JP2007005796A - リソグラフィ装置、投影装置及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】リソグラフィ装置、投影装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】リソグラフィ装置は、基板テーブルの位置を制御するようになされた制御システムを備えており、制御システムは、投影システムの位置を表す投影システム位置信号を生成する第１の検出デバイスと、投影システム・フィードフォワード信号を生成する第２の検出デバイスと、基板テーブル位置基準信号から実際の基板テーブルの位置を表す信号を減算し、且つ、投影システム位置信号を加算することによってサーボ誤差信号を生成する比較ユニットと、サーボ誤差信号に基づいて第１の制御信号を生成する制御ユニットと、フィードフォワード信号と第１の制御信号を加算することによって第２の制御信号を生成する加算ユニットと、第２の制御信号に基づいて前記基板テーブルを所望の基板テーブル位置へ駆動するアクチュエータ・ユニットとを備えている。
【選択図】図３

Description

本発明は、リソグラフィ装置、投影装置及びデバイスを製造するための方法に関する。

リソグラフィ装置は、基板、一般的には基板の目標部分に所望のパターンを付与するマシンである。リソグラフィ装置は、たとえば集積回路（ＩＣ）の製造に使用することができる。その場合、マスク又はレチクルとも呼ばれているパターニング・デバイスを使用してＩＣの個々の層に形成すべき回路パターンが生成される。生成されたパターンは、基板（たとえばシリコン・ウェハ）上の目標部分（たとえば１つ又は複数のダイの一部が含まれている）に転送される。パターンの転送は、通常、基板の上に提供されている放射線感応材料（レジスト）の層への画像化を介して実施されている。通常、１枚の基板には、順次パターン化される目標部分に隣接する回路網が含まれている。従来のリソグラフィ装置には、パターン全体を１回で目標部分に露光することによって目標部分の各々が照射されるいわゆるステッパと、パターンを放射ビームで所与の方向（「走査」方向）に走査し、且つ、基板をこの方向に平行又は非平行に同期走査することによって目標部分の各々が照射されるいわゆるスキャナがある。また、パターンを基板にインプリントすることによってパターニング・デバイスから基板へパターンを転送することも可能である。

知られているリソグラフィ装置は、基板テーブルの位置を制御するための制御システムを備えている。この制御システムは、基板テーブルを基準信号に基づいて所望の位置に配置するようになされているだけでなく、たとえばリソグラフィ装置の振動によって生じるレンズの移動に起因する画像誤差を最小化するために、レンズを水平方向に追従させるようになされている。そのために、コントローラ誤差をレンズの移動に適合させるべく、投影システム位置信号が基板テーブル位置基準信号に追加されている。通常、投影システム位置信号は、干渉計測定システムによって得ている。レンズの移動に追従する精度をさらに良くするために、制御システムは、レンズの加速を表すフィードフォワード信号を制御システムのコントローラ・ユニットの出力信号に追加するフィードフォワード分岐を備えている。フィードフォワード信号は、レンズの上に配置された加速度計によって得ている。フィードフォワード信号は、フィードフォワード・フィルタ・ユニットによって条件付けられている。このフィードフォワード・フィルタ・ユニットは、フィードフォワード信号のアナログ・フィルタリングを備えることができ、また、フィードフォワードを適切に整形するためのディジタル・フィルタを備えることも可能である。

知られている制御システムの欠点は、フィードフォワード信号をフィルタリングすることによってフィードフォワード分岐に位相遅れ／遅延が導入され、そのために基板テーブルの実際の位置がレンズの実際の位置からずれ、延いてはサーボ誤差／レンズ・トラッキング誤差が生成されることである。このサーボ誤差／レンズ・トラッキング誤差は、支配的なレンズ共振周波数で位相進みを導入する進み遅れフィルタをフィードフォワード分岐に追加することによって対処することができる。しかしながら、これは、限られた数の周波数に対してのみ可能であり、その結果、他の周波数における応答が悪くなる。そのため、この戦略によって得られる性能は、レンズの共振周波数の数が増加し、且つ／又は位置精度要求事項がさらに厳格になると、自らその限界に達することになる。また、進み遅れフィルタは、そのレンズ依存性が極めて強く、したがって手動で調整しなければならないことがしばしばであり、そのためにレンズの移動に対する応答が悪くなる危険を大きくしている。

投影システムの移動によるサーボ誤差及び／又は投影システム・トラッキング誤差に対する影響をさらに小さくするようになされた制御システムが提供されることが望ましい。

本発明の一実施例によれば、パターン化された放射ビームを基板テーブルの上に支持されている基板の目標部分に投射するようになされた投影システムを備えたリソグラフィ装置が提供される。このリソグラフィ装置は、基板テーブルの位置を制御するようになされた制御システムを備えており、制御システムは、投影システムの位置を表す投影システム位置信号を生成するようになされた第１の検出デバイスと、投影システム・フィードフォワード信号を生成するようになされた第２の検出デバイスと、基板テーブル位置基準信号から実際の基板テーブルの位置を表す信号を減算し、且つ、投影システム位置信号を加算することによってサーボ誤差信号を生成するようになされた比較ユニットと、サーボ誤差信号に基づいて第１の制御信号を生成するようになされた制御ユニットと、投影システム・フィードフォワード信号と第１の制御信号を加算することによって第２の制御信号を生成するようになされた加算ユニットと、第２の制御信号に基づいて基板テーブルを所望の基板テーブル位置へ駆動するようになされたアクチュエータ・ユニットとを備えている。この制御システムは、さらに、基準基板テーブル位置信号への投影システム位置信号の加算に先立って投影システム位置信号をフィルタリングするようになされた投影システム位置信号フィルタ・ユニットを備えている。

本発明の一実施例によれば、パターニング・デバイス・サポートの上に支持されているパターニング・デバイスによって付与されるパターン化放射ビームを投射するようになされた投影システムを備えたリソグラフィ装置が提供される。このリソグラフィ装置は、パターニング・デバイス・サポートの位置を制御するようになされた制御システムを備えており、制御システムは、投影システムの位置を表す投影システム位置信号を生成するようになされた第１の検出デバイスと、投影システム・フィードフォワード信号を生成するようになされた第２の検出デバイスと、パターニング・デバイス・サポート位置基準信号から実際のパターニング・デバイス・サポートの位置を表す信号を減算し、且つ、投影システム位置信号を加算することによってサーボ誤差信号を生成するようになされた比較ユニットと、前記サーボ誤差信号に基づいて第１の制御信号を生成するようになされた制御ユニットと、投影システム・フィードフォワード信号と第１の制御信号を加算することによって第２の制御信号を生成するようになされた加算ユニットと、第２の制御信号に基づいてパターニング・デバイス・サポートを所望のパターニング・デバイス・サポート位置へ駆動するようになされたアクチュエータ・ユニットとを備えている。この制御システムは、さらに、基準パターニング・デバイス・サポート位置信号への投影システム位置信号の加算に先立って投影システム位置信号をフィルタリングするようになされた投影システム位置信号フィルタ・ユニットを備えている。

