CN115668437A - 用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器和方法 - Google Patents
用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器和方法 Download PDFInfo
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Abstract
一种清洁度监测器、一种评估系统和一种方法。清洁度监测器可包括:第一真空腔室、第二真空腔室、分子收集器、释放单元、质谱仪、可经配置以使分子收集器从第一位置移动至第二位置的操纵器、以及分析仪。质谱仪可具有至第二真空腔室的内部空间的视线。质谱仪可经配置以监测第二真空腔室的内部空间,并产生指示第二真空腔室的内部空间的内容物的检测信号。检测信号的第一子集可指示经释放有机分子的至少子集的存在。分析仪可经配置以基于检测信号确定(a)第一真空腔室和(b)受测试真空腔室中的至少一者的清洁度。受测试真空腔室流体耦合至第一真空腔室。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求于2020年5月20日提交的US 16/879,105的优先权。所述申请的公开内容由此通过引用方式以其全文并入本文且用于所有目的。
背景技术
分子污染为半导体制造中的根本性问题。尤其在包括真空腔室的工具(诸如,扫描电子显微镜)中。
有机分子可能起源于真空腔室内部的有机成分,以及起源于先前插入真空腔室中的晶片。
这些有机分子吸附在受检查晶片的表面上,并且可形成覆盖所述表面的小部分的岛状物。
这些岛状物可导致晶片故障。
真空腔室的清洁度水平可能由于维护活动和受检查晶片的释气水平而随时间变化。
愈来愈需要提供一种清洁度监测器和用于监测真空腔室的清洁度的方法。
发明内容
如本申请中所示,提供一种清洁度监测器、一种评估系统和一种方法。
根据一些实施例,一种清洁度监测器包括:第一真空腔室、第二真空腔室、质谱仪、分子收集器、释放单元、操纵器和分析仪。分子收集器可经配置以在聚集周期期间并当位于第一真空腔室内的第一位置时聚集存在于第一真空腔室中的有机分子以提供经聚集有机分子。释放单元可经配置以在释放周期期间并当收集器位于第二真空腔室内的第二位置时引发所述经聚集有机分子的至少子集朝向质谱仪释放,以提供经释放有机分子。操纵器可经配置以使分子收集器从第一位置移动至第二位置。质谱仪可具有至第二真空腔室的内部空间的视线,并且可经配置以监测第二真空腔室的内部空间并产生指示第二真空腔室的内部空间的内容物的检测信号,其中所述检测信号的第一子集指示经释放有机分子的存在。分析仪可经配置以基于所述检测信号确定(a)第一真空腔室和(b)流体耦合至第一真空腔室的受测试真空腔室中的至少一者的清洁度。
附图说明
在本说明书的结论部分中特别指出并明确要求保护被视为本公开内容的实施例的主题。然而,当结合附图来阅读时,可通过参考以下详细描述来最佳地理解本公开内容的实施例,关于组织和操作方法连同其对象、特征和优点。
图1示出清洁度监测器的示例;
图2示出清洁度监测器的示例;
图3示出评估系统的示例;
图4示出评估系统的示例;和
图5示出方法的示例。
具体实施方式
在以下详细描述中,为了提供对本公开内容的实施例的透彻理解,阐述了诸多特定细节。然而,本领域技术人员将理解,可在没有这些特定细节的情况下实践本公开内容的当前实施例。在其他情形下,未详细描述公知方法、程序和部件,以免混淆本公开内容的当前实施例。
在本说明书的结论部分中特别指出并明确要求保护被视为本公开内容的实施例的主题。然而,当结合附图阅读时,可通过参考以下详细描述来最佳地理解本公开内容的实施例,关于组织和操作方法连同其对象、特征和优点。
将了解,为了说明的简单和清楚,诸图中所示的元件未必按比例绘制。举例而言,为了清楚,所述元件中的一些的尺寸可能相对于其他元件而言被放大。另外,在认为适当的情况下,可在诸图中重复参考标记,以指示对应的或类似的元件。
因为本公开内容的所示实施例的大部分可使用本领域技术人员所已知的电子部件和电路来实施,所以为了理解并了解本公开内容的当前实施例的基本概念并且以免混淆或分散本公开内容的当前实施例的教示,将不以比如以上所示被视为必要的程度更大的程度来解释细节。
