JP2009062433A - インプリント成形用組成物及びそれを用いた成形物 - Google Patents

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Abstract

【課題】モールドへ流れ込み易く、IZOやITO等の金属酸化物に対する接着性に優れた紫外線硬化型のインプリント成形用組成物を提供する。
【解決手段】ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー(A)と、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー及びカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートモノマー(B)と、光重合開始剤(C)とを含んでなり、粘度が1000 mPa・s以下であることを特徴とするインプリント成形用組成物である。
【選択図】なし

Description

本発明は、インプリント成形用組成物及びそれを用いた成形物に関し、特にはモールドへ流れ込み易く、IZOやITO等の金属酸化物に対する接着性に優れた紫外線硬化型のインプリント成形用組成物に関するものである。
昨今、微細なパターンを低コストで形成する技術としてインプリント成形技術が精力的に研究されている。該インプリント成形技術は、基材上に配置した樹脂材料層に所望の凹凸を有するモールドを押し当てることで所望のパターンを基材上に形成する技術である。そして、該インプリント成形技術においては、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を用い、熱でパターンを形成する方法と、紫外線硬化型の樹脂を用い、紫外線照射でパターンを形成する方法が知られている。
しかしながら、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を用いた場合は、加熱及び加圧に大量のエネルギーを消費せざるを得ず、また、成形時間が長くなって、生産性が低下する問題がある。一方、通常の紫外線硬化型樹脂を用いた場合は、硬化時の収縮が大きいため、形成されたパターンと基材との密着性が悪く、特にIZOやITO等の透明導電性金属酸化物に対する接着性が悪い。また、紫外線硬化型樹脂として、高分子量のオリゴマーをモノマーで希釈して調製した原料組成物を使用した場合は、原料組成物が高粘度となって、モールドに原料組成物が流れ込み難く、転写率が低下したり、不要な部分に薄膜が残存したりして、成形性が低下する問題もある。
特開2006−272947号公報 松井真二著,「ナノインプリントの開発と応用」シーエムシー出版,2005年8月出版
そこで、本発明の目的は、上記従来技術の問題を解決し、エネルギー消費量が小さく、成形時間が短い上、モールドへ流れ込み易く、IZOやITO等の金属酸化物に対する接着性に優れた紫外線硬化型のインプリント成形用組成物を提供することにある。
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、特定の(メタ)アクリレートオリゴマーと、特定の(メタ)アクリレートモノマーとを含み、粘度が一定以下の組成物が、モールドへ流れ込み易く、IZOやITO等の金属酸化物に対する接着性に優れることを見出し、本発明を完成させるに至った。
即ち、本発明のインプリント成形用組成物は、
・ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー(A)と、
・ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー及びカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートモノマー(B)と、
・光重合開始剤(C)とを含んでなり、
・粘度が1000 mPa・s以下であることを特徴とする。
本発明のインプリント成形用組成物は、(メタ)アクリロイル基からヒドロキシル基までの炭素数が2であるヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを40質量%以上含むことが好ましい。
また、本発明のインプリント成形用組成物は、カルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを30質量%以上含むことも好ましい。
本発明のインプリント成形用組成物において、前記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)の含有量は30質量%以上であることが好ましい。
また、本発明のインプリント成形用組成物は、更に、(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーを含むことが好ましい。
本発明のインプリント成形用組成物は、前記粘度が10〜1000 mPa・sであることが好ましい。
本発明のインプリント成形用組成物の好適例においては、前記光重合開始剤(C)の配合量が、前記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)と前記(メタ)アクリレートモノマー(B)との合計100質量部に対して0.1〜10質量部である。
また、本発明の成形物は、上記のインプリント成形用組成物を紫外線照射により硬化させてなり、ガラス転移温度(Tg)が50℃以上であることが好ましく、ディスプレイ用リブ材として好適である。
本発明によれば、特定の(メタ)アクリレートオリゴマー(A)と、特定の(メタ)アクリレートモノマー(B)と、光重合開始剤(C)とを含み、粘度が1000 mPa・s以下であって、モールドへ流れ込み易く、IZOやITO等の金属酸化物に対する接着性に優れた紫外線硬化型のインプリント成形用組成物を提供することができる。
以下に、本発明を詳細に説明する。本発明のインプリント成形用組成物は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー(A)と、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー及びカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートモノマー(B)と、光重合開始剤(C)とを含んでなり、粘度が1000 mPa・s以下であることを特徴とする。