本発明の一実施例によれば、第１のコンポーネント基準信号及び第２のコンポーネントの位置に基づいて第１のコンポーネントの位置を制御するようになされた制御システムを備えた投影装置が提供される。制御システムは、第２のコンポーネントの位置を表す第２のコンポーネント位置信号を生成するようになされた第１の検出デバイスと、第２のコンポーネント・フィードフォワード信号を生成するようになされた第２の検出デバイスと、第１のコンポーネント位置基準信号から実際の第１のコンポーネントの位置を表す信号を減算し、且つ、第２のコンポーネント位置信号を加算することによってサーボ誤差信号を生成するようになされた比較ユニットと、サーボ誤差信号に基づいて第１の制御信号を生成するようになされた制御ユニットと、第２のコンポーネント・フィードフォワード信号と第１の制御信号を加算することによって第２の制御信号を生成するようになされた加算ユニットと、第２の制御信号に基づいて第１のコンポーネントを所望の第１のコンポーネント位置へ駆動するようになされたアクチュエータ・ユニットとを備えている。この制御システムは、さらに、基準第１コンポーネント位置信号への第２のコンポーネント位置信号の加算に先立って第２のコンポーネント位置信号をフィルタリングするようになされた第２のコンポーネント位置信号フィルタ・ユニットを備えている。

本発明の一実施例によれば、基板テーブルの上に支持されている基板にパターン化された放射のビームを投射するために投影システムを使用するステップを含むデバイス製造方法であって、基板テーブルの位置を制御するようになされた制御システムが使用され、投影システムの位置を表す投影システム位置信号が基板テーブル位置基準信号と実際の基板テーブルの位置の差に加算され、それにより制御ユニットの入力として使用されるサーボ誤差信号が得られ、フィードフォワード分岐内で投影システム・フィードフォワード信号が制御ユニットの第１の制御信号に加算され、それにより第２の制御信号が得られ、第２の制御信号を使用して基板テーブルが所望の基板テーブル位置へ駆動され、前記基板テーブル位置基準信号と前記実際の基板テーブルの位置の差への加算に先立って投影システム位置信号フィルタ・ユニットによって投影システム位置信号がフィルタリングされるデバイス製造方法が提供される。

本発明の一実施例によれば、パターニング・デバイス・サポートの上に支持されているパターニング・デバイスによってパターンが付与されるパターン化放射ビームを投射するために投影システムを使用するステップを含むデバイス製造方法であって、パターニング・デバイス・サポートの位置を制御するようになされた制御システムが使用され、投影システムの位置を表す投影システム位置信号がパターニング・デバイス・サポート位置基準信号と実際のパターニング・デバイス・サポートの位置の差に加算され、それにより制御ユニットの入力として使用されるサーボ誤差信号が得られ、フィードフォワード分岐内で投影システム・フィードフォワード信号が制御ユニットの第１の制御信号に加算され、それにより第２の制御信号が得られ、第２の制御信号を使用してパターニング・デバイス・サポートが所望のパターニング・デバイス・サポート位置へ駆動され、パターニング・デバイス・サポート位置基準信号と実際のパターニング・デバイス・サポートの位置の差への加算に先立って投影システム位置信号フィルタ・ユニットによって投影システム位置信号がフィルタリングされるデバイス製造方法が提供される。

本発明の一実施例によれば、投影装置を使用するステップを含むデバイス製造方法であって、第１のコンポーネント基準信号及び第２のコンポーネントの位置に基づいて第１のコンポーネントの位置を制御するようになされた制御システムが使用され、第２のコンポーネントの位置を表す第２のコンポーネント位置信号が第１のコンポーネント位置基準信号と実際の第１のコンポーネントの位置の差に加算され、それにより制御ユニットの入力として使用されるサーボ誤差信号が得られ、フィードフォワード分岐内で投影システム・フィードフォワード信号が制御ユニットの第１の制御信号に加算され、それにより第２の制御信号が得られ、第２の制御信号を使用して第１のコンポーネントが所望の第１のコンポーネント位置へ駆動され、前記第１のコンポーネント位置基準信号と実際の第１のコンポーネントの位置の差への加算に先立って第２のコンポーネント位置信号フィルタ・ユニットによって第２のコンポーネント位置信号がフィルタリングされるデバイス製造方法が提供される。

以下、本発明の実施例について、単なる例としてのみ、添付の略図を参照して説明する。図において、同様の参照記号は同様の部品を表している。

図１は、本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を略図で示したものである。このリソグラフィ装置は、放射ビームＢ（たとえばＵＶ放射又は他の適切な任意の放射）を条件付けるようになされた照明システム（イルミネータ）ＩＬ、及びパターニング・デバイス（たとえばマスク）ＭＡを支持するように構築された、特定のパラメータに従って該パターニング・デバイスを正確に位置決めするようになされた第１の位置決めデバイスＰＭに接続されたマスク支持構造（たとえばマスク・テーブル）ＭＴを備えている。また、このリソグラフィ装置は、基板（たとえばレジスト被覆ウェハ）Ｗを保持するように構築された、特定のパラメータに従って該基板を正確に位置決めするようになされた第２の位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（たとえばウェハ・テーブル）ＷＴ即ち「基板サポート」を備えている。このリソグラフィ装置は、さらに、パターニング・デバイスＭＡによって放射ビームＢに付与されたパターンを基板Ｗの目標部分Ｃ（たとえば１つ又は複数のダイが含まれている）に投影するようになされた投影システム（たとえば屈折投影レンズ系）ＰＳを備えている。

照明システムは、放射を導き、整形し、又は制御するための、屈折光学コンポーネント、反射光学コンポーネント、磁気光学コンポーネント、電磁光学コンポーネント、静電光学コンポーネント又は他のタイプの光学コンポーネント、或いはそれらの任意の組合せなどの様々なタイプの光学コンポーネントを備えることができる。

