JP2007024884A - 半導体装置、テスト基板、半導体装置のテストシステム及び半導体装置のテスト方法 - Google Patents

半導体装置、テスト基板、半導体装置のテストシステム及び半導体装置のテスト方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2007024884A
JP2007024884A JP2006190578A JP2006190578A JP2007024884A JP 2007024884 A JP2007024884 A JP 2007024884A JP 2006190578 A JP2006190578 A JP 2006190578A JP 2006190578 A JP2006190578 A JP 2006190578A JP 2007024884 A JP2007024884 A JP 2007024884A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
test
pattern data
semiconductor device
test pattern
speed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006190578A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007024884A5 (ja
Inventor
Woo-Seop Kim
▲ウー▼燮 金
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of JP2007024884A publication Critical patent/JP2007024884A/ja
Publication of JP2007024884A5 publication Critical patent/JP2007024884A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/56External testing equipment for static stores, e.g. automatic test equipment [ATE]; Interfaces therefor
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/56External testing equipment for static stores, e.g. automatic test equipment [ATE]; Interfaces therefor
    • G11C29/56012Timing aspects, clock generation, synchronisation
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/56External testing equipment for static stores, e.g. automatic test equipment [ATE]; Interfaces therefor
    • G11C2029/5602Interface to device under test

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

【課題】半導体装置、テスト基板、半導体装置のテストシステム及び半導体装置のテスト方法を提供する。
【解決手段】第1の速度でテストパターンデータが直列に入力される入力端子と、入力端子と一対一に対応し、第1の速度と異なる第2の速度でテストパターンデータを直列に外部に出力する出力端子と、を含む。これにより、テストのコストを減少させることができ、テストの能率とテスト結果に関する信頼性を高めることができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体装置、テスト基板、半導体装置のテストシステム及び半導体装置のテスト方法に係り、より詳しくは、テストの信頼性を向上させた半導体装置、テスト基板、半導体装置のテストシステム及び半導体装置のテスト方法に関するものである。
半導体装置の性能テストは、半導体装置が完成された後、製造工程の中で発生する可能性がある不良の存在有無をチェックするため遂行される。ところで、高速で動作する半導体装置の入力端子及び出力端子をテストするために、テスターはテストパターンデータを高速で提供したり、半導体装置から出力される高速のテストパターンデータを読み出すことができなければならない。従って、半導体装置の動作速度が早くなるようになれば、これをテストするため高速のテスターを購入しなければならないためテストのコストが増加する。これにより、従来においては低速のテスターを用いて高速の半導体装置をテストするためシステム実装方式、BIST(Built−In Self Test)方式、SERDES(SERialize/DESeralize)方式などを使用する。
先ず、システム実装方式は、コンピュータのようなシステムに半導体装置を実装し、システムを動作させて半導体装置の性能をテストする方式である。このような方式は、システムを動作させなければならないためテストのコストが増加するようになる。
一方、BIST方式は、半導体装置内にBIST回路を備えて高速のテストパターンデータをそれ自身で生成し、これを用いて半導体装置の性能をテストする。このような方式はBIST回路が非常に複雑であり、BIST回路自体に不良がある場合に不良を検出しにくい。
また、SERDES方式は、半導体装置の多数の入力端子を通じて並列に低速入力されるテストパターンデータを直列に変換することによって、高速のテストパターンデータを生成し、直列の高速テストパターンデータを再び並列に変換して多数の出力端子を通じて出力する方式である。従って、SERDES方式は一つの入力端子と出力端子の性能をテストするため多数の入力端子と出力端子が要求される。
韓国公開特許第2003−0049481号
本発明の技術的課題は、テストの信頼性を向上させた半導体装置を提供するところにある。
本発明の他の技術的課題は、テストの信頼性を向上させたテスト基板を提供するところにある。
本発明のさらに他の技術的課題は、テストの信頼性を向上させた半導体装置のテストシステムを提供するところにある。
本発明のさらに他の技術的課題は、テストの信頼性を向上させた半導体装置のテスト方法を提供するところにある。
本発明の技術的課題は、以上で言及した技術的課題に制限されず、言及されないさらに他の技術的課題は、以下の記載から当業者に明確に理解できるものである。
前述した技術的課題を達成するための本発明の一実施形態による半導体装置は、第1の速度でテストパターンデータが直列に入力される入力端子と、入力端子と一対一に対応し、第1の速度と異なる第2の速度でテストパターンデータを直列に出力する出力端子と、を含む。
前述した他の技術的課題を達成するための本発明の一実施形態によるテスト基板は、回路基板と、回路基板上に形成され、低速でテストパターンデータが直列に入力される第1の入力端子と、第1の入力端子と一対一に対応し、テストパターンデータを高速で直列に出力する第1の出力端子を含む高速変換部と、回路基板上に形成され、高速変換部が出力するテストパターンデータが入力されて高速動作する被テスト半導体装置が装着されるソケットと、回路基板上に形成され、被テスト半導体装置が高速で出力したテストパターンデータが直列に入力される第2の入力端子と、第2の入力端子と一対一に対応し、テストパターンデータを低速で直列に出力する第2の出力端子を含む低速変換部と、を含む。
前述したさらに他の技術的課題を達成するための本発明の一実施形態による半導体装置のテストシステムは、低速で動作するテスターと、テスターが低速で提供したテストパターンデータが直列に入力される第1の入力端子と、第1の入力端子と一対一に対応し、入力されたテストパターンデータを高速で直列に出力する第1の出力端子を含む第1の被テスト半導体装置と、第1の被テスト半導体装置が高速で出力したテストパターンデータが直列に入力される第2の入力端子と、第2の入力端子と一対一に対応し、入力されたテストパターンデータを低速で直列にテスターに出力する第2の出力端子を含む第2の被テスト半導体装置と、を含む。