本発明のインプリント成形用組成物においては、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーのヒドロキシル基及び/又はカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーのカルボキシル基がIZOやITO等の金属酸化物と水素結合するため、これら金属酸化物に対する接着性が大幅に向上しており、脱型時のパターン剥がれを防止することができる。
また、本発明のインプリント成形用組成物は、上記モノマーに比べて分子量が大きいウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及び/又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーを含むため、紫外線照射で形成される成形物が高い強度を有する。
更に、本発明のインプリント成形用組成物は、粘度が1000 mPa・s以下であるため、モールド(型)へ流れ込み易く、転写率を十分に向上させることができると共に、残膜厚さを十分に薄くすることができる。なお、本発明のインプリント成形用組成物は、粘度の下限に特に制限はないが、基材に対する接着性の観点から、粘度が10 mPa・s以上であることが好ましい。
本発明のインプリント成形用組成物に用いる(メタ)アクリレートオリゴマー(A)は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及び/又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーであり、ウレタンアクリレートオリゴマー及び/又はエポキシアクリレートオリゴマーであることが好ましい。なお、これら(メタ)アクリレートオリゴマーは、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。インプリント成形用組成物がこれらの(メタ)アクリレートオリゴマーを含まない場合、紫外線照射で形成される成形物の強度が低下してしまう。
上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、(メタ)アクリロイルオキシ基(CH2=CHCOO−又はCH2=C(CH3)COO−)を1つ以上有し、ウレタン結合(−NHCOO−)を複数有する化合物である。該ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとからウレタンプレポリマーを合成し、該ウレタンプレポリマーに水酸基を有する(メタ)アクリレートを付加させることによって製造することができる。
上記ウレタンプレポリマーの合成に用いるポリオールは、水酸基(OH基)を複数有する化合物であり、該ポリオールとして、具体的には、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリテトラメチレングリコール、ポリブタジエンポリオール、アルキレンオキサイド変性ポリブタジエンポリオール及びポリイソプレンポリオール等が挙げられる。なお、上記ポリエーテルポリオールは、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコールに、エチレンオキシドやプロピレンオキシド等のアルキレンオキサイドを付加させて得られ、また、上記ポリエステルポリオールは、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、プロピレングリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン等の多価アルコールと、アジピン酸、グルタル酸、コハク酸、セバシン酸、ピメリン酸、スベリン酸等の多価カルボン酸とから得られる。
上記ポリイソシアネートは、イソシアネート基(NCO基)を複数有する化合物であって、該ポリイソシアネートとして、具体的には、トリレンジイソシアネート(TDI)、ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、粗製ジフェニルメタンジイソシアネート(クルードMDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)や、これらのイソシアヌレート変性物、カルボジイミド変性物、グリコール変性物等が挙げられる。
上記ウレタンプレポリマーの合成においては、ウレタン化反応用の触媒を用いることが好ましい。該ウレタン化反応用触媒としては、有機スズ化合物、無機スズ化合物、有機鉛化合物、モノアミン類、ジアミン類、トリアミン類、環状アミン類、アルコールアミン類、エーテルアミン類、有機スルホン酸、無機酸、チタン化合物、ビスマス化合物、四級アンモニウム塩等が挙げられ、これらの中でも、有機スズ化合物が好ましい。また、好適な有機スズ化合物としては、ジブチルスズジラウレート,ジブチルスズジアセテート,ジブチルスズチオカルボキシレート,ジブチルスズジマレエート,ジオクチルスズチオカルボキシレート,オクテン酸スズ,モノブチルスズオキシド等が挙げられる。
また、上記ウレタンプレポリマーに付加させる水酸基を有する(メタ)アクリレートは、水酸基を1つ以上有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を1つ以上有する化合物である。該水酸基を有する(メタ)アクリレートは、上記ウレタンプレポリマーのイソシアネート基に付加することができる。該水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、上記エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーは、グリシジル基を有する化合物、好ましくは、グリシジル基を有し且つベンゼン環、ナフタレン環、スピロ環、ジシクロペンタジエン、トリシクロデカン等の環状構造を有する化合物と(メタ)アクリル酸とを反応させることによって製造することができる。
上記グリシジル基を有する化合物としては、ビスフェノールA又はビスフェノールFとエピクロロヒドリンとの反応によって得られるビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。
本発明のインプリント成形用組成物は、上記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)を30質量%以上含むことが好ましい。インプリント成形用組成物中の(メタ)アクリレートオリゴマー(A)の含有量が30質量%以上であれば、十分な強度を有する成形物を得ることができる。また、本発明のインプリント成形用組成物は、上記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)の含有量が60質量%以下であることが好ましい。(メタ)アクリレートオリゴマー(A)の含有量が60質量%以下であれば、インプリント成形用組成物の粘度が十分に低くなる。