本说明书中对方法的任何引用应经必要修正(mutatis mutandis)以应用于能够执行所述方法的系统。
本说明书中对系统的任何引用应经必要修正以应用于可由所述系统执行的方法。
对术语“包括”或“具有”的任何引用还应被解释为代表“由……组成”或“基本上由……组成”。举例而言,包括某些步骤的方法可包括额外步骤,可限于某些步骤,或分别可包括不会对方法的基本特性和新颖特性产生实质性影响的额外步骤。
以可互换的方式使用短语“在真空腔室内”和“在真空腔室的内部空间内”。
可提供清洁度监测器。清洁度监测器可包括第一真空腔室、第二真空腔室、分子收集器、释放单元、操纵器、质谱仪和分析仪。
分子收集器可经配置以在聚集周期期间并当位于第一真空腔室内的第一位置时聚集存在于第一真空腔室中的有机分子。通过分子收集器所聚集的有机分子称作经聚集有机分子。
第一真空腔室可流体耦合至评估系统的受测试真空腔室。
评估系统可为检查系统、计量系统、审查系统等等。第一真空腔室内的有机分子可从受测试真空腔室发射。受测试真空室在受测试真空腔室的清洁度通过清洁度监测器测试的意义上进行测试。
释放单元可经配置以在释放周期期间并当收集器位于第二真空腔室内的第二位置时引发经聚集有机分子的至少一个子集朝向质谱仪释放。经聚集有机分子的所述至少一个子集称作经释放有机分子。
操纵器可经配置以使分子收集器在第一位置与第二位置之间移动。
质谱仪可具有至第二真空腔室的内部空间的视线。质谱仪可经配置以监测第二真空腔室的内部空间,并产生指示第二真空腔室的内部空间的内容物的检测信号。检测信号的第一子集可指示经聚集有机分子的至少子集的存在。
分析仪可经配置以基于检测信号确定第一真空腔室的清洁度。或者或另外,分析仪可经配置以基于检测信号确定受测试真空腔室的清洁度。
第一真空腔室的内部空间的容积可大于第二真空腔室的内部空间的容积。举例而言,第一真空腔室的内部空间的容积可以至少比第二真空腔室的内部空间的容积大10、20、30、40、50、60、70、80、90、100(并且甚至更多)倍。
第二真空腔室的内部空间的较小容积增大了质谱仪的灵敏度,这是因为第二真空腔室的内部空间中的经聚集有机分子的浓度超过了第一真空腔室的内部空间中的经聚集有机分子的浓度。
在第二真空腔室中而不在第一真空腔室中执行经聚集有机分子的释放,由此增大第一真空腔室的清洁度。当第二真空腔室与第一真空腔室隔离或至少大体上与第一真空腔室隔离时,第一真空腔室的清洁度的增量可能更为明显。
在释放周期期间第一真空腔室与第二真空腔室之间的分离还允许将更多时间和/或更多资源分配给释放周期——这是因为释放工艺不会污染第一真空腔室。
可通过使用分子收集器和操纵器来实现在释放周期期间第一真空腔室与第二真空腔室之间的分离。这可简化包括监测系统的系统并降低制造所述系统的成本。
操纵器可包括移动机构和波纹管(bellow)。
移动机构可经配置以使分子收集器在第一位置与第二位置之间移动。
移动机构可机械耦合在分子收集器与第一真空腔室之间。
移动机构可为能够使分子收集器在第一位置与第二位置之间移动的任何机械机构。移动机构可执行线性移动、非线性移动等。移动机构可为活塞;旋转单元;一个或多个电机、一个或多个齿轮、一个或多个接头的任意组合等等。
波纹管可经配置以至少在第一位置与第二位置之间的移动期间使移动机构与第一真空腔室的内部空间隔离。所述隔离可防止第一真空腔室的内部空间被移动机构污染。
清洁度监测器可包括流量控制单元,所述流量控制单元可经配置以在释放周期期间影响经聚集分子的至少子集的传播。
在释放周期之后,分子收集器可在第一真空腔室的内部空间内移动,以便执行有机分子的另一聚集。
因为第一真空腔室与第二真空腔室分离,并且因为至少在释放周期期间第二真空腔室内的压力水平可能偏离第一真空腔室的压力水平,所以在将分子收集器移回至第一分子收集器中之前,需要均衡第二真空腔室的压力水平与第一真空腔室的压力水平。
流量控制单元可经配置以在释放周期的终点之后比较第二真空腔室的内部空间内的压力与第一真空腔室的内部空间内的压力。
流量控制单元可包括涡轮分子泵和阀。所述阀可经配置以在监测周期期间关闭。所述阀可经配置以在释放周期的至少一部分期间将第二真空腔室的内部空间流体地耦合至涡轮分子泵。可使用流量控制的任何其他组合。
清洁度监测器可包括第一开口,所述第一开口可由第一真空腔室和第二真空腔室共享。操纵器可经配置以使分子收集器穿过第一开口,同时使分子收集器在第一位置与第二位置之间移动。
