JP2007084625A - 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 (メタ)アクリレートを主成分とする光硬化性樹脂材料と、反応性希釈剤と、光重合開始剤とを含んでいる。(メタ)アクリレートとしては骨格内にベンゼン環構造を含む構造であることが好ましい。
【選択図】 図1
Description
また、本発明に係る光硬化性樹脂組成物の粘度は20mPa・s以下であることが好ましい。さらに、本発明に係る光硬化性樹脂組成物は、ドライエッチングによるエッチレートが2nm/s以下であることが好ましい。
本発明に係る光硬化性樹脂組成物に用いられる(メタ)アクリレート材としては、フェノキシグリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ベヘニル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシー3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、シクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化2メチル1,3プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2ヒドロキシ3アクリロイキシプロピルメタクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、1,6ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、リエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチルプールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどがあげられるがこれらに限定されない。
h=H/√((t/τ)+1), τ=3μS/(2πPH2)・・・関係式1
(H:初期膜厚、t:加圧時間、μ:樹脂粘度、S:加圧面積、P:加圧力)
関係式1からも明らかなようにベース層(加圧後の凸部の膜厚)を薄くするためには初期膜厚Hをできるだけ小さくすること、または、樹脂粘度μを小さくすることが有効であることが明白である。また、本発明に係る光硬化性樹脂組成物の粘度を20mPa・s以下とすることができ、これによって、上述したプロセスにおいてベース層4を薄膜化することが可能となる。これに対して、従来の光硬化性樹脂PAK−01は、粘度が72mPa・sであり、スピンコート法により塗膜を形成した後、深さが0.1μmのモールドを押し付け、光照射を行った結果、ベース層4の厚さが約2μmとなる。この場合、パターン高さが0.1μmであるとベース層4除去時にパターンも消失してしまうこととなり、基板加工のためのレジストマスクとしては使用できないこととなる。
試料を4inchシリコンウエハ上に1g滴下した後、500rpm/10s予備回転の後、3000rpm/90sの本回転を行った。その後酸素阻害等により硬化不良を防ぐため不活性雰囲気中で365nm波長の紫外線を5J/cm2照射して樹脂膜を形成した。硬化した膜の一部をカッター等で除去し段差計(テンコール社製)を用い基板と硬化膜表面の段差を測定しその結果を膜厚とした。
E型粘度計(東京計器製)を用い、サンプルカップ内に評価試料を1.2cc注入した。次にサンプルカップを本体に取付け、ロータを回転させ粘度を測定した。粘度の測定はすべて23℃で行った。
膜厚測定と同じ方法で樹脂膜を作製した後、一部をポリイミド粘着テープによりマスキングしたサンプルを作製した。次に、本サンプルをドライエッチャ(新港精機製)の処理室に導入した後、CF4ガスを流量10ml/min、圧力0.4Pa、出力250Wの条件で60s処理後、マスキングテープを剥がし、処理面と非処理面の段差を測定することでエッチレートの評価を行った。
1.光反応開始剤と反応性希釈剤を秤量。
2.反応性希釈剤中に光反応開始剤を投入し攪拌、溶解。
3.(メタ)アクリレート材を秤量の後、混合物に注入。
4.フッ素系界面活性剤を秤量の後、混合物中に投入。
5.ミックスロータにて1h攪拌。
6.超音波水槽にて5min攪拌。
7.0.2μmのメンブランフィルタにてろ過。
