔度監測器,包括一密封單元,其經配置以當該分子收集器位於該第二真空腔室內時將該第一真空腔室與該第二真空腔室分離。
- 如請求項1所述之清潔度監測器,包括該操縱器經配置以當該分子收集器位於該第二真空腔室內時將該第一真空腔室與該第二真空腔室分離。
- 如請求項1所述之清潔度監測器,其中該操縱器包括(a)一移動機構,機械耦合在該分子收集器與該第一真空腔室之一內部空間之間,及(b)風箱,經配置以至少在該第一位置與該第二位置之間的一移動期間將該移動機構與該第一真空腔室之該內部空間隔離。
- 如請求項1所述之清潔度監測器,包括一流量控制單元,其經配置以(i)在該釋放週期期間影響該等已釋放有機分子之一傳播,及(ii)在該釋放週期之一終點之後比較該第二真空腔室之該內部空間內的一壓力與該第一真空腔室之一內部空間內的一壓力。
- 如請求項1所述之清潔度監測器,包括一流量控制單元,其包括一渦輪分子泵及一閥;其中該閥經配置以在該監測週期期間關閉;其中該閥經配置以在該釋放週期的至少一部分期間以流體方式將該第二真空腔 室之該內部空間耦合至該渦輪分子泵。
- 如請求項1所述之清潔度監測器,包括由該第一真空腔室及該第二真空腔室共享之一開口;其中該操縱器經配置以使該分子收集器穿過該開口而同時使該分子收集器自該第一位置移動至該第二位置。
- 如請求項1至9中任一項所述之清潔度監測器,其中該釋放單元包括一加熱元件,該加熱元件熱耦合至一分子聚集器及釋放器中之該分子聚集器。
- 如請求項1所述之清潔度監測器,其中該聚集週期比該釋放週期長。
- 一種用於清潔度決定之方法,該方法包括以下步驟:當一分子收集器位於一第一真空腔室內之一第一位置處時,藉由該分子收集器聚集存在於該第一真空腔室中之有機分子以提供已聚集有機分子;其中該第一真空腔室流體耦合至該第二真空腔室;使該分子收集器自該第一位置移動至一第二真空腔室內之一第二位置;藉由一釋放單元且在一釋放週期期間引發該等已聚集有機分子之至少一子集的一釋放以提供已釋放有機分子;藉由一質譜儀監測該第二真空腔室之一內部空間;藉由該質譜儀產生指示該第二真空腔室之該內部空間的一內容物之偵測信號;其中該等偵測信號之一第一子 集指示該等已釋放有機分子的存在;以及藉由一分析儀且基於該等偵測信號決定該第一真空腔室及該第二真空腔室中之至少一者的一清潔度。
- 如請求項12所述之方法,其中該第一真空腔室之一內部空間的一容積大於該第二真空腔室之該內部空間的一容積。
- 一種評估系統,包括:一受測試真空腔室;一評估模組,經配置以評估位於該受測試真空腔室中之一目標;以及一清潔度監測器,經配置以監測該受測試真空腔室及該清潔度監測器之一第一真空腔室中的至少一者之一清潔度;其中該清潔度監測器進一步包括:一第二真空腔室;一質譜儀;一分子收集器,經配置以在一聚集週期期間並當位於該第一真空腔室內之一第一位置時聚集存在於該第一真空腔室內之有機分子以提供已聚集有機分子;一釋放單元,經配置以在一釋放週期期間並當該分子收集器位於該第二真空腔室內之一第二位置時引發該等已聚集有機分子之至少一子集朝向該質譜儀的一釋放,以提供已釋放有機分子;一操縱器,經配置以使該分子收集器自該第一位置移 動至該第二位置;以及其中該質譜儀具有至該第二真空腔室之一內部空間的一視線;其中該質譜儀經配置以監測該第二真空腔室之該內部空間並產生指示該第二真空腔室之該內部空間的一內容物之偵測信號;其中該等偵測信號之一第一子集指示該等已釋放有機分子的一存在;以及一分析儀,經配置以基於該等偵測信號決定(a)該第一真空腔室及(b)流體耦合至該第一真空腔室之該受測試真空腔室中的至少一者之該清潔度。
- 如請求項14所述之評估系統,其中該第一真空腔室之一內部空間的一容積大於該第二真空腔室之該內部空間的一容積。
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