清洁度监测器可包括第二开口,所述第二开口可由第一真空腔室和受测试真空腔室共享。
释放单元可包括热耦合至分子收集器的加热元件。
图1示出清洁度监测器200的示例。
清洁度监测器200可用作用于监测并测量在受测试真空腔室内操作的设备的清洁度的独立单元。
清洁度监测器200可包括第一真空腔室201,所述第一真空腔室201可流体耦合至受测试真空腔室301。
模块(例如,计量模块、检查模块、缺陷审查等)可永久地或临时地位于受测试真空腔室内。所述模块可为扫描电子显微镜、透射电子显微镜、临界尺寸扫描电子显微镜、缺陷审查扫描电子显微镜、离子研磨器、带电粒子成像仪等。
清洁度监测器200还可包括第二真空腔室202、分子收集器207、释放单元、操纵器222、质谱仪21和分析仪223。
第二真空腔室202可机械耦合至第一真空腔室201。
释放单元可包括加热器208和流量控制单元221。
流量控制单元221可包括真空换能器203、泵送管线212、涡轮分子泵204、低真空泵206和阀205。
图1示出处于第一真空腔室201的内部空间内的第一位置处的分子收集器207。
可通过操纵器222移动分子收集器207。操纵器222可包括移动机构,诸如,由机械阀211控制的气缸210。可通过来自控制器225的控制信号来控制机械阀211。
控制器225可属于清洁度监测器或可属于所述模块。
波纹管209安装在分子收集器207与凸缘213之间。凸缘213安装在第一真空腔室201的内部。凸缘213为以机械方式将波纹管209耦合至第一真空腔室201的机械元件的示例。
波纹管209经配置以将第一真空腔室201的内部空间和分子收集器207与操纵器222隔离。
在图1中,加热器208机械耦合并且热耦合至分子收集器207。
分子收集器207在位于第一真空腔室201的内部空间中时经配置以聚集第一真空腔室201的内部空间中的有机分子。有机分子可起源于流体耦合至第一真空腔室的受测试真空腔室。
聚集周期的持续时间可取决于有机分子的附着周期。可测量或估计所述附着周期。不同的有机分子可表现出不同的附着周期。
可基于一种或多种有机分子的一个或多个附着周期来确定聚集周期的持续时间。
举例而言,可基于一种或多种有机分子的平均附着周期来设定聚集周期的持续时间。
举例而言,可基于一种或多种有机分子的一个或多个聚集周期的加权总和来设定聚集周期的持续时间。
举例而言,可基于一种或多种有机分子的平均附着周期来设定聚集周期的持续时间。
举例而言,聚集周期的范围可在半小时与一个月之间、小于一小时、大于一个月等。
在聚集周期的终点处,控制器可控制气缸210以使分子收集器207移动至第二真空腔室202的内部空间内的第二位置。
图2示出位于第二真空腔室202的内部空间内的第二位置处的分子收集器207。分子收集器207和操纵器222将第一真空腔室的内部空间与第二真空腔室的内部空间分离。
当分子收集器207位于第二真空腔室202的内部空间内时,释放单元可执行用于从分子收集器207释放经聚集有机分子的释放工艺。所释放的有机分子称为经释放有机分子。
从分子收集器207表面的经聚集有机分子的释放工艺可包括以下项中的至少一者:(a)使用加热器208加热分子收集器207和(b)通过质谱仪测量经释放分子。
可在测量之后从第二真空腔室202抽空经释放有机分子。从分子收集器207释放全部的经聚集有机分子可为有益的。
释放周期的持续时间可明显比聚集周期短,并且可取决于分子收集器207的表面温度、表面上的经聚集有机分子的浓度、处于释放位置的第二真空腔室的容积、和分子收集器207与质谱仪21之间的距离。
在释放周期期间,第二真空腔室202中的压力可升高。可通过真空换能器203测量第二真空腔室202中的压力。在测量周期的终点处,经释放有机分子可被抽空。
可在比较第一真空腔室中的压力水平与第二真空腔室中的压力水平之前完成经释放有机分子的抽空。
可与比较第一真空腔室中的压力水平与第二真空腔室中的压力水平并行地执行经释放有机分子的抽空。
可通过流量控制单元221执行压力水平的比较和/或经释放有机分子的抽空。
流量控制单元221的阀205可使流量控制单元221的涡轮分子泵204与第二真空腔室202流体耦合。涡轮分子泵204可经配置以提高第二真空腔室202中的真空水平。
在第二真空腔室中的压力等于第一真空腔室内的压力之后,应(例如)通过用阀205关闭泵送管线212来维持第二真空腔室中的压力。另外,可通过位于波纹管209所限定的空间内的冷却单元来冷却分子收集器207。在冷却分子收集器207之后可将分子收集器207移动至第一位置。