マスク支持構造はパターニング・デバイスを支持している。つまり、マスク支持構造はパターニング・デバイスの重量を支えている。マスク支持構造は、パターニング・デバイスの配向、リソグラフィ装置の設計及び他の条件、たとえばパターニング・デバイスが真空環境中で保持されているか否か等に応じた方法でパターニング・デバイスを保持している。マスク支持構造には、パターニング・デバイスを保持するための機械式クランプ技法、真空クランプ技法、静電クランプ技法又は他のクランプ技法を使用することができる。マスク支持構造は、たとえば必要に応じて固定又は移動させることができるフレーム又はテーブルであっても良い。マスク支持構造は、パターニング・デバイスをたとえば投影システムに対して所望の位置に確実に配置することができる。本明細書における「レチクル」又は「マスク」という用語の使用はすべて、より一般的な「パターニング・デバイス」という用語の同義語と見なすことができる。

本明細書に使用されている「パターニング・デバイス」という用語は、放射ビームの断面にパターンを付与し、それにより基板の目標部分にパターンを生成するべく使用することができる任意のデバイスを意味するものとして広義に解釈されたい。放射ビームに付与されるパターンは、たとえばそのパターンに移相フィーチャ又はいわゆる補助フィーチャが含まれている場合、基板の目標部分における所望のパターンに必ずしも厳密に対応している必要はないことに留意されたい。放射ビームに付与されるパターンは、通常、目標部分に生成されるデバイス、たとえば集積回路などのデバイス中の特定の機能層に対応している。

パターニング・デバイスは、透過型であっても反射型であっても良い。パターニング・デバイスの実施例には、マスク、プログラム可能ミラー・アレイ及びプログラム可能ＬＣＤパネルがある。マスクについてはリソグラフィにおいては良く知られており、バイナリ、交番移相及び減衰移相などのマスク・タイプ、並びに様々なハイブリッド・マスク・タイプが知られている。プログラム可能ミラー・アレイの実施例には、マトリックスに配列された、入射する放射ビームが異なる方向に反射するよう個々に傾斜させることができる微小ミラーが使用されている。この傾斜したミラーによって、ミラー・マトリックスで反射する放射ビームにパターンが付与される。

本明細書に使用されている「投影システム」という用語には、たとえば使用する露光放射に適した、又は液浸液の使用又は真空の使用などの他の要因に適した、屈折光学系、反射光学系、カタディオプトリック光学系、磁気光学系、電磁光学系及び静電光学系、或いはそれらの任意の組合せを始めとする任意のタイプの投影システムが包含されているものとして広義に解釈されたい。本明細書における「投影レンズ」及び「レンズ」という用語の使用はすべて、より一般的な「投影システム」という用語の同義語と見なすことができる。

図に示すように、このリソグラフィ装置は、透過型（たとえば透過型マスクを使用した）タイプの装置である。別法としては、このリソグラフィ装置は、反射型（たとえば上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイを使用した、又は反射型マスクを使用した）タイプの装置であっても良い。

リソグラフィ装置は、２つ（二重ステージ）以上の基板テーブル即ち「基板サポート」（及び／又は複数のマスク・テーブル即ち「マスク・サポート」）を有するタイプの装置であっても良い。このような「多重ステージ」マシンの場合、追加テーブル即ちサポートを並列に使用することができ、或いは１つ又は複数の他のテーブル即ちサポートを露光のために使用している間、１つ又は複数のテーブル即ちサポートに対して予備ステップを実行することができる。

また、リソグラフィ装置は、基板の少なくとも一部が比較的屈折率の大きい液体、たとえば水で覆われ、それにより投影システムと基板の間の空間が充填されるタイプの装置であっても良い。また、リソグラフィ装置内の他の空間、たとえばマスクと投影システムの間の空間に液浸液を加えることも可能である。液浸技法を使用することにより、投影システムの開口数を大きくすることができる。本明細書に使用されている「液浸」という用語は、基板などの構造を液体中に浸すことを意味しているのではなく、単に、露光の間、投影システムと基板の間に液体が置かれることを意味しているにすぎない。

図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受け取っている。放射源がたとえばエキシマ・レーザである場合、放射源及びリソグラフィ装置は、個別の構成要素にすることができる。このような場合、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成しているとは見なされず、放射ビームは、たとえば適切な誘導ミラー及び／又はビーム・エキスパンダを備えたビーム引渡しシステムＢＤを使用して放射源ＳＯからイルミネータＩＬへ引き渡される。それ以外のたとえば放射源が水銀灯などの場合、放射源はリソグラフィ装置の一構成要素にすることができる。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要に応じてビーム引渡しシステムＢＤと共に放射システムと呼ぶことができる。

イルミネータＩＬは、放射ビームの角強度分布を調整するようになされたアジャスタＡＤを備えることができる。通常、イルミネータのひとみ平面内における強度分布の少なくとも外部及び／又は内部ラジアル・エクステント（一般に、それぞれσ−外部及びσ−内部と呼ばれている）は調整が可能である。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの他の様々なコンポーネントを備えることができる。イルミネータを使用して放射ビームを条件付け、所望する一様な強度分布をその断面に持たせることができる。

マスク支持構造（たとえばマスク・テーブルＭＴ）の上に保持されているパターニング・デバイス（たとえばマスクＭＡ）に放射ビームＢが入射し、パターニング・デバイスによってパターン化される。マスクＭＡを透過した放射ビームＢは、放射ビームを基板Ｗの目標部分Ｃに集束させる投影システムＰＳを通過する。基板テーブルＷＴは、第２の位置決めデバイスＰＷ及び位置センサＩＦ（たとえば干渉デバイス、直線エンコーダ又は容量センサ）を使用して正確に移動させることができ、それによりたとえば異なる目標部分Ｃを放射ビームＢの光路内に配置することができる。同様に、第１の位置決めデバイスＰＭ及びもう１つの位置センサ（図１には明確に示されていない）を使用して、たとえばマスク・ライブラリから機械的に検索した後、又は走査中に、マスクＭＡを放射ビームＢの光路に対して正確に配置することができる。通常、マスク・テーブルＭＴの移動は、第１の位置決めデバイスＰＭの一部を形成している長ストローク・モジュール（粗位置決め）及び短ストローク・モジュール（精密位置決め）を使用して実現することができる。同様に、基板テーブルＷＴ即ち「基板サポート」の移動は、第２の位置決めデバイスＰＷの一部を形成している長ストローク・モジュール及び短ストローク・モジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合（スキャナではなく）、マスク・テーブルＭＴは、短ストローク・アクチュエータのみに接続することができ、又は固定することも可能である。マスクＭＡ及び基板Ｗは、マスク・アライメント・マークＭ１、Ｍ２及び基板アライメント・マークＰ１、Ｐ２を使用して整列させることができる。図には専用目標部分を占有している基板アライメント・マークが示されているが、基板アライメント・マークは、目標部分と目標部分の間の空間に配置することも可能である（このような基板アライメント・マークは、スクライブ・レーン・アライメント・マークとして知られている）。同様に、複数のダイがマスクＭＡ上に提供される場合、ダイとダイの間にマスク・アライメント・マークを配置することができる。