前述したさらに他の技術的課題を達成するための本発明の一実施形態による半導体装置のテスト方法は、第1の速度でテストパターンデータが直列に入力される入力端子と、入力端子と一対一に対応し、第1の速度と異なる第2の速度でテストパターンデータを直列に出力する出力端子を含み、第1のテストモード時、第2の速度は第1の速度より早く、第2のテストモード時、第2の速度は第1の速度より遅い第1及び第2の被テスト半導体装置を提供する段階と、第1のテストモードの第1の被テスト半導体装置の出力端子と第2のテストモードの第2の被テスト半導体装置の入力端子を電気的に連結する段階と、第1のテストモードの第1の被テスト半導体装置の入力端子に低速で直列にテストパターンデータを印加し、第2のテストモードの第2の被テスト半導体装置の出力端子から出力されるテストパターンデータを受信して正常動作可否を判断する段階と、第1のテストモードの第2の被テスト半導体装置の出力端子と第2のテストモードの第1の被テスト半導体装置の入力端子を電気的に連結する段階と、第1のテストモードの第2の被テスト半導体装置の入力端子に低速で直列にテストパターンデータを印加し、第2のテストモードの第1の被テスト半導体装置の出力端子から出力されるテストパターンデータを受信して正常動作可否を判断する段階と、を含む。
その他実施形態の具体的な事項は、詳細な説明及び図面に含まれている。
前述したような半導体装置、テスト基板、半導体装置のテストシステム及び半導体装置のテスト方法によれば、次の通りの効果が一つ或いはそれ以上ある。
一番目に、低速のテスターを用いて高速の半導体装置をテストできる。従って、テストのコストが減少する。
二番目に、別途の複雑な回路を使わないため、使われる回路自体の不良を考慮しなくてもよいため、テスト結果に関する信頼性が高まる。
三番目に、テストパターンデータが入出力するテスト装置の入力端子と出力端子が一対一に対応するため、一つの入力端子及び出力端子をテストするために多数の入力端子及び出力端子を用いない。従って、テストの能率が高まり、テスト結果に関する信頼性が高まる。
本発明の利点及び特徴、そしてそれらを達成する方法は添付する図面と共に詳細に後述している実施形態を参照すれば明確になる。しかしながら、本発明は、以下で開示される実施形態に限定されるものではなく、相異なる多様な形態で具現されるものであり、本実施形態は、本発明の開示が完全となり、当業者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであり、本発明は、特許請求の範囲の記載に基づいて決められなければならない。なお、明細書全体にかけて同一参照符号は同一構成要素を示すものとする。
以下、添付した図面を参照して本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態による半導体装置を説明するためのブロック図である。
図1を参照すれば、本発明の一実施形態による半導体装置1は、入力端子100と、速度変換部200と、出力端子300と、を含む。
入力端子100は、外部からノーマルモードでは高速でデータが直列に入力され、テストモードでは第1の速度でテストパターンデータ(TPDATA)が直列に入力される。入力端子100は、入力ピン(DIN)と、入力されるデータ又はテストパターンデータ(TPDATA)をバッファリングする入力受信部110を含むことができる。
速度変換部200は、テストモードでテストパターンデータ(TPDATA)を第1の速度で直列に入力されて、テストパターンデータ(TPDATA)を第2の速度で直列に出力端子300に提供する。一方、本発明の一実施形態による半導体装置1は、第1の速度より第2の速度が早い第1のテストモードと第1の速度より第2の速度が遅い第2のテストモードを有する。従って、速度変換部200は第1のテストモードでは、第1の速度より早い第2の速度でテストパターンデータを直列に提供する。ここで、第2の速度が第1の速度よりn(但し、nは自然数)倍早ければ、テストパターンデータ(TPDATA)をn(但し、nは自然数)倍反復して提供できる。また、第2のテストモードでは、第1の速度より遅い第2の速度でテストパターンデータを直列に提供する。ここで、第1の速度が第2の速度よりn(但し、nは自然数)倍早ければ、入力端子100を通じてn(但し、nは自然数)倍反復されて提供されたテストパターンデータ(TPDATA)を反復せずに1回のみ提供できる。
このような速度変換部200は、テスト制御部210、第1のスイッチ220、第2のスイッチ230、第1のクロック提供部240、第1のテストパターンデータ貯蔵部250、第2のクロック提供部260、第2のテストパターンデータ貯蔵部270を含むことができる。
テスト制御部210は、半導体装置1が第1又は第2のテストモードに進入するかを示す所定のテスト指示信号(PTEST0、PTEST1)に応答して、第1のスイッチ220、第2のスイッチ230、第1のクロック提供部240、第1のテストパターンデータ貯蔵部250、第2のクロック提供部260、第2のテストパターンデータ貯蔵部270をそれぞれ制御する第1のスイッチング信号(SW1)、第2のスイッチング信号(SW2)、第1のクロック提供指示信号(PCK1)、第1のロード信号(LOAD_IN)、第2のクロック提供指示信号(PCK2)、第1のロード信号(LOAD_OUT)を所定のタイミングに合わせて提供する。
例えば、第1及び第2のテスト指示信号(PTEST0、PTEST1)が全てローレベルである場合には、ノーマルモードであり、第1のテスト指示信号(PTEST0)がハイレベルであり、第2のテスト指示信号(PTEST1)がローレベルである場合には第1のテストモードである。また、第1のテスト指示信号(PTEST0)がローレベルであり、第2のテスト指示信号(PTEST1)がハイレベルである場合には第2のテストモードである。前述した内容を表に整理すれば表1の通りである。
Figure 2007024884
第1及び第2のテストモードによる第1及び第2のクロック提供指示信号(PCK1、PCK2)、第1及び第2のロード信号(LOAD_IN、LOAD_OUT)についての詳細な動作タイミングについては図5及び図6を参照して詳細に後述する。
第1のスイッチ220は、第1のスイッチング信号(SW1)に応答して、入力端子100から入力されるデータ又はテストパターンデータ(TPDATA)を選択的に内部回路400又は第1のテストパターンデータ貯蔵部250に伝達する。すなわち、ノーマルモードではデータを内部回路400に伝達し、テストモードではテストパターンデータ(TPDATA)を第1のテストパターンデータ貯蔵部250に伝達する。
第2のスイッチ230は、第2のスイッチング信号(SW2)に応答して、内部回路400から出力されるデータ又は第2のテストパターンデータ貯蔵部270から出力されるテストパターンデータ(TPDATA)を選択的に出力端子300に伝達する。すなわち、ノーマルモードではデータを内部回路400から出力端子300に伝達し、テストモードではテストパターンデータ(TPDATA)を第2のテストパターンデータ貯蔵部270から出力端子300に伝達する。
このように、テストモードでは、第1及び第2のスイッチ220、230が活性化されることによって、入力端子100に入力されたテストパターンデータ(TPDATA)が内部回路を経ずに直ちに出力端子300に出力されるフィードスルーパスが完成される。従って、本発明の一実施形態による半導体装置1の性能テストでは内部回路による不良を排除できて、半導体装置の入力受信部110、出力駆動部310の動作による不良のみをテストできる。速度変換部200は、このようなフィードスルーパス上に形成されて、テストパターンデータ(TPDATA)の入出力速度を変化させる。