清洁度监测器200可对有机分子表现出高灵敏度并且可实现分子污染的高纯度,这是因为经释放有机分子从第二真空腔室被移除。
图3和图4示出包括受测试真空腔室301和清洁度监测器200的评估系统300的示例。
诸如但不限于评估模块(未示出)的模块可位于受测试真空腔室301内。
清洁度监测器200的第一真空腔室201经由图3中表示为302的第二开口流体耦合至受测试真空腔室301。第一真空腔室201和受测试真空腔室301可以以任何其他方式彼此流体耦合。
在图3中,分子收集器207处于其第一位置。
在图4中,分子收集器处于其第二位置。
图3和图4还示出经配置以清洁受测试真空腔室301的等离子体源310。
图4示出经配置以将质谱仪21与等离子体相隔离并增大质谱仪21的使用寿命的操纵器222。
图5根据本公开内容的实施例示出方法500。
方法500可开始于通过分子收集器聚集存在于第一真空腔室中的有机分子以提供经聚集有机分子的步骤510。
可在聚集周期期间并且当分子收集器位于第一真空腔室内的第一位置处时执行有机分子的聚集。第一真空腔室可流体耦合至受测试真空腔室并耦合至第二真空腔室。所述聚集导致经聚集有机分子。
在步骤510之后可以是将分子收集器从第一位置移动至第二真空腔室内的第二位置的步骤520。
在步骤520之后可为步骤530和540。
步骤530可包括通过释放单元并且在释放周期期间引发经聚集有机分子的至少子集的释放以提供经释放有机分子。可朝向质谱仪引导经释放有机分子。
步骤540可包括通过质谱仪监测第二真空腔室的内部空间,并且通过质谱仪产生指示第二真空腔室的内部空间的内容物的检测信号。
检测信号的第一子集可指示经释放有机分子的存在。
在步骤530和540之后可为步骤550和560。
步骤550可包括从第二真空腔室抽空任何经释放有机分子。
步骤560可包括通过分析仪并且基于检测信号确定(a)第一真空腔室和(b)流体耦合至第一真空腔室的受测试真空腔室中的至少一者的清洁度。
步骤560可包括比较在聚集周期期间获得的检测信号与在释放周期期间获得的检测信号。所述比较可包括比较代表相同原子量的分量的光谱元素。
所述比较可包括仅比较具有某些原子量的光谱分量——诸如,有机分子的原子量或者由于在质谱仪工艺期间有机分子断裂而产生的分子的原子量。
步骤560可包括基于第一真空腔室的清洁度确定受测试真空腔室的清洁度。可以以任何方式计算或测试第一真空腔室的清洁度与受测试真空腔室的清洁度之间的关系。
举例而言,可基于第一真空腔室和受测试真空腔室的清洁度彼此流体耦合的方式来确定所述关系。
举例而言,可多次并且独立于受测试真空腔室的清洁度的测量来测量第一真空腔室的清洁度,以提供两个真空腔室的多个清洁度结果。可基于两个真空腔室的多个清洁度结果来计算所述关系。计算的非限制性示例可包括相关性、匹配算法等。
注意,可以以周期性或非周期性的方式来将方法50重复多次。
在前述说明书中,已参考本公开内容的实施例的特定示例描述了本公开内容的实施例。然而,将显而易见,可在不脱离如在所附权利要求中所阐述的本公开内容的实施例的更广泛精神和范围的情况下在其中作出各种修改和改变。
此外,在描述中和在权利要求中,术语“前”、“后”、“顶部”、“底部”、“在……的上”、“在……下方”等术语(若存在)用于描述性目的而未必用于描述永久性相对位置。应理解,在适当情况下,如此使用的术语为可互换的,以使得本文所述的本公开内容的实施例(例如)能够以与本文所示或以其他方式描述的定向不同的定向来进行操作。
有效地“相关联用以实现相同功能的部件的任何布置,以使得实现所期望的功能。因而,可将本文中相组合以实现特定功能的任何两个部件视为彼此“相关联”,以使得实现所期望的功能,而与架构或中间部件无关。同样,还可将如此相关联的任何两个部件视为彼此“可操作地连接”或“可操作地耦合”以实现所期望的功能。
另外,本领域技术人员将认识到,上述操作之间的界限仅为说明性的。可将多个操作组合成单个操作,可将单个操作分布在额外操作中,并且可在时间上至少部分重叠地执行操作。此外,替代实施例可包括特定操作的多个实例,并且在各种其他实施例中可改变操作的次序。
然而,其他修改、变化和替代也为可能的。因此,应在说明性含义上而非限制性含义上来考虑本说明书和附图。