図に示す装置は、以下に示すモードのうちの少なくとも１つのモードで使用することができる。
ステップ・モード：マスク・テーブルＭＴ即ち「マスク・サポート」及び基板テーブルＷＴ即ち「基板サポート」が基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Ｃに１回で投影される（即ち単一静止露光）。次に、基板テーブルＷＴ即ち「基板サポート」がＸ方向及び／又はＹ方向にシフトされ、異なる目標部分Ｃが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Ｃのサイズが制限される。
走査モード：放射ビームに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影されている間、マスク・テーブルＭＴ即ち「マスク・サポート」及び基板テーブルＷＴ即ち「基板サポート」が同期走査される（即ち単一動的露光）。マスク・テーブルＭＴ即ち「マスク・サポート」に対する基板テーブルＷＴ即ち「基板サポート」の速度及び方向は、投影システムＰＳの倍率（縮小率）及び画像反転特性によって決まる。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅（非走査方向の幅）が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ（走査方向の高さ）が決まる。
その他のモード：プログラム可能パターニング・デバイスを保持するべくマスク・テーブルＭＴ即ち「マスク・サポート」が基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Ｃに投影されている間、基板テーブルＷＴ即ち「基板サポート」が移動又は走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルＷＴ即ち「基板サポート」が移動する毎に、又は連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターニング・デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターニング・デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。

上で説明した使用モードの組合せ及び／又はその変形形態、或いは全く異なる使用モードを使用することも可能である。

図２は、基板テーブルの水平方向の位置を制御するための従来技術による制御技術を示したものである。制御技術は、制御ユニットＣ、フィルタ・ユニットＦ、及び伝達関数Ｐを有する基板テーブルを備えている。比較ユニットの中で基板テーブルの実際の位置信号ｙが基板テーブル位置基準信号ｒから減算され、それにより制御ユニットＣの入力として使用されるサーボ誤差信号ｅ_ｒが得られる。基板テーブル位置基準信号が変化すると、制御ユニットＣは、基板テーブルを駆動して所望の位置へ移動させ、それにより実際の基板テーブル信号の位置信号と基板テーブル位置基準信号が等しくなり、その結果サーボ誤差信号がゼロになる。この制御技術は、さらに、本発明には直接関係のない、たとえば基準信号加速度フィードフォワードなどの複数のエレメントを備えることができることに注目されたい。このようなエレメントは、図２の制御技術には示されていない。

フィルタＦを使用して制御信号を条件付けることができ、また、フィルタＦは、たとえば、基板テーブルの共振周波数における基板テーブルの応答を減衰させるノッチ・フィルタを備えることができる。制御信号をフィルタリングするための他の適切な任意のフィルタ・タイプを利用することもできる。

リソグラフィ装置の振動又は他の運動によって投影システム又は投影システムの一部が移動し、そのためにリソグラフィ装置によって基板に投影される画像に悪影響がもたらされ、延いては画像化誤差が生じることになる。したがって、レンズの移動によって生じるこれらの画像化誤差を回避し、又は少なくとも小さくするためには、基板テーブルが投影システムの移動、たとえばレンズ（レンズ列）の移動に対して反動することが望ましい。

基板テーブルをレンズの移動に追従させるために、比較ユニットの中でレンズの実際の位置を表す信号ｕが基板テーブル位置基準信号ｒと実際の基板テーブル位置信号ｙの差に加算される。信号ｕは、干渉計測定システムなどの第１の検出デバイスによって得ることができる。

レンズの移動に対する基板テーブルの反動をさらに改善するために、フィードフォワード分岐が制御技術に導入されている。このフィードフォワード分岐内でレンズの加速度を表すフィードフォワード信号がｍ倍され（ｍは、基板テーブルの質量を表している）、続いて制御ユニットＣの出力信号に加算される。基板テーブルの質量ｍを掛ける前に、フィードフォワード・フィルタＱによってフィードフォワード信号がフィルタリングされる。代替実施例では、フィードフォワード・フィルタＱと質量掛算器ｍの順序を逆にすることができる。

このアプリケーションの場合、基板テーブルの上で支持されている基板の質量を含んだ概ね基板テーブルの質量であるｍは静止信号であるので、レンズの加速度を表す信号は、該ｍで既に掛け合わせ済みの加速度信号であっても良い。たとえば加速度計によって生成される信号は、既に基板テーブルの質量が考慮された信号であっても良い。また、この信号は、図２に示すようにフィードフォワード分岐内で後でｍ倍することも可能である。

加速度信号ａは、加速度計などの第２の検出デバイスによって得ることができるが、この第２の検出デバイスは、第１の検出デバイスと同じデバイスであっても良く、その場合、投影システムの加速度は、位置信号ｕを微分することによって得られる。図２の制御技術は、この第２の実施例を示したもので、ｕをｓ^２倍することによって加速度信号ａを得ている。実際には、個別の加速度計を使用して加速度信号ａを得ることが好ましい。

フィードフォワード・フィルタＱは、加速度計信号のアナログ・フィルタリングを備えることができ、また、フィードフォワード信号を整形するようになされた可能ディジタル・フィルタを備えることができる。フィードフォワード・フィルタＱ及びＦフィルタのアナログ・フィルタは、フィードフォワード分岐に位相遅れを導入することができる（ａからｙへ）。また、ディジタル・システムには、たとえばゼロ次保持機能を実行するＤＡＣの遅延、計算遅延などによる若干の遅延が存在している可能性がある。したがってｙがｕより遅れ、そのためにサーボ誤差ｅ_ｒが生じることになる。