第1のクロック提供部240は、第1のクロック提供指示信号(PCK1)を受信して第1のクロック(CK1)を提供する。ここで、第1のクロック(CK1)の速度はテストパターンデータ(TPDATA)が入力される第1の速度と同一であることが好ましい。第1のクロック提供部240は位相同期ループ回路(Phase Locked Loop;PLL)、遅延同期ループ回路(Delay Locked Loop;DLL)、同期ミラー遅延回路(Synchronous Mirror Delay;SMD)などのようにクロックを提供できる手段であれば何でも可能である。第1のクロック提供部240が位相同期ループ回路(PLL)である場合を例に挙げて説明すれば、第1のクロック提供指示信号(PCK1)は基準クロックであることができ、第1のクロック(CK1)は基準クロックを用いて生成したクロックでありうる。
第1のテストパターンデータ貯蔵部250は、入力端子100を通じて入力されたテストパターンデータ(TPDATA)を第1の速度の第1のクロック(CK1)に同期して直列に貯蔵する。続いて、第1のテストパターンデータ貯蔵部250は、直列に貯蔵されたテストパターンデータ(TPDATA)を第1のロード信号(LOAD_IN)に応答して並列に貯蔵する。第1のテストパターンデータ貯蔵部250については図2と一緒に詳細に後述する。
第2のクロック提供部260は、第2のクロック提供指示信号(PCK2)を受信して第2のクロック(CK2)を提供する。ここで、第2のクロック(CK2)の速度はテストパターンデータ(TPDATA)が出力される第2の速度と同一であることが好ましい。第2のクロック提供部260は、位相同期ループ回路(Phase Locked Loop;PLL)、遅延同期ループ回路(Delay Locked Loop;DLL)、同期ミラー遅延回路(Synchronous Mirror Delay;SMD)などのようなクロックを提供できる手段であれば何でも可能である。
第2のテストパターンデータ貯蔵部270は、第1のテストパターンデータ貯蔵部250で伝達されたテストパターンデータ(TPDATA)を第2のロード信号(LOAD_OUT)に応答して並列に貯蔵する。次に、第2の速度の第2のクロック(CK2)に同期して、並列に貯蔵されたテストパターンデータ(TPDATA)を直列に提供する。また、前述したように、第1のテストモードでは第2のロード信号(LOAD_OUT)が反復的に提供されて、テストパターンデータ(TPDATA)をn(但し、nは自然数)倍反復して提供できる。このような第2のテストパターンデータ貯蔵部270については図3と一緒に詳細に後述する。
出力端子300は、入力端子100と一対一に対応し、第1の速度と異なる第2の速度でテストパターンデータ(TPDATA)を直列に外部に出力する。出力端子300は、出力ピン(QOUT)と、出力されるデータ又はテストパターンデータ(TPDATA)をバッファリングする出力駆動部310を含むことができる。
図2は、図1の第1のテストパターンデータ貯蔵部の回路図である。本発明の一実施形態では8ビットのテストパターンデータを貯蔵する場合を例に挙げて説明するが、これに制限されない。
図2を参照すれば、第1のテストパターンデータ貯蔵部250は、第1の貯蔵部252と第2の貯蔵部254とを含む。
第1の貯蔵部252は、直列に連結された多数のDフリップフロップ(252_i、i=1〜8)を含む。詳細に説明すれば、多数のDフリップフロップ(252_i、i=1〜8)は、入力端子と出力端子が互いに連結されるが、第1のDフリップフロップ252_1の入力端子にはテストパターンデータ(TPDATA)が直列に入力される。また、制御端子には第1のクロック(CK1)が入力される。
第2の貯蔵部254は、並列に連結された多数のDフリップフロップ(254_i、i=1〜8)を含み、入力端子は第1の貯蔵部252の多数のDフリップフロップ(252_i、i=1〜8)の出力端子とそれぞれ連結される。また、制御端子には第1のロード信号(LOAD_IN)が入力される。
動作を説明すれば、第1の貯蔵部252は、第1のクロック(CK1)に同期して直列にテストパターンデータ(TPDATA)を貯蔵する。詳細に説明すれば、第1のクロック(CK1)がハイレベルになるとき毎に一番目データ(D0)は、第1のDフリップフロップ252_1から第8のDフリッピフロップ(252_8)まで順次通りシフトされる。二番目データD1は、一番目データ(D0)に沿って、第1のDフリップフロップ252_1から第7のDフリップフロップ(252_7)まで順次通りシフトされる。このような方式で8ビットのテストパターンデータ(TPDATA)が貯蔵される。次に、第2の貯蔵部254は、第1のロード信号(LOAD_IN)に応答して第1の貯蔵部252に貯蔵されたテストパターンデータ(TPDATA)を並列に貯蔵する。
図3は、図1の第2のテストパターンデータ貯蔵部の回路図である。本発明の一実施形態では、8ビットのテストパターンデータを貯蔵する場合を例に挙げて説明するが、これに制限されない。
図3を参照すれば、第2のテストパターンデータ貯蔵部270は、伝達部272と第3の貯蔵部274とを含む。
伝達部272は、並列に連結された多数のトランスミッションゲート(272_i、i=1〜8)を含み、第2のロード信号(LOAD_OUT)に応答して、第1のテストパターンデータ貯蔵部(図2の250)の第2の貯蔵部(図2の254)の出力信号を第3の貯蔵部274に伝達する役割を果たす。詳細に説明すれば、多数のトランスミッションゲート(272_i、i=1〜8)は、PMOSトランジスタとNMOSトランジスタがゲート対ゲート、ソース対ソースに連結される。また、第2のロード信号(LOAD_OUT)の反転信号がPMOSトランジスタに提供され、第2のロード信号(LOAD_OUT)はNMOSトランジスタに提供される。従って、多数のトランスミッションゲート(272_i、i=1〜8)は、第2のロード信号(LOAD_OUT)がハイレベルであるとき第2の貯蔵部254の出力信号を伝達する。
第3の貯蔵部274は、並列に連結された多数のDフリップフロップ(274_i、i=1〜8)を含み、多数のDフリップフロップ(274_i、i=1〜8)の入力端子は伝達部272の多数のトランスミッションゲート(272_i、i=1〜8)の出力端子とそれぞれ連結される。また、制御端子には第1のクロック(CK1)が入力される。
動作を説明すれば、伝達部272は、第2の貯蔵部254に並列に貯蔵されたテストパターンデータ(TPDATA)を第2のロード信号(LOAD_OUT)に応答して第3の貯蔵部274に伝達する。第3の貯蔵部274に並列に貯蔵されたテストパターンデータ(TPDATA)は第2のクロック(CK2)に同期して直列に出力する。例えば、第2のクロックがハイレベルになるとき毎に、8番目データ(D7)は第1のDフリップフロップ(274_1)から第8のDフリップフロップ(274_8)まで順次通りシフトされて出力される。
図4は、図1の第1のクロック提供部を説明するためのブロック図である。クロック提供部は、位相同期ループ回路(PLL)を例に挙げて説明するが、これに制限されるものではない。また、第1のクロック提供部を代表的に記述するが、第2のクロック提供部にも同一に適用できる。
図4を参照すれば、第1のクロック提供部240は、位相比較部242、チャージポンプ244、ループフィルター246、電圧制御発進部248、分周器249を含む。
位相比較部242は、第1のクロック提供指示信号(CK1)に提供された基準クロックと比較クロック(DCK1)の位相差を検出する。従って、位相比較部242は、比較クロック(DCK1)の位相が第1のクロック提供指示信号(CK1)の位相より遅延される場合には位相アップ信号(UP)を提供し、比較クロック(DCK1)の位相が第1のクロック提供指示信号(CK1)の位相より先行する場合には位相ダウン信号(DOWN)を提供する。
チャージポンプ244は、位相アップ信号(UP)を受信してループフィルター246を充電させ、位相ダウン信号(DOWN)を受信してループフィルター246を放電させる。ループフィルター246は、チャージポンプ244から出力された充電及び放電電流によって、電圧制御発進部248を目標周波数に発振させる制御電圧(VC)を提供する。電圧制御発進部248は、制御電圧(VC)に対応する周波数を有する発振出力信号、すなわち第1のクロック(CK1)を提供する。分周器249は、第1のクロック(CK1)の周波数を分割して位相比較部242に比較クロック(DCK1)として提供する。