在权利要求中,放在括号之间的任何参考符号皆不应被解释为限制权利要求。词语“包括”不排除除了权利要求中所列出的元件或步骤以外的其他元件或步骤的存在。另外,如本文中所使用,术语“一(a)”或“一(an)”被定义为一个或多个。又,在权利要求中使用诸如“至少一个”和“一个或多个”之类的介绍性短语不应被解释为暗指由不定冠词“一(a)”或“一(an)”引入另一权利要求要素将含有此被引入的权利要求要素的任何特定权利要求限于仅含有一个此种要素的本公开内容的实施例,即使同一权利要求包括介绍性短语“一个或多个”或“至少一个”以及不定冠词(诸如,“一(a)”或“一(an)”)。除非另有说明,否则诸如“第一”和“第二”之类的术语用以任意地在这些术语所描述的元件之间进行区分。因此,这些术语未必意欲指示这些要素的时间或其他的优先级。在互不相同的权利要求中列举出某些措施的事实并不指示无法有利地使用这些措施的组合。
尽管本文中已示出并且描述了本公开内容的实施例的某些特征,但本领域技术人员现在将想到许多修改、取代、变化和等效物。因此,应理解到,所附权利要求意欲涵盖在本公开内容的实施例的真实精神内的任何此种修改和变化。
Claims (15)
1.一种清洁度监测器,包括:
第一真空腔室;
第二真空腔室;
质谱仪,所述质谱仪具有至所述第二真空腔室的内部空间的视线;
分子收集器,所述分子收集器经配置以在聚集周期期间并且当定位在所述第一真空腔室内的第一位置时聚集存在于所述第一真空腔室中的有机分子,以提供经聚集有机分子;
释放单元,所述释放单元经配置以在释放周期期间并且当所述收集器定位在所述第二真空腔室内的第二位置时引发所述经聚集有机分子的至少子集朝向所述质谱仪的释放,以提供经释放有机分子;
操纵器,所述操纵器经配置以使所述分子收集器从所述第一位置移动至所述第二位置;并且
其中所述质谱仪经配置以监测所述第二真空腔室的所述内部空间并且产生指示所述第二真空腔室的所述内部空间的内容物的检测信号;其中所述检测信号的第一子集指示所述经释放有机分子的存在;以及
分析仪,所述分析器经配置以基于所述检测信号来确定(a)所述第一真空腔室和(b)流体耦合至所述第一真空腔室的受测试真空腔室中的至少一者的所述清洁度。
2.如权利要求1所述的清洁度监测器,其中所述第一真空腔室的内部空间的容积大于所述第二真空腔室的所述内部空间的容积。
3.如权利要求1所述的清洁度监测器,其中所述第一真空腔室的内部空间的容积比所述第二真空腔室的所述内部空间的容积大至少十倍。
4.如权利要求1所述的清洁度监测器,包括密封单元,所述密封单元经配置以当所述收集器位于所述第二真空腔室内时将所述第一真空腔室与所述第二真空腔室分离。
5.如权利要求1所述的清洁度监测器,其中所述操纵器经配置以当所述收集器位于所述第二真空腔室内时将所述第一真空腔室与所述第二真空腔室分离。
6.如权利要求1所述的清洁度监测器,其中所述操纵器包括:(a)移动机构,所述移动机构机械耦合在所述分子收集器与所述第一真空腔室的内部空间之间;以及(b)波纹管,所述波纹管经配置以至少在所述第一位置与所述第二位置之间的移动期间将所述移动机构与所述第一真空腔室的所述内部空间隔离。
7.如权利要求1所述的清洁度监测器,包括流量控制单元,所述流量控制单元经配置以(i)在所述释放周期期间影响所述经释放有机分子的传播,和(ii)在所述释放周期的终点之后比较所述第二真空腔室的所述内部空间内的压力与所述第一真空腔室的所述内部空间内的压力。
8.如权利要求1所述的清洁度监测器,包括流量控制单元,所述流量控制单元包括涡轮分子泵和阀;其中所述阀经配置以在所述监测周期期间关闭;其中所述阀经配置以在所述释放周期的至少一部分期间将所述第二真空腔室的所述内部空间流体地耦合至所述涡轮分子泵。
9.如权利要求1所述的清洁度监测器,包括由所述第一真空腔室和所述第二真空腔室共享的开口;其中所述操纵器经配置以使所述分子收集器穿过所述开口,同时使所述分子收集器从所述第一位置移动至所述第二位置。
10.如权利要求1至9中任一项所述的清洁度监测器,其中所述释放单元包括加热元件,所述加热元件热耦合至分子聚集器和释放器中的所述分子聚集器。
11.如权利要求1所述的清洁度监测器,其中所述聚集周期比所述释放周期长。
12.一种用于清洁度确定的方法,所述方法包括:
当分子收集器位于第一真空腔室内的第一位置处时,通过所述分子收集器聚集存在于所述第一真空腔室中的有机分子以提供经聚集有机分子;其中所述第一真空腔室流体耦合至第二真空腔室;