フィードフォワード・フィルタ・ユニットＱのディジタル・フィルタは、支配的なレンズ共振周波数で位相進みを導入する、フィードフォワード分岐の位相遅れ／遅延を補償するための進み遅れフィルタを備えることができる。しかしながら、これは、限られた数の周波数に対してのみ可能であり、その結果、他の周波数における応答が悪くなる。そのため、この方法によって得られる性能は、レンズの共振周波数の数が増加し、且つ／又は位置精度要求事項がさらに厳格になると、自らその限界に達することになる。また、進み遅れフィルタは、そのレンズ依存性が極めて強く、したがって手動で調整しなければならないことがしばしばであり、そのためにレンズの移動に対する応答が悪くなる危険を大きくしている。サーボ誤差及び／又はレンズ・トラッキング誤差、つまり投影システムの実際の位置と基板テーブルの実際の位置の差を小さくするための他の解決法が必要である。

図３は、本発明の一実施例による制御システムの制御技術を示したものである。制御技術は、比較ユニットでの加算に先立って投影システム位置信号をフィルタリングするようになされたフィルタＬを備えている。また、制御技術には、レンズ・トラッキング誤差（投影システム・トラッキング誤差）信号ｅ_ｕ、つまりレンズの位置信号ｕ（の変化）と基板テーブルの実際の位置信号ｙ（の変化）の差が示されている。このレンズ・トラッキング誤差信号ｅ_ｕを使用して、画像を基板に投影する際に基板テーブルと投影システムの間の不整列によって生じる画像化誤差を表すことができる。制御技術内におけるｕとｙの比較は、実際には制御技術の実際の物理部分ではなく、レンズ・トラッキング誤差信号ｅ_ｕを表すために示されているにすぎない。

比較ユニットへの供給に先立って投影システム位置信号ｕをフィルタリングするためのフィルタＬを追加することにより、以下で説明するように、レンズの位置変化に対する基板テーブルの応答をさらに改善することができる。

ここでは、フィルタＬの伝達関数を選択するための２つの可能選択基準が提案されている。他の選択基準も可能であり、本発明の範囲内である。

第１の実施例では、フィルタＬは、サーボ誤差ｅ_ｒが最小になるように選択されている。このサーボ誤差ｅ_ｒを最小化するために、Ｌは、制御技術におけるｕからｙまでのフィードフォワード経路に等しくなるように選択されている。つまり、
Ｌ＝ＱＦ

ここでは、プロセス伝達関数Ｐには、プロセス伝達関数Ｐを１／ｍｓ^２から逸脱させる一切の動特性が含まれていないことが仮定されている。このような動特性がＰに含まれている場合、これらの動特性も同じくフィルタＬの伝達関数に含まれることになる。

このフィルタＬ＝ＱＦは、フィルタが「固有」即ち余分の極を有する２つのフィルタからなっているため、容易に実現することできる。以下、第１の実施例に従って選択されたフィルタＬをＬ１で表すことにする。

第２の実施例では、フィルタＬは、レンズ・トラッキング誤差ｅ_ｕ、つまりレンズの位置（の変化）と基板テーブルの実際の位置ｙの差が最小になるように選択されている。ｅ_ｕを最小化するために、最初にｕからｙまでの総合伝達関数が計算される。

この伝達関数が１に等しい場合、ｅ_ｕはゼロである。ここでｙ／ｕ＝１を設定すると、次のようにＬ２を計算することができる。

また、ここでも、プロセス伝達関数Ｐには、プロセス伝達関数Ｐを１／ｍｓ^２から逸脱させる一切の動特性が含まれていないことが仮定されている。このような動特性がＰに含まれている場合、これらの動特性も同じくフィルタＬの伝達関数に含まれることになる。

Ｌに対するこの選択は、フィルタＬが、この場合、主として分子のｓ^２の項及び分母の積ＣＦＰのために３つの余剰ゼロ（ｚｅｒｏ ｅｘｃｅｓｓ ｏｆ ３）を有しているため、その実現は、実施例１の場合ほどには容易ではない。Ｌに対するこの選択を実施可能にするために、次数３の低域通過フィルタがＬに含まれている。この実施例では、低域通過遮断周波数は、１００００Ｈｚに設定されている。実際にはもっと小さい値を適用することも可能である。以下、本発明の第２の実施例に従って選択されたフィルタＬをＬ２で表すことにする。

次に、本発明の第１及び第２の実施例によるフィルタ・ユニットＬ１及びＬ２のアプリケーションの効果と、フィルタＬのない従来技術による制御技術を１つの実施例で比較する。

この実施例では、フィルタＦは、１５０Ｈｚのノッチ・フィルタであり、制御ユニットＣは、ＰＩＤと帯域幅が１００Ｈｚの低域通過コントローラである。Ｑは、遮断周波数が５００Ｈｚの低域通過フィルタである。プロセスの伝達関数Ｐは、上で示したように１／ｍｓ^２である。質量ｍは１０ｋｇである。

図４は、伝達関数ｙ／ｕに対するＬ１及びＬ２の使用効果（つまりレンズの移動に対する基板テーブルの反動）をそれぞれ示したものである。縦軸は、デシベル単位のｙ／ｕを示している。フィルタリングがない場合（Ｌ＝１）、ｙ／ｕは、＋８デシベルの利得に到達し得ることが分かる。これは、基板テーブルが２．５の係数で過剰反動していることを意味している。一方、フィルタＬ１を使用した場合、０デシベルより大きい応答をｙ／ｕが示すことは一切ない。周波数がもっと高い場合、高い周波数に対する開ループ利得が小さいため、曲線はいずれもＱの低域通過フィルタリング特性に従う。Ｌ２を使用した場合、ｙ／ｕは実質的に０デシベルに等しく、全ての周波数に対してｙがほぼｕに等しいことを示している。

図５は、ｅ_ｕ／ｕ（同じく単位はデシベル）の伝達関数を示したもので、つまり特定の周波数に対して基板テーブルが実際に如何に良好にレンズに追従するかを示したものである。この場合、レンズの位置と基板テーブルの位置の間の差がより小さくなるため、もっと小さい値の方がより良好である。周波数が低い場合、フィルタ・ユニットＬを使用しない場合と比較すると、伝達関数の大きさがより大きくなるため、Ｌ１を使用することによって性能が低下することが分かる。フィルタ・ユニットＬがない場合と比較すると、Ｌ１を使用した場合、６５Ｈｚ近辺からその挙動が改善される。レンズ周波数は、通常、９０Ｈｚ近辺からスタートするため、正味の効果は依然として有効である。Ｌ２を使用した場合、総合伝達関数がはるかに小さく、一般的により小さいｅ_ｕを示している。