以下で、図1〜図5を参照して、本発明の一実施形態による半導体装置1の第1のテストモード動作を説明する。前述したように、第1のテストモードで半導体装置1は、第1の速度で直列に入力されたテストパターンデータ(TPDATA)を第1の速度よりさらに早い第2の速度で直列に出力する。
第2のテスト指示信号(PTEST1)がローレベルであり、第1のテスト指示信号(PTEST0)がハイレベルになれば、半導体装置1は、第1のテストモードに進入するようになる。従って、テスト制御部210はハイレベルの第1のスイッチング信号(SW1)を第1のスイッチ220に提供し、第1のスイッチ220は第1の速度で直列に入力されるテストパターンデータ(TPDATA)を第1のテストパターンデータ貯蔵部250に伝達する。
次に、テスト制御部210は、第1及び第2のクロック提供指示信号(PCK1、PCK2)を第1及び第2のクロック提供部240、260に提供し、第1及び第2のクロック提供部240、260はそれぞれ第1及び第2のクロック(CK1、CK2)を提供する。例えば、第1のクロック提供部240は、図5に示すように、基準クロックである第1のクロック提供指示信号(PCK1)の周波数の4倍の周波数を有する第1のクロック(CK1)を提供し、第2のクロック提供部260は基準クロックである第2のクロック提供指示信号(PCK2)の周波数の8倍の周波数を有する第2のクロック(CK2)を提供できる。ここで、第1のクロック(CK1)の速度はテストパターンデータ(TPDATA)の入力速度である第1の速度と同一であり、第2のクロック(CK2)の速度はテストパターンデータ(TPDATA)の出力速度である第2の速度と同一である。
その後、第1のテストパターンデータ貯蔵部250の第1の貯蔵部252は、テストパターンデータ(TPDATA)を第1のクロック(CK1)に同期して直列に貯蔵する。次に、テストパターンデータ(TPDATA)が第1の貯蔵部252に直列に貯蔵されれば、テスト制御部210は、ハイレベルの第1のロード信号(LOAD_IN)を第1のテストパターンデータ貯蔵部250の第2の貯蔵部254に提供し、第2の貯蔵部254はテストパターンデータ(TPDATA)を再び並列に貯蔵する。
一方、テスト制御部210は、ハイレベルの第2のスイッチング信号(SW2)を第2のスイッチ230に提供して、入力端子100に入力されたテストパターンデータ(TPDATA)が内部回路400を経ずに再び出力端子300に出力されるフィードスルーパスが完成される。本発明の一実施形態で第2のスイッチング信号(SW2)は、第1のスイッチング信号(SW1)が所定時間遅延された後ハイレベルに転移されたが、これに限定されるものではない。例えば、第2のスイッチング信号(SW2)は、第1のスイッチング信号(SW1)と同時にハイレベルに転移されても良い。
また、第2の貯蔵部254にテストパターンデータ(TPDATA)が並列に貯蔵された後、テスト制御部210はハイレベルの第2のロード信号(LOAD_OUT)を第2のテストパターンデータ貯蔵部270に提供し、第2のテストパターンデータ貯蔵部270の伝達部272は第1のテストパターンデータ貯蔵部250に貯蔵されたテストパターンデータ(TPDATA)を並列に第3の貯蔵部274に伝達する。
次に、第2のテストパターンデータ貯蔵部270の第3の貯蔵部274は、テストパターンデータ(TPDATA)を第2のクロック(CK2)に同期して直列に第2のスイッチ230に提供する。ここで、第2の速度の第2のクロックが第1の速度の第1のクロックよりn(但し、nは自然数)倍早ければ、テストパターンデータ(TPDATA)が入力端子100に入力される速度よりn(但し、nは自然数)倍早く出力端子300に出力される。このような場合、テストパターンデータ(TPDATA)をn(但し、nは自然数)回反復して出力する。また、n(nは自然数)回反復して出力する方式としては多様な方式があり得るが、本発明の一実施形態では、第2のロード信号(LOAD_OUT)を順次にn(nは自然数)回反復して提供することによってテストパターンデータ(TPDATA)をn(但し、nは自然数)回反復出力する。
例えば、図5に示すように、第2のクロック(CK2)が第1のクロックより8倍早い場合、第2のロード信号(LOAD_OUT)が8回連続的にハイレベルになる。第2のロード信号(LOAD_OUT)がハイレベルになるとき毎に第2のテストパターンデータ貯蔵部270の第3の貯蔵部274にテストパターンデータが貯蔵され、貯蔵されたテストパターンデータ(TPDATA)が第2のクロック(CK2)に同期して出力されるため、テストパターンデータ(TPDATA)を8回反復して出力できる。
以下で、図1〜図4、図6を参照して、本発明の一実施形態による半導体装置の第2のテストモード動作を説明する。前述したように、第2のテストモードで半導体装置1は、第1の速度で直列に入力されたテストパターンデータ(TPDATA)を第1の速度よりさらに遅い第2の速度で直列に出力する。
第1のテスト指示信号(PTEST0)がローレベルであり、第2のテスト指示信号(PTEST1)がハイレベルになれば、半導体装置1は第2のテストモードに進入するようになる。従って、テスト制御部210は、ハイレベルの第1のスイッチング信号(SW1)を第1のスイッチ220に提供し、第1のスイッチ220は第1の速度で直列に入力されるテストパターンデータ(TPDATA)を第1のテストパターンデータ貯蔵部250に伝達する。ところで、第1の速度が第2の速度よりn(但し、nは自然数)倍早い場合には同一なテストパターンデータ(TPDATA)がn(但し、nは自然数)回反復して入力される。
次に、テスト制御部210は、第1及び第2のクロック提供指示信号(PCK1、PCK2)を第1及び第2のクロック提供部240、260に提供し、第1及び第2のクロック提供部240、260はそれぞれ第1及び第2のクロック(CK1、CK2)を提供する。例えば、第1のクロック提供部240は、図5に示すように、基準クロックである第1のクロック提供指示信号(PCK1)の周波数の8倍の周波数を有する第1のクロック(CK1)を提供し、第2のクロック提供部260は基準クロックである第2のクロック提供指示信号(PCK2)の周波数の4倍の周波数を有する第2のクロック(CK2)を提供することができる。
その後、第1のテストパターンデータ貯蔵部250の第1の貯蔵部252は、テストパターンデータ(TPDATA)を第1のクロック(CK1)に同期して直列に貯蔵する。ところで、入力端子100には、テストパターンデータ(TPDATA)が n(但し、nは自然数)回反復して入力されるが、第1の貯蔵部252は8個のDフリップフロップ(252_i、i=1〜8)から構成されているため最後に入力された8ビットのテストパターンデータ(TPDATA)のみ残ることができる。
従って、最後に入力されたテストパターンデータ(TPDATA)が第1の貯蔵部252に直列に貯蔵されれば、テスト制御部210はハイレベルの第1のロード信号(LOAD_IN)を第1のテストパターンデータ貯蔵部250の第2の貯蔵部254に提供し、第2の貯蔵部254はテストパターンデータ(TPDATA)を並列に貯蔵する。
一方、テスト制御部210は、ハイレベルの第2のスイッチング信号(SW2)を第2のスイッチ230に提供して、入力端子100に入力されたテストパターンデータ(TPDATA)が内部回路400を経ずに直ちに出力端子300に出力されるフィードスルーパスが完成される。
また、第2の貯蔵部254にテストパターンデータ(TPDATA)が並列に貯蔵された後、テスト制御部210はハイレベルの第2のロード信号(LOAD_OUT)を第2のテストパターンデータ貯蔵部270に提供し、第2のテストパターンデータ貯蔵部270の伝達部272は、第1のテストパターンデータ貯蔵部250に貯蔵されたテストパターンデータ(TPDATA)を並列に第3の貯蔵部274に伝達して貯蔵する。
次に、第2のテストパターンデータ貯蔵部270の第3の貯蔵部274はテストパターンデータ(TPDATA)を第2のクロック(CK2)に同期して直列に第2のスイッチ230に提供する。
結果的に、第2のテストモードで、テストパターンデータ(TPDATA)は、入力端子100にn回反復されて入力されるが、出力端子300では反復されず出力される。
図7は、本発明の他の実施形態による半導体装置を説明するためのブロック図である。図1と実質的に同一な構成要素については同一な図面符号を使用し、当該構成要素についての詳細な説明は省略する。