使所述分子收集器从所述第一位置移动至第二真空腔室内的第二位置;
通过释放单元并且在释放周期期间引发所述经聚集有机分子的至少子集的释放,以提供经释放有机分子;
通过质谱仪监测所述第二真空腔室的内部空间;
通过所述质谱仪产生指示所述第二真空腔室的所述内部空间的内容物的检测信号;其中所述检测信号的第一子集指示所述经释放有机分子的存在;以及
通过分析仪并且基于所述检测信号确定所述第一真空腔室和受测试真空腔室中的至少一者的清洁度。
13.如权利要求12所述的方法,其中所述第一真空腔室的内部空间的容积大于所述第二真空腔室的所述内部空间的容积。
14.一种评估系统,包括:
受测试真空腔室;
评估模块,所述评估模块经配置以评估位于所述受测试真空腔室中的目标;以及
清洁度监测器,所述清洁度监测器经配置以监测所述受测试真空腔室和所述清洁度监测器的第一真空腔室中的至少一者的清洁度;
其中所述清洁度监测器进一步包括:
第二真空腔室;
质谱仪;
分子收集器,所述分子收集器经配置以在聚集周期期间并且当位于所述第一真空腔室内的第一位置时聚集存在于所述第一真空腔室中的有机分子,以提供经聚集有机分子;
释放单元,所述释放单元经配置以在释放周期期间并且当收集器位于所述第二真空腔室内的第二位置时,引发所述经聚集有机分子的至少子集朝向所述质谱仪的释放,以提供经释放有机分子;
操纵器,所述操纵器经配置以使所述分子收集器从所述第一位置移动至所述第二位置;以及
其中所述质谱仪具有至所述第二真空腔室的内部空间的视线;其中所述质谱仪经配置以监测所述第二真空腔室的所述内部空间并产生指示所述第二真空腔室的所述内部空间的内容物的检测信号;其中所述检测信号的第一子集指示所述经释放有机分子的存在;以及
分析仪,所述分析仪经配置以基于所述检测信号确定(a)所述第一真空腔室和(b)流体耦合至所述第一真空腔室的所述受测试真空腔室中的至少一者的所述清洁度。
15.如权利要求14所述的评估系统,其中所述第一真空腔室的内部空间的容积大于所述第二真空腔室的所述内部空间的容积。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/879,105 US11049704B1 (en) | 2020-05-20 | 2020-05-20 | Cleanliness monitor and a method for monitoring a cleanliness of a vacuum chamber |
US16/879,105 | 2020-05-20 | ||
PCT/US2021/031834 WO2021236379A1 (en) | 2020-05-20 | 2021-05-11 | Cleanliness monitor and a method for monitoring a cleanliness of a vacuum chamber |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN115668437A true CN115668437A (zh) | 2023-01-31 |
Family
ID=76548143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202180036355.4A Pending CN115668437A (zh) | 2020-05-20 | 2021-05-11 | 用于监测真空腔室的清洁度的清洁度监测器和方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11049704B1 (zh) |
KR (1) | KR20230010740A (zh) |
CN (1) | CN115668437A (zh) |
TW (1) | TWI759210B (zh) |