図６、７及び８は、フィルタ・ユニットＬがなく、フィルタＬ１及びフィルタＬ２をそれぞれ備えたシステムの、振幅がそれぞれ１０ｎｍ及び２ｎｍの１００Ｈｚ及び１９０Ｈｚのレンズの移動に対する時間応答を示したものである。図６、７及び８の各々の上側の窓はサーボ誤差ｅ_ｒを示し、下側の窓はレンズ・トラッキング誤差ｅ_ｕを示している。

図６は、フィルタ・ユニットＬがない場合のレンズに対する基板テーブル誤差（つまり下側の窓のｅ_ｕ）が約１２ｎｍであり、図５に示す１００Ｈｚの点線の利得と一致していることを示している。また、サーボ誤差ｅ_ｒ及びレンズ・トラッキング誤差ｅ_ｕが同じであることは明らかである。

図７から分かるように、フィルタＬ１を備えたフィルタ・ユニットを使用した場合、サーボ誤差ｅ_ｒは、期待通りにゼロまで減少する。レンズ・トラッキング誤差は約６ｎｍまで減少し、−６デシベルの利得は、利得が半分に減少することに対応しているため、図５に示す１００Ｈｚの点線と一致している。

図８は、フィルタ・ユニットＬ２を使用した場合の結果を示したものである。この場合、レンズ・トラッキング誤差ｅ_ｕはほぼゼロであり、一方、サーボ誤差ｅ_ｒは約６ｎｍになっている。

この実施例の結果から、フィルタＬを使用して投影システム位置信号をフィルタリングすることにより、実質的にサーボ誤差とレンズ・トラッキング誤差の両方を小さくすることができる、と結論付けることができる。Ｌを選択することによってどの誤差が最も減少するかが決まる。フィルタＬを選択する場合、たとえばサーボ誤差を最小化するようにＬを選択することができ、また、レンズ・トラッキング誤差を最小化し、又はサーボ誤差とレンズ・トラッキング誤差の両方、たとえばサーボ誤差とレンズ・トラッキング誤差の（重み付けされた）和を最小化するようにＬを選択することができ、さらには他の任意の適切な最適化基準を選択することも可能である。

この実施例では、Ｌ即ちＬ１及びＬ２の選択に対する２つの可能選択肢が示されている。サーボ誤差ｅ_ｒ及びレンズ・トラッキング誤差ｅ_ｕをそれぞれ最小化するためにＬ１及びＬ２が選択されている。また、Ｌ１及びＬ２の使用は、それぞれｅ_ｕ及びｅ_ｒに対する有効な低減効果を有している。システム要求事項に応じて、フィルタ・ユニットＬの伝達関数を選択するための他の設計方式を使用することができる。この点に関して、伝達関数ｅ_ｒ／ｕ及び／又はｅ_ｕ／ｕに必要なことは、レンズの移動ｕに実際に存在している周波数に対してゼロに近づけることのみであることに注目されたい。この実施例では、このレンズ周波数スペクトルは考慮されていない。しかしながら、実際のフィルタＬの選択に際してはこのレンズ周波数スペクトルを考慮することができる。

本発明の実施例によるフィルタＬの使用は、とりわけ、レンズなどの投影システムの水平方向の移動に対する基板テーブルの同じ水平方向の反動移動の提供に適している。しかしながら、この制御技術を使用して投影システムの垂直方向の移動に基板テーブルを応答させることも可能である。

また、フィルタＬを備えた制御技術を使用して、リソグラフィ装置内で使用される他の任意の信号のフィードフォワードを最適化することも可能である。詳細には、この制御技術を有効に使用して、投影システムの位置変化に対してパターニング・デバイス・サポートをより正確に応答させることができる。また、この制御技術は、リソグラフィ装置の第１のコンポーネント、より一般的には投影装置がリソグラフィ装置の第２のコンポーネントの移動（位置の変化）に実質的に追従し、或いは修正することが望ましいシステムのサーボ誤差及び／又はトラッキング誤差の低減にとりわけ良好に適用することができる。たとえば、制御システムがパターニング・デバイス・サポートの移動に反応するようになされた制御技術を使用して基板テーブルの位置を制御することも可能である。

以上の観点から、基板テーブルの位置を制御するための制御システムに関するこの用途の中で説明した本発明の特徴を利用して、パターニング・デバイス・サポートの位置、より一般的には第１のコンポーネントの位置を制御することも可能である。

本明細書においては、ＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用についてとりわけ参照されているが、本明細書において説明したリソグラフィ装置は、集積光学系、磁気領域メモリのための誘導及び検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造などの他の用途を有していることを理解されたい。このような代替用途の場合においては、本明細書における「ウェハ」又は「ダイ」という用語の使用はすべて、それぞれより一般的な「基板」又は「目標部分」という用語の同義語と見なすことができることは当業者には理解されよう。本明細書において参照されている基板は、たとえばトラック（通常、基板にレジストの層を塗布し、且つ、露光済みのレジストを現像するツール）、度量衡学ツール及び／又は検査ツール中で、露光前又は露光後に処理することができる。利用可能である場合、本明細書における開示は、このような基板処理ツール及び他の基板処理ツールに利用することができる。また、基板は、たとえば多層ＩＣを生成するために複数回に亘って処理することができるため、本明細書において使用されている基板という用語は、処理済みの複数の層が既に含まれている基板を指している場合もある。

また、光リソグラフィに関連する本発明による実施例の使用について、とりわけ上で参照されているが、本発明は、他の用途、たとえばインプリントリソグラフィに使用することができ、状況が許容する場合、光リソグラフィに限定されないことは理解されよう。インプリントリソグラフィの場合、基板に生成されるパターンは、パターニング・デバイスのトポグラフィによって画定される。パターニング・デバイスのトポグラフィが、基板に供給されているレジストの層にプレスされ、次に、レジストを硬化させるべく、電磁放射、熱、圧力又はそれらの組合せが印加される。レジストが硬化すると、パターニング・デバイスがレジストから除去され、後にパターンが残される。

本明細書に使用されている「放射」及び「ビーム」という用語には、紫外（ＵＶ）放射（たとえば３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ又は１２６ｎｍの波長或いはその近辺の波長の放射）及び極紫外（ＥＵＶ）放射（たとえば波長の範囲が５〜２０ｎｍの放射）、並びにイオン・ビーム又は電子ビームなどの粒子線を含むあらゆるタイプの電磁放射が包含されている。