図7を参照すれば、本発明の他の実施形態による半導体装置2は、多数の入力端子(100_i、i=1〜8)、速度変換部201、多数の出力端子(300_i、i=1〜8)を含む。
多数の入力端子(100_i、i=1〜8)と多数の出力端子(300_i、i=1〜8)は一対一に対応し、各入力端子(100_i、i=1〜8)に第1の速度で入力されたテストパターンデータ(TPDATA)は、対応する出力端子(300_i、i=1〜8)に第1の速度と異なる第2の速度で出力される。また、各入力端子(100_i、i=1〜8)に入力されたテストパターンデータ(TPDATA)は、内部回路(図示せず)を経ずに、各入力端子(100_i、i=1〜8)と各出力端子(300_i、i=1〜8)を連結するフィードスルーパスを通じて、出力端子(100_i、i=1〜8)に提供される。
速度変換部201は、多数の入力端子(100_i、i=1〜8)に対応して第1のテストパターンデータ貯蔵部(250_i、i=1〜8)が備えられ、多数の出力端子(300_i、i=1〜8)に対応して第2のテストパターンデータ貯蔵部(270_i、i=1〜8)が備えられる。また、テスト制御部210、第1のクロック提供部240及び第2のクロック提供部260は、多数の入力端子及び出力端子に共通的に設けられることができるが、これに制限されるものではない。例えば、テスト制御部210、第1のクロック提供部240及び第2のクロック提供部260もまた多数の入力端子(100_i、i=1〜8)と出力端子(300_i、i=1〜8)にそれぞれ設けられることができる。また、説明の便宜のため第1及び第2のスイッチの図示を省略する。
また、図7では、8個の入力端子(100_i、i=1〜8)と8個の出力端子(300_i、i=1〜8)を例に挙げて示したが、16個の入力端子と16個の出力端子などに拡大適用できることは自明である。
図8は、本発明の一実施形態による半導体装置のテスト基板を説明するためのブロック図である。図1と実質的に同一な構成要素については同一な図面符号を使用し、当該構成要素についての詳細な説明は省略する。
図8を参照すれば、本発明の一実施形態による半導体装置のテスト基板10は、回路基板500、高速変換部202、ソケット510、低速変換部203を含む。
回路基板500は、一面に高速変換部202、ソケット510、低速変換部203などが備えられる。特に、高速の被テスト半導体装置(Device Under Test;DUT)3をテストするので、回路基板500に形成された信号ラインは、信号充実度が高く、低いインピーダンスを有することが好ましい。例えば、信号ラインの形態はストリップライン又はマイクロストリップでありうる。
また、回路基板500は、印刷回路基板(Printed Circuit Board;PCB)、FPCB(Flexible PCB)、FRPCB(Flexible Rigid PCB)、セラミック基板などであり得るが、これに制限されるものではない。また、回路基板500はパッケージ基板、マルチチップモジュール用基板、一般マザーボードなどであり得るが、これに制限されるものではない。
高速変換部202は、テスター(図示せず)で提供した低速のテストパターンデータ(TPDATA)が直列に入力される第1の入力端子101と、第1の入力端子101と一対一に対応し、テストパターンデータ(TPDATA)を高速で直列に出力する第1の出力端子301を含む。
高速変換部202は、前述した第1のテストモードの速度変換部(図1の200)と実質的に同一である。すなわち、高速は低速よりn(但し、nは自然数)倍早い場合、高速変換部202の第1の出力端子301は、第1の入力端子101に入力されたテストパターンデータ(TPDATA)をn回反復して出力する。
また、高速変換部202は、第1のテスト制御部210a、第1のクロック提供部240a、第1のテストパターンデータ貯蔵部250a、第2のクロック提供部260a、第2のテストパターンデータ貯蔵部270aを含む。詳細に説明すれば、第1のテスト制御部210aは、所定のテスト指示信号(PTEST2)に応答してイネーブルされて、第1のクロック提供指示信号(PCK1)、第1のロード信号(LOAD_IN1)、第2のクロック提供指示信号(PCK2)、第1のロード信号(LOAD_OUT1)を所定のタイミングに合わせて提供する。一方、第1のクロック提供部240aは、第1のクロック提供指示信号(PCK1)を受信して第1のクロック(CK1)を提供する。第1のテストパターンデータ貯蔵部250aは低速で直列に入力されるテストパターンデータ(TPDATA)を第1のクロック(CK1)に同期して直列に貯蔵し、第1のロード信号(LOAD_IN1)に応答してテストパターンデータ(TPDATA)を並列に貯蔵する。一方、第2のクロック提供部260aは、第2のクロック提供指示信号(PCK2)を受信して第2のクロック(CK2)を提供する。第2のテストパターンデータ貯蔵部270aは、第2のロード信号(LOAD_OUT1)に応答して第1のテストパターンデータ貯蔵部250に貯蔵されたテストパターンデータ(TPDATA)が伝達され、第2のクロック(CK2)に同期して直列に出力する。特に、第2のテストパターンデータ貯蔵部270aは第2のロード信号(LOAD_OUT1)はn回反復提供されてテストパターンデータ(TPDATA)がn回反復伝達され、従ってテストパターンデータ(TPDATA)を第2のクロック(CK2)に同期してn回反復出力するようになる。
ソケット510は、高速動作する被テスト半導体装置3が装着される。従って、n回反復出力されたテストパターンデータ(TPDATA)が高速で入力されて、高速でn回反復出力するようになる。ここで、被テスト半導体装置3は、第2の入力端子100、第2の出力端子300、及び内部回路を経ずに第2の入力端子100と第2の出力端子300とを電気的に連結するフィードスルーパス290を備える。従って、被テスト半導体装置3の性能テストでは、内部回路による不良を排除できて、半導体装置の入力受信部110、出力駆動部310の動作による不良のみをテストできる。
低速変換部203は、被テスト半導体装置3が高速で出力したテストパターンデータ(TPDATA)が直列に入力される第3の入力端子102と、第3の入力端子102と一対一に対応し、テストパターンデータ(TPDATA)を低速で直列に出力する第3の出力端子302を含む。
低速変換部203は、前述した第2のテストモードの速度変換部(図1の200)と実質的に同一である。すなわち、高速は低速よりn(但し、nは自然数)倍早く、低速変換部203の第3の出力端子302は第3の入力端子102にn回反復されて入力されたテストパターンデータ(TPDATA)を反復せずに出力する。また、低速変換部203は、第2のテスト制御部210b、第3のクロック提供部240b、第3のテストパターンデータ貯蔵部250b、第4のクロック提供部260b、第4のテストパターンデータ貯蔵部270bを含む。
図9は、本発明の一実施形態による半導体装置のテストシステムを説明するためのブロック図である。
図9を参照すれば、本発明の一実施形態による半導体装置のテストシステム20は、制御コンピュータ600と、テスター700と、第1の被テスト半導体装置(1a)と、第2の被テスト半導体装置(1b)と、を含む。
制御コンピュータ600は、テスター700を制御する役割を果たす。すなわち、制御コンピュータ600は、テスター700を制御するための制御信号(CTR)を提供し、テストパターンデータ(TPDATA)を生成するための多数のデータ(DATA)をテスター700にローディングする。制御コンピュータ600は、ワークステーションのような高性能コンピュータであることができ、キーボード、ビデオディスプレイターミナル、ディスク610のようなバルクストレージを含むことができる。
テスター700は、テストパターンデータ発生器710、フォーマッタ720を含む。
テストパターンデータ発生器710は、制御部712、制御ビット貯蔵部714、データビット貯蔵部716を含む。制御部712は、制御コンピュータ600の制御信号(CTR)が印加されて第1及び第2のアドレス信号(ADDR1、ADDR2)を発生させる。制御ビット貯蔵部714は、受信される第1のアドレス信号(ADDR1)に対応する制御ビット(CB)を出力する。データビット貯蔵部716は、受信される第2のアドレス信号(ADDR2)に対応するデータビット(DB)を出力する。