WO (1) | WO2021236379A1 (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115541443B (zh) * | 2022-11-30 | 2023-03-03 | 苏州浪潮智能科技有限公司 | 印刷电路板的检测方法、其检测装置及电路板的印刷设备 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5162652A (en) * | 1991-08-07 | 1992-11-10 | Pcp, Inc. | Method and apparatus for rapid detection of contraband and toxic materials by trace vapor detection using ion mobility spectrometry |
US5271264A (en) * | 1991-11-27 | 1993-12-21 | Applied Materials, Inc. | Method of in-situ particle monitoring in vacuum systems |
JPH10253557A (ja) * | 1997-03-07 | 1998-09-25 | Sony Corp | 電子線分析方法及びその分析装置 |
JP2011034741A (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-17 | Hitachi High-Technologies Corp | 気体分析装置及びそれを用いた検査装置 |
JP5957459B2 (ja) * | 2010-10-25 | 2016-07-27 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 真空環境における分子汚染の解析 |
KR102199642B1 (ko) * | 2014-01-14 | 2021-01-08 | 삼성디스플레이 주식회사 | 진공 장치 및 그것의 입자 모니터링 방법 |
US10910204B2 (en) | 2017-07-18 | 2021-02-02 | Applied Materials Israel Ltd. | Cleanliness monitor and a method for monitoring a cleanliness of a vacuum chamber |
US10217621B2 (en) | 2017-07-18 | 2019-02-26 | Applied Materials Israel Ltd. | Cleanliness monitor and a method for monitoring a cleanliness of a vacuum chamber |
KR102043884B1 (ko) * | 2019-04-11 | 2019-12-02 | 주식회사 에프엔에스 | 플라즈마 공정챔버 모니터링 장치 및 이를 이용한 플라즈마 공정챔버 모니터링 방법 |
-
2020
- 2020-05-20 US US16/879,105 patent/US11049704B1/en active Active
-
2021
- 2021-05-11 KR KR1020227044050A patent/KR20230010740A/ko active IP Right Grant
- 2021-05-11 WO PCT/US2021/031834 patent/WO2021236379A1/en active Application Filing
- 2021-05-11 CN CN202180036355.4A patent/CN115668437A/zh active Pending
- 2021-05-20 TW TW110118251A patent/TWI759210B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI759210B (zh) | 2022-03-21 |
US11049704B1 (en) | 2021-06-29 |
KR20230010740A (ko) | 2023-01-19 |
TW202204891A (zh) | 2022-02-01 |
WO2021236379A1 (en) | 2021-11-25 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
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