本発明のインプリント成形用組成物に用いる(メタ)アクリレートモノマー(B)は、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー及び/又はカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーであり、ヒドロキシル基含有アクリレートモノマー及び/又はカルボキシル基含有アクリレートモノマーであることが好ましい。なお、これら(メタ)アクリレートモノマーは、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。インプリント成形用組成物がこれらの(メタ)アクリレートモノマーを含まない場合、成形物がIZOやITO等の金属酸化物と水素結合できないため、これら金属酸化物に対する接着性が悪化し、脱型時に基材から成形物が剥離し易くなる。
上記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーは、水酸基を1つ以上有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を1つ以上有する化合物であり、(メタ)アクリロイル基(CH2=CHCO−又はCH2=C(CH3)CO−)からヒドロキシル基までの炭素数が2であることが好ましい。かかるヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーとして、具体的には、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート及び2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが特に好ましい。(メタ)アクリロイル基からヒドロキシル基までの炭素数が3以上では、インプリント成形用組成物の金属酸化物に対する接着性が不十分なことがあり、一方、(メタ)アクリロイル基からヒドロキシル基までの炭素数が1の化合物は、合成及び入手が困難である。
本発明のインプリント成形用組成物が(メタ)アクリレートモノマー(B)としてヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを含む場合、該ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの含有量は、40質量%以上であることが好ましい。インプリント成形用組成物中のヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの含有量が40質量%未満では、インプリント成形用組成物の金属酸化物に対する接着性が不十分で、脱型時に基材から成形物が剥離し易くなる。なお、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの含有量は、紫外線照射で形成される成形物の強度の観点から、70質量%以下であることが好ましい。
上記カルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーは、カルボキシル基を1つ以上有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を1つ以上有する化合物である。該カルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーとして、具体的には、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、β-(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロジェンサクシネート、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンフタレート、β-(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロジェンフタレート、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンテトラヒドロフタレート、β-(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロジェンテトラヒドロフタレート、β-(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロジェンヘキサヒドロフタレート、β-(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロジェンヘキサヒドロフタレート、β-トリス(アクリロイルオキシメチル)エチルハイドロジェンフタレート等が挙げられる。
本発明のインプリント成形用組成物が(メタ)アクリレートモノマー(B)としてカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを含む場合、該カルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの含有量は、30質量%以上であることが好ましい。インプリント成形用組成物中のカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの含有量が30質量%未満では、インプリント成形用組成物の金属酸化物に対する接着性が不十分で、脱型時に基材から成形物が剥離し易くなる。なお、カルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの含有量は、紫外線照射で形成される成形物の強度の観点から、70質量%以下であることが好ましい。