(メタ)アクリレート材としてebecryl605(30部)、反応性希釈剤としてN-ビニルピロリドン(70部)、光重合開始剤としてイルガキュアI-907(5部)、フッ素系界面活性剤としてメガファックR-08(0.1部)を配合した光硬化性樹脂組成物を作製した。この組成物の粘度、膜厚、エッチングレートを評価した。結果を表1に示す。
(メタ)アクリレート材としてebecryl605(20部)、反応性希釈剤としてN-ビニルピロリドン(80部)、光重合開始剤としてイルガキュアI-907(5部)、フッ素系界面活性剤としてメガファックR-08(0.1部)を配合した光硬化性樹脂組成物を作製した。この組成物の粘度、膜厚、エッチングレートを評価した。結果を表1に示す。
(メタ)アクリレート材としてebecryl605(10部)、反応性希釈剤としてN-ビニルピロリドン(90部)、光重合開始剤としてイルガキュアI-907(5部)、フッ素系界面活性剤としてメガファックR-08(0.1部)を配合した光硬化性樹脂組成物を作製した。この組成物の粘度、膜厚、エッチングレートを評価した。結果を表1に示す。
(メタ)アクリレート材として構造式1のモノマーでm+nが10の(メタ)アクリレート剤を(30部)、反応性希釈剤としてN-ビニルピロリドン(70部)、光重合開始剤としてイルガキュアI-907(5部)、フッ素系界面活性剤としてメガファックR-08(0.1部)を配合した光硬化性樹脂組成物を作製した。この組成物の粘度、膜厚、エッチングレートを評価した。結果を表1に示す。
(メタ)アクリレート材として構造式1のモノマーでm+nが10の(メタ)アクリレート剤を(10部)、反応性希釈剤としてN-ビニルピロリドン(90部)、光重合開始剤としてイルガキュアI-907(5部)、フッ素系界面活性剤としてメガファックR-08(0.1部)を配合した光硬化性樹脂組成物を作製した。この組成物の粘度、膜厚、エッチングレートを評価した。結果を表1に示す。
(メタ)アクリレート材として構造式1のモノマーでm+nが10のメタクリレート剤を30部、反応性希釈剤としてエチレングリコールジメタクリレートを70部、光重合開始剤としてイルガキュアI-907を5部、フッ素系界面活性剤としてメガファックR-08を0.1部配合した光硬化性樹脂を作製した。この樹脂の粘度、膜厚、エッチングレートを評価した。結果を表1に示す。
(メタ)アクリレート材として構造式1のモノマーでm-nが10のメタクリレート剤を10部、反応性希釈剤としてエチレングリコールジメタクリレート90部、光重合開始剤としてイルガキュアI-907を5部、フッ素系界面活性剤としてメガフアックR-08を0.1部配合した光硬化性樹脂を作製した。この樹脂の粘度、膜厚、エッチングレートを評価した。結果を表1に示す。
実施例5に記載の光硬化性樹脂材料を用い、以下の方法で基板上に微細構造体を形成した。(1) 4inchシリコンウエハ上に実施例5の光硬化性樹脂材料を1cc滴下後、7000rpmで90sスピンコートし80nmの樹脂膜を成膜した。(2) 表面に直径50nm、深さ100nmの微細な穴パターンが形成された1cm角の石英製のモールドを5kgf/cm2の圧力で光硬化性樹脂を押し付けた。(3) 超高圧水銀灯により365nm波長換算で5J/cm2の紫外線を照射した。(4) 金型を樹脂表面より剥離した。
実施例5に記載の光硬化性樹脂を用い、トラックピッチが80nmのラインパターンモールドを用い、実施例6に記載のプロセスで基板上にトラックパターンを転写の後、ドライエッチャ(新港精機製)の処理室にサンプルを導入した後、CF4ガスを流量10ml/min、圧力0.4Pa、出力250Wの条件で90s処理後、O2アッシャーにて残渣を除去し基板加工を行った。加工部のSEM写真を図3に示す。
実施例7に記載の光硬化性樹脂材料を用い、図4に示すように以下の方法で基板上に微細構造体を形成した。
以上のプロセスによりSi表面に直径50nm、高さ100nmの微細構造体を形成した。
光硬化性樹脂としてPAK-01(東洋合成製)を用い粘度、膜厚、エッチングレートを評価した。結果を表1に示す。
Claims (24)
- 微細なパターンが形成された金型を用い、前記パターン形成面を樹脂膜表面に接触させ、光照射により前記樹脂膜を硬化させ、微細なパターンを前記樹脂膜表面に形成する光硬化性樹脂材料において、前記光硬化性樹脂材料は(メタ)アクリレート、反応性希釈剤、光重合開始剤、フッ素系界面活性剤から構成されることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。
- 前記(メタ)アクリレートの一部が、骨格内にベンゼン環構造を含むことを特徴とする請求項1記載の光硬化性樹脂組成物。