フォーマッタ720は、制御ビット(CB)を受信して、所定の形態でテスト指示信号(PTEST0、PTEST1)を生成して第1及び第2の被テスト半導体装置(1a、1b)にそれぞれ提供する。すなわち、第1の被テスト半導体装置(1a)は、ハイレベルの第1のテスト指示信号(PTEST0)と、ローレベルの第2のテスト指示信号(PTEST1)を受信して第1のテストモードになる。従って、第1の被テスト半導体装置(1a)の第1の入力端子100aは、テスター700からテストパターンデータ(TPDATA)が低速で直列に入力され、第1の出力端子300aは第1の入力端子100aと一対一に対応し、入力されたテストパターンデータ(TPDATA)を高速で直列に出力する。
また、第2の被テスト半導体装置(1b)は、ローレベルの第1のテスト指示信号(PTEST0)と、ハイレベルの第2のテスト指示信号(PTEST1)を受信して第2のテストモードになる。従って、第2の被テスト半導体装置(1b)の第1の入力端子100bは、第1の被テスト半導体装置(1a)から高速で直列に入力され、第1の出力端子300bは、第1の入力端子100bと一対一に対応して入力されたテストパターンデータ(TPDATA)を低速で直列に出力する。
また、フォーマッタ720は、データビット(DB)を受信して、所定の形態でテストパターンデータ(TPDATA)を生成して第1の被テスト半導体装置(1a)に提供する。また、フォーマッタ720は、第2の被テスト半導体装置(1b)から出力されるテストパターンデータ(TPDATA)を受信して、第1の被テスト半導体装置(1a)に提供したテストパターンデータ(TPDATA)を比較する。その後、フォーマッタ720は、比較結果に基づいて結果信号(RST)を制御コンピュータ600に提供する。但し、このような比較過程は、フォーマッタ720で進行されず、別途の故障処理部(図示せず)を備えて比較してもよい。
以下で、図9及び図10を参照して本発明の一実施形態による半導体装置のテスト方法を説明する。
図9及び図10を参照すると、先ず第1及び第2の被テスト半導体装置(1a、1b)が提供される(S810)。
ここで、第1及び第2の被テスト半導体装置(1a、1b)はそれぞれ第1の速度でテストパターンデータ(TPDATA)が直列に入力される第1及び第2の入力端子100a、100b)と、第1及び第2の入力端子(100a、100b)とそれぞれ一対一に対応し、第1の速度と異なる第2の速度でテストパターンデータ(TPDATA)を直列に外部に出力する第1及び第2の出力端子(300a、300b)を含む。第1及び第2の被テスト半導体装置(1a、1b)はそれぞれ第1の速度より第2の速度が早い第1のテストモードと、第1の速度より第2の速度が遅い第2のテストモードとを有する。
第1のテストモードの第1の被テスト半導体装置(1a)の第1の出力端子(300a)と、第2のテストモードの第2の被テスト半導体装置(1b)の第2の入力端子(100b)と、を電気的に連結する(S820)。
次に、第1のテストモードの第1の被テスト半導体装置(1a)の第1の入力端子(100a)に低速で直列にテストパターンデータを印加し、第2のテストモードの第2の被テスト半導体装置(1b)の第2の出力端子(300b)から出力されるテストパターンデータ(TPDATA)を受信して正常動作可否を判断する(S830)。
詳細に説明すれば、テスター700は、低速で動作し、第1及び第2の被テスト半導体装置(1a、1b)は高速で動作するので、第1の被テスト半導体装置(1a)は第1のテストモードであり、第2の被テスト半導体装置(1b)は第2のテストモードでなければならない。このような方式で欠陥があるか可否を判断すれば、第1の被テスト半導体装置(1a)の第1の出力端子(300a)、及び第2の被テスト半導体装置(1b)の第2の入力端子(100b)が、高速で正常動作するか可否を判断できる。
その次に、第1のテストモードの第2の被テスト半導体装置(1b)の第2の出力端子(300b)と第2のテストモードの第1の被テスト半導体装置(1a)の第1の入力端子(100a)とを電気的に連結する(S840)。
詳細に説明すれば、第1の被テスト半導体装置(1a)と第2の被テスト半導体装置(1b)の位置を変えて連結する。その後、第1及び第2の被テスト半導体装置(1a、1b)にそれぞれ所定のテスト指示信号(PTEST0、PTEST1)を提供して、第2の被テスト半導体装置(1b)を第1のテストモードに変換し、第1の被テスト半導体装置(1a)を第2のテストモードに変換する。
その後、第1のテストモードの第2の被テスト半導体装置(1b)の第2の入力端子(100b)に低速で直列にテストパターンデータ(TPDATA)を印加し、第2のテストモードの第1の被テスト半導体装置(1a)の第1の出力端子(300a)から出力されるテストパターンデータを受信して正常動作可否を判断する(S850)。
詳細に説明すれば、テスター700は低速で動作し、第1及び第2の被テスト半導体装置(1a、1b)は高速で動作するので、第2の被テスト半導体装置(1b)は第1のテストモードであり、第1の被テスト半導体装置(1a)は第2のテストモードでなければならない。このような方式で欠陥があるか可否を判断すれば、第2の被テスト半導体装置(1b)の第2の出力端子(300b)、及び第1の被テスト半導体装置(1a)の第1の入力端子(100a)が、高速で正常動作するか可否を判断できる。従って、このように2回のテスト過程を通じて第1及び第2の被テスト半導体装置(1a、1b)の第1及び第2の入力端子(100a、100b)と第1及び第2の出力端子(300a、300b)の正常動作可否を全て判断できる。
以上、添付した図面を参照して本発明の好適な実施形態を説明したが、当業者であれば、本発明の技術的思想や必須的な特徴を変更せずに他の具体的な形態で実施されうることを理解することができる。したがって、上述した好適な実施形態は、例示的なものであり、限定的なものではないと理解されるべきである。
本発明の半導体装置は、高集積回路半導体素子、プロセッサ、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)素子、光電子素子、ディスプレイ素子などの微細電子素子でありうる。特に、本発明の半導体装置は高速特性が要求されるCPU(Central Processor Unit)、DSP(Digital Signal Processor)、CPUとDSPの組み合わせ、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、ロジック素子などにさらに有用なものである。但し、前述した半導体装置が適用される素子は例示的なものに過ぎない。
本発明の一実施形態による半導体装置を説明するためのブロック図である。 図1の第1のテストパターンデータ貯蔵部の回路図である。 図1の第2のテストパターンデータ貯蔵部の回路図である。 図1の第1のクロック提供部を説明するためのブロック図である。 本発明の一実施形態による半導体装置の第1のテストモード動作を説明するためのタイミング図である。 本発明の一実施形態による半導体装置の第2のテストモード動作を説明するためのタイミング図である。 本発明の他の実施形態による半導体装置を説明するためのブロック図である。 本発明の一実施形態による半導体装置のテスト基板を説明するためのブロック図である。 本発明の一実施形態による半導体装置のテストシステムを説明するためのブロック図である。 本発明の一実施形態による半導体装置のテスト方法を説明するためのフローチャートである。
符号の説明
1、2:半導体装置
100:入力端子
110:入力受信部
200:速度変換部
210:テスト制御部
220:第1のスイッチ
230:第2のスイッチ
240:第1のクロック提供部
250:第1のテストパターンデータ貯蔵部
260:第2のクロック提供部
270:第2のテストパターンデータ貯蔵部
300:出力端子
310:出力駆動部
600:制御コンピュータ
700:テスター
710:テストパターンデータ発生器
720:フォーマッタ