本発明のインプリント成形用組成物に用いる光重合開始剤(C)は、紫外線を照射されることによって、上述した(メタ)アクリレートオリゴマー(A)や(メタ)アクリレートモノマー(B)の重合を開始させる作用を有する。該光重合開始剤(C)としては、4-ジメチルアミノ安息香酸、4-ジメチルアミノ安息香酸エステル、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、アセトフェノンジエチルケタール、アルコキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン及び3,3-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、4,4-ジメトキシベンゾフェノン、4,4-ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、ベンゾイル安息香酸アルキル、ビス(4-ジアルキルアミノフェニル)ケトン、ベンジル及びベンジルメチルケタール等のベンジル誘導体、ベンゾイン及びベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾインイソプロピルエーテル、2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、キサントン、チオキサントン及びチオキサントン誘導体、フルオレン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキシド、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1,2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(モルホリノフェニル)-ブタノン-1等が挙げられる。これら光重合開始剤(C)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明のインプリント成形用組成物における上記光重合開始剤(C)の配合量は、上記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)と上記(メタ)アクリレートモノマー(B)との合計100質量部に対して0.1〜10質量部の範囲が好ましい。光重合開始剤の配合量が0.1質量部未満では、インプリント成形用組成物の紫外線硬化を開始させる効果が小さく、一方、10質量部を超えると、紫外線硬化を開始させる効果が飽和する一方、インプリント成形用組成物の原料コストが高くなる。
本発明のインプリント成形用組成物は、更に、(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーを含むことが好ましい。上記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)及び(メタ)アクリレートモノマー(B)からなるインプリント成形用組成物から作製した成形物(硬化物)は、ガラス転移温度(Tg)が低く、若干タック性を有することがある。一方、インプリント成形用組成物が(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーを含む場合、成形物中に環構造が導入され、成形物のガラス転移温度(Tg)が上昇して、成形物のタック性を低減することができる。
なお、インプリント成形用組成物に架橋剤を添加することでも、成形物のガラス転移温度を上昇させることができるが、この場合、成形物の架橋度が上昇するため、硬化収縮が起こり、成形物の基材への接着力が低下することがある。一方、インプリント成形用組成物に(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーを添加して、成形物中に環構造を導入した場合は、成形物の架橋度が上昇することが無いため、成形物の基材への接着力を維持しつつ、成形物のガラス転移温度を上昇させ、成形物のタック性を低減することが可能となる。
上記(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーは、環を1つ以上有し、(メタ)アクリロイル基を1つ以上有する化合物である。ここで、環としては、イソボルニル、ベンゼン環、モルホリン環、トリアジン環等が挙げられ、これらの中でも、モルホリン環等の複素環が好ましい。また、(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーとして、具体的には、(メタ)アクリロイルモルホリン等が挙げられる。上記(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーの含有量は、インプリント成形用組成物中5〜50質量%の範囲が好ましく、10〜50質量%の範囲が更に好ましい。(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーの含有量が5質量%未満では、成形物のガラス転移温度を上昇させてタック性を低減する効果が不十分であり、一方、50質量%を超えると、オリゴマー量の減少により強伸度が低下し、また、ヒドロキシル基含有モノマー及び/又はカルボキシル基含有モノマーの減少により、基材接着力が低下するので基材から成形物が剥離し易くなる。
上述のように、本発明のインプリント成形用組成物は、モールドへ流れ込み易く、IZOやITO等の金属酸化物に対する接着性に優れる。従って、本発明のインプリント成形用組成物を紫外線照射により硬化させてなる成形物は、転写率が高く、残膜厚さも非常に薄く、基材から剥離し難く、ディスプレイ用リブ材として好適である。
なお、上記インプリント成形用組成物を硬化させてなる成形物は、ガラス転移温度(Tg)が50℃以上であることが好ましい。ガラス転移温度が50℃以上であれば、成形物のタック性が非常に低く、粉体が付着し難いため、電子粉流体を用いたディスプレイのリブ材として特に好適である。
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。
表1及び表2に示す配合のインプリント成形用組成物を調製して、下記の方法で25℃での粘度を測定し、更に、下記の方法で転写率、残膜厚さ、基材に対する接着強度、成形物のガラス転移温度を測定した。また、成形物の基材からの剥離の有無、成形物のタック性を観察した。結果を表1及び表2に示す。
(1)粘度
回転式粘度計(型番:RS600, 英弘精機&サーモエレクトロン製)を用い、25℃で一定温度に保たれた測定用プレートにサンプルとなるUV硬化樹脂液をのせ、専用コーンプレート(直径2cm, コーン中心とサンプル最表面でなす角度1度)を用い、ずり速度0.01s-1〜1000s-1をかけながらコーンプレートを回転させ、応力を検知し、応力とずり速度との関係から粘度値を得た。
(2)転写率及び残膜厚さ
成形物が載ったフィルムをカミソリ刃で切断し、得られた試料をPP製の小型容器に入れ、常温硬化エポキシ樹脂を流し、硬化させる。小型容器から硬化物を取り出し、それを回転研磨機[ストルアス製ロトポール]で成形物の断面が見えるまで研磨する。得られた試料をデジタルマイクロスコープ[キーエンス製VHX DIGITAL. MICROSCOPE]で成形物の断面を観察し、成形物の凸部の上底、下底、高さから断面積を算出し、金型断面積に対する成形物断面積の割合を算出して転写率を求めた。また、残膜厚さについては、同様に成形物の凹部の基材上に残存する薄膜厚さを測定したものである。なお、転写率については、90%以上であれば良好であり、残膜厚さついては、1μm以下であれば良好である。
(3)基材に対する接着強度
