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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4781049B2 (ja) * 2005-08-30 2011-09-28 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
JP2009021555A (ja) * 2007-06-12 2009-01-29 Canon Inc 露光装置
US20090106307A1 (en) * 2007-10-18 2009-04-23 Nova Spivack System of a knowledge management and networking environment and method for providing advanced functions therefor
KR101559425B1 (ko) * 2009-01-16 2015-10-13 삼성전자주식회사 반도체 소자의 제조 방법
JP5290063B2 (ja) * 2009-06-17 2013-09-18 株式会社日立ハイテクノロジーズ プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法
EP2423749B1 (en) 2010-08-24 2013-09-11 ASML Netherlands BV A lithographic apparatus and device manufacturing method
HK1246871A1 (en) * 2015-02-23 2018-09-14 Nikon Corporation Measurement device, lithography system and exposure device, and management method, superposition measurement method and device manufacturing method
EP3923075A1 (en) * 2020-06-08 2021-12-15 ASML Netherlands B.V. Apparatus for use in a metrology process or lithographic process
US11740564B2 (en) * 2020-06-18 2023-08-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Lithography apparatus and method using the same
CN115903941A (zh) * 2021-08-20 2023-04-04 长鑫存储技术有限公司 控温装置及控温方法
CN115877665A (zh) * 2021-09-29 2023-03-31 长鑫存储技术有限公司 控温装置及控温方法
JP2024153349A (ja) * 2023-04-17 2024-10-29 キヤノン株式会社 温調装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60158626A (ja) * 1984-01-30 1985-08-20 Canon Inc 半導体露光装置
JPH0785112B2 (ja) * 1987-02-16 1995-09-13 キヤノン株式会社 ステージ装置
US4989031A (en) * 1990-01-29 1991-01-29 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
JPH03252507A (ja) * 1990-03-02 1991-11-11 Hitachi Ltd レーザ干渉測長装置およびそれを用いた位置決め方法
US5877843A (en) * 1995-09-12 1999-03-02 Nikon Corporation Exposure apparatus
KR100542414B1 (ko) * 1996-03-27 2006-05-10 가부시키가이샤 니콘 노광장치및공조장치
TW333658B (en) * 1996-05-30 1998-06-11 Tokyo Electron Co Ltd The substrate processing method and substrate processing system
US6714278B2 (en) * 1996-11-25 2004-03-30 Nikon Corporation Exposure apparatus
EP1197801B1 (en) 1996-12-24 2005-12-28 ASML Netherlands B.V. Lithographic device with two object holders
JPH11204396A (ja) * 1998-01-08 1999-07-30 Canon Inc 半導体製造システムおよびデバイス製造方法
JP2000311844A (ja) * 1999-04-27 2000-11-07 Canon Inc 半導体製造装置
JP3595756B2 (ja) * 2000-06-01 2004-12-02 キヤノン株式会社 露光装置、リソグラフィ装置、ロードロック装置、デバイス製造方法およびリソグラフィ方法
JP2002124451A (ja) * 2000-10-17 2002-04-26 Nikon Corp 温度制御方法、温調チャンバ及び露光装置
WO2002054463A1 (fr) * 2000-12-28 2002-07-11 Nikon Corporation Dispositif d'exposition
US7238199B2 (en) * 2001-03-06 2007-07-03 The Board Of Regents Of The University Of Texas System Method and apparatus for stent deployment with enhanced delivery of bioactive agents
JPWO2002075795A1 (ja) * 2001-03-19 2004-07-08 株式会社ニコン 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2003115451A (ja) * 2001-07-30 2003-04-18 Canon Inc 露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
JP2003114724A (ja) * 2001-10-04 2003-04-18 Canon Inc 非干渉化温調制御装置、協調空調装置、およびこれらを用いる露光装置
US6778258B2 (en) * 2001-10-19 2004-08-17 Asml Holding N.V. Wafer handling system for use in lithography patterning
JP3595791B2 (ja) * 2001-11-19 2004-12-02 キヤノン株式会社 半導体製造装置
JP2004128213A (ja) * 2002-10-02 2004-04-22 Canon Inc 温調システム及びそれを組み込んだ露光装置
JP2004289147A (ja) * 2003-03-06 2004-10-14 Nikon Corp 露光装置とその方法及び電子デバイスの製造方法
JP3870182B2 (ja) * 2003-09-09 2007-01-17 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
JP2005142382A (ja) 2003-11-07 2005-06-02 Canon Inc 露光装置
JP4572896B2 (ja) * 2004-02-19 2010-11-04 株式会社ニコン 露光装置及びデバイスの製造方法
JP4418699B2 (ja) * 2004-03-24 2010-02-17 キヤノン株式会社 露光装置
JP4418724B2 (ja) 2004-09-17 2010-02-24 キヤノン株式会社 露光装置
JP4781049B2 (ja) * 2005-08-30 2011-09-28 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
JP2009021555A (ja) * 2007-06-12 2009-01-29 Canon Inc 露光装置

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