Claims (27)

  1. 第1の速度でテストパターンデータが直列に入力される入力端子;および
    前記入力端子と一対一に対応し、前記第1の速度と異なる第2の速度で前記テストパターンデータを直列に出力する出力端子;
    を含むことを特徴とする半導体装置。
  2. 第1のテストモード時、前記第2の速度は前記第1の速度より早く、第2のテストモード時、前記第2の速度は前記第1の速度より遅いことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記第2の速度は、前記第1の速度よりn(但し、nは自然数)倍早く、前記出力端子は前記入力端子に入力されたテストパターンデータをn回反復して出力することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  4. 前記第1の速度は、前記第2の速度よりn(但し、nは自然数)倍早く、前記出力端子は前記入力端子にn回反復されて入力されたテストパターンデータを反復せずに出力することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  5. 内部回路を経ずに前記入力端子と前記出力端子とを電気的に連結するフィードスルーパスを含み、前記テストパターンデータは前記フィードスルーパスを通じて伝達されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  6. 前記フィードスルーパス上に設けられ、前記入力端子からテストパターンデータが入力され、前記テストパターンデータを前記第2の速度で直列に出力端子に提供する速度変換部をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載の半導体装置。
  7. 前記速度変換部は、
    前記テストパターンデータを第1の速度の第1のクロックに同期して直列に貯蔵する第1のテストパターンデータ貯蔵部と、
    前記第1のテストパターンデータ貯蔵部に貯蔵されたテストパターンデータを受信して貯蔵し、前記貯蔵されたテストパターンデータを第2の速度の第2のクロックに同期して直列に提供する第2のテストパターンデータ貯蔵部とを含むことを特徴とする請求項6に記載の半導体装置。
  8. 前記第1のテストパターンデータ貯蔵部は、直列に貯蔵されたテストパターンデータを第1のロード信号に応答して並列に貯蔵することを特徴とする請求項7に記載の半導体装置。
  9. 前記第2のテストパターンデータ貯蔵部は、前記第1のテストパターンデータ貯蔵部で貯蔵されたテストパターンデータを第2のロード信号に応答して並列に貯蔵することを特徴とする請求項8に記載の半導体装置。
  10. 前記速度変換部は、
    テスト指示信号に応答して、所定のタイミングに合わせて第1及び第2のクロック提供指示信号、第1及び第2のロード信号を提供するテスト制御部と、
    前記第1のクロック提供指示信号を受信して第1のクロックを提供する第1のクロック提供部と、
    前記第1のクロックに同期して前記入力端子から入力された前記テストパターンデータを直列に貯蔵し、前記直列に貯蔵されたテストパターンデータを第1のロード信号に応答して並列に貯蔵する第1のテストパターンデータ貯蔵部と、
    前記第2のクロック提供指示信号を受信して第2のクロックを提供する第2のクロック提供部と、
    前記第1のテストパターンデータ貯蔵部から伝達されたテストパターンデータを第2のロード信号に応答して並列に貯蔵し、前記第2のクロックに同期して前記貯蔵されたテストパターンデータを直列に提供する第2のテストパターンデータ貯蔵部と、
    を含むことを特徴とする請求項6に記載の半導体装置。
  11. 回路基板;
    前記回路基板上に形成され、低速でテストパターンデータが直列に入力される第1の入力端子と、前記第1の入力端子と一対一に対応し、前記テストパターンデータを高速で直列に出力する第1の出力端子を含む高速変換部;
    前記回路基板上に形成され、前記高速変換部が出力するテストパターンデータが入力されて高速動作する被テスト半導体装置が装着されるソケット;および
    前記回路基板上に形成され、前記被テスト半導体装置が高速で出力したテストパターンデータが直列に入力される第2の入力端子と、前記第2の入力端子と一対一に対応し、前記テストパターンデータを低速で直列に出力する第2の出力端子を含む低速変換部;
    を含むことを特徴とする半導体装置のテスト基板。
  12. 前記高速は、前記低速よりn(但し、nは自然数)倍早く、前記高速変換部の第1の出力端子は前記高速変換部の第1の入力端子に入力されたテストパターンデータをn回反復して出力することを特徴とする請求項11に記載の半導体装置のテスト基板。
  13. 前記高速は、前記低速よりn(但し、nは自然数)倍早く、前記低速変換部の第2の出力端子は前記低速変換部の第2の入力端子にn回反復されて入力されたテストパターンデータを反復せずに出力することを特徴とする請求項11に記載の半導体装置のテスト基板。
  14. 前記高速変換部は、
    前記テストパターンデータを低速の第1のクロックに同期して直列に貯蔵する第1のテストパターンデータ貯蔵部と、
    前記第1のテストパターンデータ貯蔵部に貯蔵されたテストパターンデータを受信して貯蔵し、前記貯蔵されたテストパターンデータを高速の第2のクロックに同期して直列に提供する第2のテストパターンデータ貯蔵部とを含む
    ことを特徴とする請求項11に記載の半導体装置のテスト基板。
  15. 前記低速変換部は、
    前記テストパターンデータを高速の第3のクロックに同期して直列に貯蔵する第3のテストパターンデータ貯蔵部と、
    前記第3のテストパターンデータ貯蔵部に貯蔵されたテストパターンデータが伝達されて貯蔵し、前記貯蔵されたテストパターンデータを低速の第4のクロックに同期して直列に提供する第4のテストパターンデータ貯蔵部とを含む
    ことを特徴とする請求項11に記載の半導体装置のテスト基板。
  16. 前記被テスト半導体装置は、第3の入力端子、第3の出力端子及び内部回路を経ずに前記第3の入力端子と前記第3の出力端子を電気的に連結するフィードスルーパスを備えて、前記第3の入力端子に入力されるテストパターンデータを前記フィードスルーパスを通じて前記第3の出力端子に伝達することを特徴とする請求項11に記載の半導体装置のテスト基板。
  17. 低速で動作するテスター;
    前記テスターが低速で提供したテストパターンデータが直列に入力される第1の入力端子と、前記第1の入力端子と一対一に対応し、前記入力されたテストパターンデータを高速で直列に出力する第1の出力端子を含む第1の被テスト半導体装置;および
    前記第1の被テスト半導体装置が高速で出力したテストパターンデータが直列に入力される第2の入力端子と、前記第2の入力端子と一対一に対応し、前記入力されたテストパターンデータを低速で直列に前記テスターに出力する第2の出力端子を含む第2の被テスト半導体装置;
    を含むことを特徴とする半導体装置のテストシステム。
  18. 前記高速は、前記低速よりn(但し、nは自然数)倍早く、前記第1の被テスト半導体装置の第1の出力端子は前記第1の被テスト半導体装置の第1の入力端子に入力されたテストパターンデータをn回反復して出力することを特徴とする請求項17に記載の半導体装置のテストシステム。
  19. 前記高速は、前記低速よりn(但し、nは自然数)倍早く、前記第2の被テスト半導体装置の第2の出力端子は前記第2の被テスト半導体装置の第2の入力端子にn回反復されて入力されたテストパターンデータを反復せずに出力することを特徴とする請求項17に記載の半導体装置のテストシステム。
  20. 第1の被テスト半導体装置は、内部回路を経ずに前記第1の入力端子と前記第1の出力端子を電気的に連結する第1のフィードスルーパスを含み、前記テストパターンデータは前記第1のフィードスルーパスを通じて伝達されることを特徴とする請求項17に記載の半導体装置のテストシステム。
  21. 前記第1のフィードスルーパス上に設けられ、前記第1の入力端子からテストパターンデータが入力されて、前記テストパターンデータを前記第2の速度で直列に第1の出力端子に提供する速度変換部をさらに含むことを特徴とする請求項20に記載の半導体装置のテストシステム。
  22. 第2の被テスト半導体装置は、内部回路を経ずに前記第2の入力端子と前記第2の出力端子とを電気的に連結する第2のフィードスルーパスを含み、前記テストパターンデータは前記第2のフィードスルーパスを通じて伝達されることを特徴とする請求項17に記載の半導体装置のテストシステム。
  23. 前記フィードスルーパス上に設けられ、前記第2の入力端子からテストパターンデータが入力されて、前記テストパターンデータを前記第2の速度で直列に第2の出力端子に提供する速度変換部をさらに含むことを特徴とする請求項22に記載の半導体装置のテストシステム。
  24. 第1の速度でテストパターンデータが直列に入力される入力端子と、前記入力端子と一対一に対応し、前記第1の速度と異なる第2の速度で前記テストパターンデータを直列に出力する出力端子を含み、第1のテストモード時、前記第2の速度は前記第1の速度より早く、第2のテストモード時、前記第2の速度は前記第1の速度より遅い第1及び第2の被テスト半導体装置を提供する段階;
    前記第1のテストモードの前記第1の被テスト半導体装置の出力端子と前記第2のテストモードの前記第2の被テスト半導体装置の入力端子を電気的に連結する段階;
    前記第1のテストモードの前記第1の被テスト半導体装置の入力端子に低速で直列にテストパターンデータを印加し、前記第2のテストモードの前記第2の被テスト半導体装置の出力端子から出力されるテストパターンデータを受信して正常動作可否を判断する段階;
    前記第1のテストモードの前記第2の被テスト半導体装置の出力端子と前記第2のテストモードの前記第1の被テスト半導体装置の入力端子を電気的に連結する段階;および
    前記第1のテストモードの前記第2の被テスト半導体装置の入力端子に低速で直列にテストパターンデータを印加し、前記第2のテストモードの前記第1の被テスト半導体装置の出力端子から出力されるテストパターンデータを受信して正常動作可否を判断する段階;
    を含むことを特徴とする半導体装置のテスト方法。
  25. 前記第2の速度は、前記第1の速度よりn(但し、nは自然数)倍早く、前記第1のテストモードの被テスト半導体装置の出力端子は、前記第1のテストモードの被テスト半導体装置の入力端子に入力されたテストパターンデータをn回反復して出力することを特徴とする請求項24に記載の半導体装置のテスト方法。
  26. 前記第1の速度は、前記第2の速度よりn(但し、nは自然数)倍早く、前記第2のテストモードの被テスト半導体装置の出力端子は、前記第2のテストモードの被テスト半導体装置の入力端子にn回反復されて入力されたテストパターンデータを反復せずに出力することを特徴とする請求項24に記載の半導体装置のテスト方法。
  27. 前記第1及び第2の被テスト半導体装置は、内部回路を経ずに前記入力端子と前記出力端子とを電気的に連結するフィードスルーパスを含み、前記テストパターンデータは前記フィードスルーパスを通じて伝達されることを特徴とする請求項24に記載の半導体装置のテスト方法。