PET基材に蒸着されたIZO上にUV硬化樹脂液をバーコーターで100μm厚に塗布する。その後、裏打ち材として同様のフィルムをIZO面が樹脂液に向くように載せ、ゴムローラーで樹脂液を伸ばし、UV照射(-700 mW/cm2, 3000 mJ/cm2)し、樹脂液を硬化させる。得られたサンプルの持ち手部分を剥離試験機[オリエンテック製STA−1150]のチャックに挟み、50 mm/minで引き上げ、得られた荷重値と試料の幅から接着強度を算出した。なお、接着強度は、500 N/m以上であれば良好である。
(4)成形物のガラス転移温度
7mm×50mm×1mmの板状UV硬化組成物を作製し、動的粘弾性測定機[SII製EXSTAR−6000]にて試験片を引っ張り振動用治具に固定し、1 Hzの周波数で応力をかけ、その際に発生する応答を検知させる。測定より求められたE'(貯蔵弾性率)、E"(損失弾性率)より正弦損失tanδを求め、そのピークが発生する温度をTg(ガラス転移温度)とした。なお、ガラス転移温度は、50℃以上であれば良好である。
Figure 2009062433
Figure 2009062433
*1 共栄社化学製, 商品名「3002A」, エポキシアクリレートオリゴマー, 重量平均分子量(Mw)=600, ビスフェノールA骨格
*2 日本化薬製, 商品名「UX2201」, ポリエーテルポリオール由来のウレタンアクリレートオリゴマー, 重量平均分子量(Mw)=7200
*3 日本合成化学製, 商品名「UV3000B」, ポリエステルポリオール由来のウレタンアクリレートオリゴマー, 重量平均分子量(Mw)=18000
*4 日本合成化学製, 商品名「UV3700B」, ポリエーテルポリオール由来のウレタンアクリレートオリゴマー, 重量平均分子量(Mw)=36000
*5 共栄社化学製, 商品名「HO−A」, 2-ヒドロキシエチルアクリレート
*6 共栄社化学製, 商品名「HOP−A」, 2-ヒドロキシプロピルアクリレート
*7 共栄社化学製, 商品名「HOB−A」, 2-ヒドロキシブチルアクリレート
*8 新中村化学製, 商品名「A−SA」, β-アクリロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート
*9 共栄社化学製, 商品名「LA」, ラウリルアクリレート
*10 大阪有機化学製, 商品名「4−HBA」, 4-ヒドロキシブチルアクリレート
*11 新中村化学製, 商品名「A−MO」, アクリロイルモルホリン
*12 チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製, 商品名「IRGACURE 184」, 1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン
表1から、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーと、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー又はカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを含み、粘度が1000 mPa・s以下である実施例1〜8のインプリント成形用組成物は、転写率が高く、残膜厚さが薄い上、IZOフィルムに対する接着強度が高く、IZOフィルムから成形物が剥離することが無かった。
また、実施例5〜8の結果から、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー又はカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーに加え、アクリロイルモルホリンを含むインプリント成形用組成物は、成形物のガラス転移温度が高く、タック性が小さいため、電子粉流体を用いたディスプレイのリブ材の形成に特に好適であることが分かった。
一方、粘度が1000 mPa・sを超える比較例1〜4のインプリント成形用組成物は、転写率が低く、残膜厚さが厚かった。また、ラウリルアクリレートを配合した比較例5のインプリント成形用組成物は、IZOフィルムに対する接着強度が低く、IZOフィルムから成形物が剥離してしまった。
なお、(メタ)アクリロイル基からヒドロキシル基までの炭素数が4であるヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを配合した実施例9のインプリント成形用組成物は、IZOフィルムに対する接着強度が低く、IZOフィルムから成形物が剥離してしまったため、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーとしては、(メタ)アクリロイル基からヒドロキシル基までの炭素数が2である化合物が好ましいことが分かる。

Claims (10)

  1. ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー(A)と、
    ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー及びカルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートモノマー(B)と、
    光重合開始剤(C)とを含んでなり、
    粘度が1000 mPa・s以下であることを特徴とするインプリント成形用組成物。
  2. (メタ)アクリロイル基からヒドロキシル基までの炭素数が2であるヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを40質量%以上含むことを特徴とする請求項1に記載のインプリント成形用組成物。
  3. カルボキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを30質量%以上含むことを特徴とする請求項1に記載のインプリント成形用組成物。
  4. 前記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)の含有量が30質量%以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のインプリント成形用組成物。
  5. 更に、(メタ)アクリロイル基含有環式モノマーを含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のインプリント成形用組成物。
  6. 前記粘度が10〜1000 mPa・sであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のインプリント成形用組成物。