状況が許容する場合、「レンズ」という用語は、屈折光学コンポーネント、反射光学コンポーネント、磁気光学コンポーネント、電磁光学コンポーネント及び静電光学コンポーネントを始めとする様々なタイプの光学コンポーネントのうちの任意の１つ又は組合せを意味している。

以上、本発明の特定の実施例について説明したが、説明した以外の方法で本発明を実践することができることは理解されよう。たとえば本発明は、上で開示した方法を記述した１つ又は複数の機械可読命令シーケンスを含んだコンピュータ・プログラムの形態を取ることができ、又はこのようなコンピュータ・プログラムを記憶したデータ記憶媒体（たとえば半導体記憶装置、磁気ディスク又は光ディスク）の形態を取ることができる。

以上の説明は例証を意図したものであり、本発明を限定するものではない。したがって、特許請求の範囲を逸脱することなく、上で説明したように本発明に改変を加えることができることは当業者には明らかであろう。

本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を示す図である。 制御システムの従来の制御技術を示す図である。 本発明の一実施例による制御システムの制御技術を示す図である。 従来技術及び本発明の２つの好ましい実施例による伝達関数ｙ／ｕを示すグラフである。 従来技術及び本発明の２つの好ましい実施例による伝達関数ｅ_ｕ／ｕを示すグラフである。 従来技術によるシステムのレンズの移動に対するサーボ誤差及びレンズ・トラッキング誤差の時間応答を示すグラフである。 本発明の第１の好ましい実施例によるシステムのレンズの移動に対するサーボ誤差及びレンズ・トラッキング誤差の時間応答を示すグラフである。 本発明の第２の好ましい実施例によるシステムのレンズの移動に対するサーボ誤差及びレンズ・トラッキング誤差の時間応答を示すグラフである。

符号の説明

ａ 加速度信号
ＡＤ 放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタ
Ｂ 放射ビーム
ＢＤ ビーム引渡しシステム
Ｃ 制御ユニット
ＣＯ コンデンサ
ｅ_ｒ サーボ誤差
ｅ_ｕ レンズ・トラッキング誤差（投影システム・トラッキング誤差）
Ｆ フィルタ・ユニット
ＩＦ 位置センサ
ＩＬ 照明システム（イルミネータ）
ＩＮ インテグレータ
Ｌ フィルタ
ｍ 基板テーブルの質量（質量掛算器）
ＭＡ パターニング・デバイス（マスク）
ＭＴ マスク支持構造（マスク・テーブル）
Ｍ１、Ｍ２ マスク・アライメント・マーク
Ｐ 伝達関数
ＰＭ 第１の位置決めデバイス
ＰＳ 投影システム
ＰＷ 第２の位置決めデバイス
Ｐ１、Ｐ２ 基板アライメント・マーク
Ｑ フィードフォワード・フィルタ
ｒ 基板テーブル位置基準信号
ＳＯ 放射源
ｕ レンズの実際の位置を表す信号（レンズの位置）
Ｗ 基板
ＷＴ 基板テーブル
ｙ 基板テーブルの実際の位置

Claims (18)