JP2006190578A 2005-07-11 2006-07-11 半導体装置、テスト基板、半導体装置のテストシステム及び半導体装置のテスト方法 Pending JP2007024884A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050062368A KR100714482B1 (ko) 2005-07-11 2005-07-11 반도체 장치, 테스트 기판, 반도체 장치의 테스트 시스템및 반도체 장치의 테스트 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007024884A true JP2007024884A (ja) 2007-02-01
JP2007024884A5 JP2007024884A5 (ja) 2009-08-27

Family

ID=37680421

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006190578A Pending JP2007024884A (ja) 2005-07-11 2006-07-11 半導体装置、テスト基板、半導体装置のテストシステム及び半導体装置のテスト方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7555686B2 (ja)
JP (1) JP2007024884A (ja)
KR (1) KR100714482B1 (ja)
DE (1) DE102006033188A1 (ja)
TW (1) TWI308964B (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9437328B2 (en) * 2012-11-30 2016-09-06 Silicon Motion Inc. Apparatus and method for applying at-speed functional test with lower-speed tester
JP6121853B2 (ja) * 2013-09-18 2017-04-26 株式会社東芝 出力装置およびその診断方法
CN105067988B (zh) * 2015-07-02 2018-03-30 英特尔公司 集成电路、集成电路测试装置以及方法
US10097341B1 (en) * 2017-08-30 2018-10-09 Keyssa Systems, Inc. Testing of clock and data recovery circuits

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01149543A (ja) * 1987-12-04 1989-06-12 Fujitsu Ltd Fifoメモリ制御方法
JPH02245681A (ja) * 1989-03-17 1990-10-01 Nec Corp 複合型集積回路
JPH0481080U (ja) * 1990-11-27 1992-07-15
JPH0530778U (ja) * 1991-10-02 1993-04-23 日本電気株式会社 故障lsi検出システム
JPH09172424A (ja) * 1995-12-20 1997-06-30 Nec Corp データハイウェイ用信号速度変換回路
JPH1073643A (ja) * 1996-09-02 1998-03-17 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置試験治具
JP2003004809A (ja) * 2001-06-20 2003-01-08 Toshiba Microelectronics Corp 半導体集積回路及び高速テストシステム
JP2003098221A (ja) * 2001-09-25 2003-04-03 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置、半導体装置の試験方法及び半導体装置の試験装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3453460B2 (ja) * 1994-08-29 2003-10-06 松下電器産業株式会社 半導体集積回路
JPH08262087A (ja) 1995-03-20 1996-10-11 Hitachi Shonan Denshi Co Ltd 被測定物に対する周期的バーストデータによるデータ透過性試験装置
US5633634A (en) * 1995-09-29 1997-05-27 Ag Communication Systems Corporation Data rate conversion circuit
US5677914A (en) * 1996-04-25 1997-10-14 Hughes Electronics Test vectro feed-thru
SE506817C2 (sv) 1996-06-20 1998-02-16 Ericsson Telefon Ab L M Seriell-parallell- och parallell-seriellomvandlare innefattande frekvensdelare
US5933739A (en) * 1997-09-11 1999-08-03 Vlsi Technology, Inc. Self-aligned silicidation structure and method of formation thereof
JP3145976B2 (ja) * 1998-01-05 2001-03-12 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 半導体集積回路
JP2001289915A (ja) 2000-04-11 2001-10-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置
DE10113458C2 (de) * 2001-03-19 2003-03-20 Infineon Technologies Ag Testschaltung
CN100378465C (zh) * 2001-10-05 2008-04-02 松下电器产业株式会社 Lsi检查方法及装置、lsi检测器
KR20030049481A (ko) * 2001-12-15 2003-06-25 삼성전자주식회사 저속의 테스트 장비와 인터페이스할 수 있는 반도체 장치및 이를 이용한 테스트 시스템
KR100493027B1 (ko) * 2002-10-01 2005-06-07 삼성전자주식회사 외부클럭의 주파수 체배기와 테스트 데이터의 출력버퍼를 구비하는 반도체 장치 및 반도체 장치의 테스트 방법
US7401281B2 (en) * 2004-01-29 2008-07-15 International Business Machines Corporation Remote BIST high speed test and redundancy calculation
JP2005337740A (ja) * 2004-05-24 2005-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 高速インターフェース回路検査モジュール、高速インターフェース回路検査対象モジュールおよび高速インターフェース回路検査方法
US7305598B1 (en) * 2005-03-25 2007-12-04 Amit Sanghani Test clock generation for higher-speed testing of a semiconductor device

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01149543A (ja) * 1987-12-04 1989-06-12 Fujitsu Ltd Fifoメモリ制御方法
JPH02245681A (ja) * 1989-03-17 1990-10-01 Nec Corp 複合型集積回路
JPH0481080U (ja) * 1990-11-27 1992-07-15
JPH0530778U (ja) * 1991-10-02 1993-04-23 日本電気株式会社 故障lsi検出システム
JPH09172424A (ja) * 1995-12-20 1997-06-30 Nec Corp データハイウェイ用信号速度変換回路
JPH1073643A (ja) * 1996-09-02 1998-03-17 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置試験治具
JP2003004809A (ja) * 2001-06-20 2003-01-08 Toshiba Microelectronics Corp 半導体集積回路及び高速テストシステム
JP2003098221A (ja) * 2001-09-25 2003-04-03 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置、半導体装置の試験方法及び半導体装置の試験装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR100714482B1 (ko) 2007-05-04
TWI308964B (en) 2009-04-21
US20070022334A1 (en) 2007-01-25
DE102006033188A1 (de) 2007-02-15
US7555686B2 (en) 2009-06-30
KR20070007627A (ko) 2007-01-16
TW200702678A (en) 2007-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8837655B2 (en) Memory controller with flexible data alignment to clock
US7574638B2 (en) Semiconductor device tested using minimum pins and methods of testing the same
CN107093451B (zh) Ddr sdram控制电路、ddr sdram芯片、pcb板及电子设备
JP2007024884A (ja) 半導体装置、テスト基板、半導体装置のテストシステム及び半導体装置のテスト方法
JP2002289776A (ja) 半導体装置
JP2004325410A (ja) 入出力回路
JP4191185B2 (ja) 半導体集積回路
US7558998B2 (en) Semiconductor apparatus and clock generation unit
JP2013145135A (ja) 半導体集積回路及びそのテスト方法
JP4906030B2 (ja) テスト回路およびテスト方法
US20040181723A1 (en) Scan test control method and scan test circuit
JP3891913B2 (ja) 半導体集積回路およびそのテスト方法
TWI783555B (zh) 半導體裝置與測試脈衝訊號產生方法
JP2011158440A (ja) クロック生成回路、半導体集積回路およびその試験システム
US20240105109A1 (en) Data receiving circuit, display driver, and display apparatus
CN115561612A (zh) 半导体装置与测试脉冲信号产生方法
JP2003294812A (ja) 半導体装置
JP2003302445A (ja) ダイナミックバーンイン装置用アダプタ・カードおよびダイナミックバーンイン装置
JP2004037264A (ja) スキャン機能付きフリップフロップ回路およびスキャンテスト回路
JP2004294424A (ja) スキャンテスト制御方法、及びスキャンテスト回路
JP2009168705A (ja) 半導体装置
JP2001153928A (ja) バウンダリスキャン回路
JP2006226839A (ja) 任意波形発生器及び試験装置
JP2011002377A (ja) 半導体装置及び半導体装置の試験方法
JP2009079913A (ja) 半導体集積回路装置およびその試験方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090713

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090713

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120206

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120228

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120528

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121113

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130213

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130730

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20131220