  7. 前記光重合開始剤(C)の配合量が、前記(メタ)アクリレートオリゴマー(A)と前記(メタ)アクリレートモノマー(B)との合計100質量部に対して0.1〜10質量部であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のインプリント成形用組成物。
  8. 請求項1〜7のいずれかに記載のインプリント成形用組成物を紫外線照射により硬化させてなる成形物。
  9. ガラス転移温度(Tg)が50℃以上であることを特徴とする請求項8に記載の成形物。
  10. ディスプレイ用リブ材であることを特徴とする請求項9に記載の成形物。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009209244A (ja) * 2008-03-03 2009-09-17 Bridgestone Corp インプリント成形用組成物及びそれを用いた成形物
JP2012049301A (ja) * 2010-08-26 2012-03-08 Daicel Corp 微細パターン形成用放射線硬化性樹脂組成物、及び該組成物を用いた微細構造体の製造方法
JP2013245229A (ja) * 2012-05-23 2013-12-09 Asahi Glass Co Ltd インプリント用光硬化性組成物および微細パターンを表面に有する成形体の製造方法
JP2017210578A (ja) * 2016-05-27 2017-11-30 協立化学産業株式会社 硬化性樹脂組成物
JP2019129280A (ja) * 2018-01-26 2019-08-01 協立化学産業株式会社 インプリント成型用光硬化性樹脂組成物

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101953367B1 (ko) 2017-12-07 2019-05-24 삼성디스플레이 주식회사 광경화성 수지 조성물 및 이를 이용한 윈도우 부재의 제조 방법

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006523728A (ja) * 2003-04-14 2006-10-19 ミヌタ・テクノロジー・カンパニー・リミテッド 微細パターンの形成に用いられるモールド用樹脂組成物およびそれからの有機モールドの製作方法
JP2007001250A (ja) * 2005-06-27 2007-01-11 Asahi Glass Co Ltd 微細パターン形成体の製造方法
JP2007084625A (ja) * 2005-09-20 2007-04-05 Hitachi Chem Co Ltd 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法
JP2007188570A (ja) * 2006-01-12 2007-07-26 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法、磁気ディスク装置
JP2007245684A (ja) * 2006-03-20 2007-09-27 Sekisui Chem Co Ltd レプリカモールドの製造方法
WO2007145246A1 (ja) * 2006-06-14 2007-12-21 Hitachi Chemical Co., Ltd. 樹脂組成物、およびこれを用いてなる積層型光学部材
JP2008155344A (ja) * 2006-12-26 2008-07-10 Hitachi Chem Co Ltd 液状光重合性組成物、それを用いたナノ構造物およびその製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006523728A (ja) * 2003-04-14 2006-10-19 ミヌタ・テクノロジー・カンパニー・リミテッド 微細パターンの形成に用いられるモールド用樹脂組成物およびそれからの有機モールドの製作方法
JP2007001250A (ja) * 2005-06-27 2007-01-11 Asahi Glass Co Ltd 微細パターン形成体の製造方法
JP2007084625A (ja) * 2005-09-20 2007-04-05 Hitachi Chem Co Ltd 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法
JP2007188570A (ja) * 2006-01-12 2007-07-26 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法、磁気ディスク装置
JP2007245684A (ja) * 2006-03-20 2007-09-27 Sekisui Chem Co Ltd レプリカモールドの製造方法
WO2007145246A1 (ja) * 2006-06-14 2007-12-21 Hitachi Chemical Co., Ltd. 樹脂組成物、およびこれを用いてなる積層型光学部材
JP2008155344A (ja) * 2006-12-26 2008-07-10 Hitachi Chem Co Ltd 液状光重合性組成物、それを用いたナノ構造物およびその製造方法

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009209244A (ja) * 2008-03-03 2009-09-17 Bridgestone Corp インプリント成形用組成物及びそれを用いた成形物
JP2012049301A (ja) * 2010-08-26 2012-03-08 Daicel Corp 微細パターン形成用放射線硬化性樹脂組成物、及び該組成物を用いた微細構造体の製造方法
JP2013245229A (ja) * 2012-05-23 2013-12-09 Asahi Glass Co Ltd インプリント用光硬化性組成物および微細パターンを表面に有する成形体の製造方法
JP2017210578A (ja) * 2016-05-27 2017-11-30 協立化学産業株式会社 硬化性樹脂組成物
WO2017203783A1 (ja) * 2016-05-27 2017-11-30 協立化学産業株式会社 硬化性樹脂組成物
JP2019129280A (ja) * 2018-01-26 2019-08-01 協立化学産業株式会社 インプリント成型用光硬化性樹脂組成物

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