1. パターン化された放射ビームを基板テーブルの上に支持されている基板の目標部分に投射するようになされた投影システムを備えたリソグラフィ装置であって、前記基板テーブルの位置を制御するようになされた制御システムを備え、前記制御システムが、
   前記投影システムの位置を表す投影システム位置信号を生成するようになされた第１の検出デバイスと、
   投影システム・フィードフォワード信号を生成するようになされた第２の検出デバイスと、
   基板テーブル位置基準信号から実際の基板テーブルの位置を表す信号を減算し、且つ、前記投影システム位置信号を加算することによってサーボ誤差信号を生成するようになされた比較ユニットと、
   前記サーボ誤差信号に基づいて第１の制御信号を生成するようになされた制御ユニットと、
   前記投影システム・フィードフォワード信号と前記第１の制御信号を加算することによって第２の制御信号を生成するようになされた加算ユニットと、
   前記第２の制御信号に基づいて前記基板テーブルを所望の基板テーブル位置へ駆動するようになされたアクチュエータ・ユニットとを備え、
   前記制御システムが、前記基準基板テーブル位置信号への前記投影システム位置信号の加算に先立って前記投影システム位置信号をフィルタリングするようになされた投影システム位置信号フィルタ・ユニットをさらに備えたリソグラフィ装置。
2. 前記投影システム位置信号フィルタ・ユニットが、前記サーボ誤差信号を最小化し、且つ／又は投影システム・トラッキング誤差を最小化するようになされた、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記制御システムが、前記フィードフォワード信号を条件付けるようになされたフィードフォワード・フィルタ・ユニットを備え、前記投影システム位置信号フィルタ・ユニットの伝達関数の少なくとも一部が前記フィードフォワード・フィルタ・ユニットの伝達関数を含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
4. 前記制御システムが、前記第２の制御信号をフィルタリングするようになされた制御信号フィルタ・ユニットを備え、前記投影システム位置信号フィルタ・ユニットの伝達関数の少なくとも一部が前記制御信号フィルタ・ユニットの伝達関数を含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
5. 伝達関数１／ｍｓ^２から逸脱するあらゆるシステム動特性が前記投影システム位置信号フィルタ・ユニットの伝達関数に実質的に包含された、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
6. 前記投影システム・フィードフォワード信号が前記投影システムの加速度を表す、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
7. 前記制御システムが、前記加算ユニットへの供給に先立って前記投影システム・フィードフォワード信号と前記基板テーブルのおおよその質量を掛算するようになされた掛算器ユニットを備えた、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
8. パターニング・デバイス・サポートの上に支持されているパターニング・デバイスによって付与されるパターン化放射ビームを投射するようになされた投影システムを備えたリソグラフィ装置であって、前記パターニング・デバイス・サポートの位置を制御するようになされた制御システムを備え、前記制御システムが、
   前記投影システムの位置を表す投影システム位置信号を生成するようになされた第１の検出デバイスと、
   投影システム・フィードフォワード信号を生成するようになされた第２の検出デバイスと、
   パターニング・デバイス・サポート位置基準信号から実際のパターニング・デバイス・サポートの位置を表す信号を減算し、且つ、前記投影システム位置信号を加算することによってサーボ誤差信号を生成するようになされた比較ユニットと、
   前記サーボ誤差信号に基づいて第１の制御信号を生成するようになされた制御ユニットと、
   前記投影システム・フィードフォワード信号と前記第１の制御信号を加算することによって第２の制御信号を生成するようになされた加算ユニットと、
   前記第２の制御信号に基づいて前記パターニング・デバイス・サポートを所望のパターニング・デバイス・サポート位置へ駆動するようになされたアクチュエータ・ユニットとを備え、
   前記制御システムが、前記基準パターニング・デバイス・サポート位置信号への前記投影システム位置信号の加算に先立って前記投影システム位置信号をフィルタリングするようになされた投影システム位置信号フィルタ・ユニットをさらに備えたリソグラフィ装置。
9. 第１のコンポーネント基準信号及び第２のコンポーネントの位置に基づいて第１のコンポーネントの位置を制御するようになされた制御システムを備えた投影装置であって、前記制御システムが、
   前記第２のコンポーネントの位置を表す第２のコンポーネント位置信号を生成するようになされた第１の検出デバイスと、
   第２のコンポーネント・フィードフォワード信号を生成するようになされた第２の検出デバイスと、
   第１のコンポーネント位置基準信号から実際の第１のコンポーネントの位置を表す信号を減算し、且つ、前記第２のコンポーネント位置信号を加算することによってサーボ誤差信号を生成するようになされた比較ユニットと、
   前記サーボ誤差信号に基づいて第１の制御信号を生成するようになされた制御ユニットと、
   前記第２のコンポーネント・フィードフォワード信号と前記第１の制御信号を加算することによって第２の制御信号を生成するようになされた加算ユニットと、
   前記第２の制御信号に基づいて前記第１のコンポーネントを所望の第１のコンポーネント位置へ駆動するようになされたアクチュエータ・ユニットとを備え、
   前記制御システムが、前記基準第１コンポーネント位置信号への前記第２のコンポーネント位置信号の加算に先立って前記第２のコンポーネント位置信号をフィルタリングするようになされた第２のコンポーネント位置信号フィルタ・ユニットをさらに備えた投影装置。
10. 基板テーブルの上に支持されている基板にパターン化された放射のビームを投射するために投影システムを使用するステップを含むデバイス製造方法であって、前記基板テーブルの位置を制御するようになされた制御システムが使用され、
    前記投影システムの位置を表す投影システム位置信号が基板テーブル位置基準信号と実際の基板テーブルの位置の差に加算され、それにより制御ユニットの入力として使用されるサーボ誤差信号が得られ、フィードフォワード分岐内で投影システム・フィードフォワード信号が前記制御ユニットの第１の制御信号に加算され、それにより第２の制御信号が得られ、前記第２の制御信号を使用して前記基板テーブルが所望の基板テーブル位置へ駆動され、
    前記基板テーブル位置基準信号と前記実際の基板テーブルの位置の前記差への加算に先立って投影システム位置信号フィルタ・ユニットによって前記投影システム位置信号がフィルタリングされるデバイス製造方法。
11. 前記投影システム位置信号フィルタ・ユニットが、前記サーボ誤差信号を最小化し、且つ／又は投影システム・トラッキング誤差を最小化するようになされた、請求項１０に記載の方法。
12. 前記制御システムが、前記投影システム・フィードフォワード信号を条件付けるようになされたフィードフォワード・フィルタ・ユニットを備え、前記投影システム位置信号フィルタ・ユニットの伝達関数の少なくとも一部が前記フィードフォワード・フィルタ・ユニットの伝達関数を含む、請求項１０に記載の方法。
13. 前記制御システムが、前記第２の制御信号をフィルタリングするようになされた制御信号フィルタ・ユニットを備え、前記投影システム位置信号フィルタ・ユニットの伝達関数の少なくとも一部が前記制御信号フィルタ・ユニットの伝達関数に実質的に対応する、請求項１０に記載の方法。
14. 伝達関数１／ｍｓ^２から逸脱するあらゆるシステム動特性が前記投影システム位置信号フィルタ・ユニットの伝達関数に実質的に包含された、請求項１０に記載の方法。
15. 前記投影システム・フィードフォワード信号が前記投影システムの加速度を表す、請求項１０に記載の方法。
16. 前記制御ユニットの前記制御信号への加算に先立って前記投影システム・フィードフォワード信号と実質的に前記基板テーブルの質量が掛算される、請求項１５に記載の方法。
17. パターニング・デバイス・サポートの上に支持されているパターニング・デバイスによってパターンが付与されるパターン化放射ビームを投射するために投影システムを使用するステップを含むデバイス製造方法であって、
    前記パターニング・デバイス・サポートの位置を制御するようになされた制御システムが使用され、
    前記投影システムの位置を表す投影システム位置信号がパターニング・デバイス・サポート位置基準信号と実際のパターニング・デバイス・サポートの位置の差に加算され、それにより制御ユニットの入力として使用されるサーボ誤差信号が得られ、
    フィードフォワード分岐内で投影システム・フィードフォワード信号が前記制御ユニットの第１の制御信号に加算され、それにより第２の制御信号が得られ、
    前記第２の制御信号を使用して前記パターニング・デバイス・サポートが所望のパターニング・デバイス・サポート位置へ駆動され、
    前記パターニング・デバイス・サポート位置基準信号と前記実際のパターニング・デバイス・サポートの位置の前記差への加算に先立って投影システム位置信号フィルタ・ユニットによって前記投影システム位置信号がフィルタリングされるデバイス製造方法。
18. 投影装置を使用するステップを含むデバイス製造方法であって、
    第１のコンポーネント基準信号及び第２のコンポーネントの位置に基づいて第１のコンポーネントの位置を制御するようになされた制御システムが使用され、
    前記第２のコンポーネントの位置を表す第２のコンポーネント位置信号が第１のコンポーネント位置基準信号と実際の第１のコンポーネントの位置の差に加算され、それにより制御ユニットの入力として使用されるサーボ誤差信号が得られ、
    フィードフォワード分岐内で投影システム・フィードフォワード信号が前記制御ユニットの第１の制御信号に加算され、それにより第２の制御信号が得られ、
    前記第２の制御信号を使用して前記第１のコンポーネントが所望の第１のコンポーネント位置へ駆動され、
    前記第１のコンポーネント位置基準信号と前記実際の第１のコンポーネントの位置の前記差への加算に先立って第２のコンポーネント位置信号フィルタ・ユニットによって前記第２のコンポーネント位置信号がフィルタリングされるデバイス製造方法。