- 前記構造式1中のm+nの値が下記の関係を示すことを特徴とする請求項3記載の光硬化性樹脂組成物。
4<n+m<17 - 前記構造式1中のm+nの値が10であることを特徴とする請求項3記載の光硬化性樹脂組成物。
- 前記光硬化性樹脂材料は、複数の(メタ)アクリレートの混合物であることを特徴とする請求項1記載の光硬化性樹脂組成物。
- 前記光硬化性樹脂材料及び反応性希釈剤の少なくとも一部は、トリプロピレンジオール(メタ)アクリレート及び/又はネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート及び/又はエチレングリコールジメタクリレートであることを特徴とする請求項1記載の光硬化性樹脂組成物。
- 前記反応性希釈剤がN-ビニルピロリドンを含むことを特徴とする請求項1記載の光硬化性樹脂組成物。
- 前記反応性希釈剤の配合比率が(メタ)アクリレート成分配合比率以上であることを特徴とする請求項1記載の光硬化性樹脂組成物。
- 粘度が20mPa・s以下であることを特徴とする請求項1記載の光硬化性樹脂組成物。
- ドライエッチングによるエッチレートが2nm/s以下であることを特徴とする請求項1記載の光硬化性樹脂組成物。
- 請求項1〜11いずれか一項記載の光硬化性樹脂組成物を基板上に滴下又は成膜する工程と、
パターンが形成されたパターン形成面を有する金型を用い、前記パターン形成面を光硬化性樹脂組成物からなる樹脂組成物に接触させ、前記パターン内に光硬化性樹脂組成物を充填させた後、光照射により前記膜を硬化させる工程と、金型を硬化した樹脂表面より剥離する工程とを含む、パターン形成方法。 - 請求項1〜11いずれか一項記載の光硬化性樹脂組成物からなる組成物表面に、パターンが形成されたパターン形成面を有する金型における前記パターン形成面を接触させ前記パターン内に光硬化性樹脂組成物を充填させるとともに光照射により前記樹脂組成物を硬化させて得られる、微細構造体。
- 請求項1〜11いずれか一項記載の光硬化性樹脂組成物を基板上に滴下又は成膜する工程と、
パターンが形成されたパターン形成面を有する金型を用い、前記パターン形成面を光硬化性樹脂組成物からなる樹脂組成物表面に接触させ、前記パターン内に樹脂組成物を充填させるとともに光照射により前記膜を硬化させる工程と、
前記硬化した膜の一部をエッチングした後、前記基板を前記硬化した膜をマスクとしてエッチングする工程とを含む、パターン形成方法。 - (メタ)アクリレートを主成分とする光硬化性樹脂材料と、反応性希釈剤と、光重合開始剤とを含む光硬化性樹脂組成物において、前記樹脂組成物の粘度が20mPa・s以下であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。
- (メタ)アクリレートを主成分とする光硬化性樹脂材料と、反応性希釈剤と、光重合開始剤とを含む光硬化性樹脂組成物において、前記樹脂組成物のドライエッチングによるエッチレートが2nm/s以下であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。
- 請求項15又は請求項16に記載の光硬化性樹脂組成物において、前記(メタ)アクリレートの一部が、骨格内にベンゼン環構造を含むことを特徴とする。
- 請求項18に記載の光硬化性樹脂組成物において、前記構造式1中のm+nの値が下記の関係を示すことを特徴とする。
4<n+m<17 - 請求項18に記載の光硬化性樹脂組成物において、前記構造式1中のm+nの値が下記の関係を示すことを特徴とする。
n+m=10 - 請求項15又は請求項16に記載の光硬化性樹脂組成物において、前記(メタ)アクリレートは、複数の(メタ)アクリレートの混合物であることを特徴とする。
- 請求項15又は請求項16に記載の光硬化性樹脂組成物において、前記(メタ)アクリレートの少なくとも一部は、トリプロピレンジオール(メタ)アクリレート又はネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートを含むことを特徴とする。
- 請求項15又は請求項16に記載の光硬化性樹脂組成物において、前記反応性希釈剤がN-ビニルピロリドンを含むことを特徴とする。
- 請求項15又は請求項16に記載の光硬化性樹脂組成物において、前記反応性希釈剤の配合比率が(メタ)アクリレート成分配合比率以上であることを特徴とする。
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