JP6273369B2 - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2013年12月20日に出願された欧州特許出願第13198925.3号の利益を主張し、その全体が参照により本書に援用される。
本発明は、多体システムの同期位置決めを制御するための制御デバイス、多体システムの同期動作を制御する制御方法、リソグラフィ装置およびデバイスの製造方法に関する。
1.ステップモードでは、放射ビームBに付与されたパターン全体が1回の照射で一つの目標部分Cに投影される間、マスクテーブルMTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」は実質的に静止状態とされる(すなわち単一静的露光)。そして基板テーブルWTまたは「基板サポート」はX方向および/またはY方向に移動され、その結果、異なる目標部分Cを露光できる。ステップモードにおいて、露光フィールドの最大サイズは、単一静的露光にて結像される目標部分Cのサイズを制限する。
2.スキャンモードでは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、マスクテーブルMTまたは「マスクサポート」および基板テーブルWTまたは「基板サポート」が同期してスキャンされる(すなわち単一動的露光)。マスクテーブルMTまたは「マスクサポート」に対する基板テーブルWTまたは「基板サポート」の速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)率および像反転特性により定められてもよい。スキャンモードにおいて、スキャン動作の長さが目標部分の高さ(スキャン方向)を決定する一方で、露光フィールドの最大サイズは、単一動的露光における目標部分の幅(非スキャン方向)を制限する。
3.別のモードでは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、マスクテーブルMTまたは「マスクサポート」がプログラマブルパターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、基板テーブルWTまたは「基板サポート」が移動またはスキャンされる。このモードにおいて、一般的にパルス放射源が用いられ、プログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTまたは「基板サポート」が移動するたびに、または、スキャン中の連続する放射パルス間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上述したような種類のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに直ちに適用できる。
Claims (14)
- 多体システムの同期位置決めを制御するための制御デバイスであって、
多体システムの第1物体の所望位置と前記第1物体の測定位置との差を示す第1誤差信号と、前記多体システムの第2物体の所望位置と前記第2物体の測定位置との差を示す第2誤差信号とを受信するための入力を備え、
前記制御デバイスは、
前記第1誤差信号に基づいて、前記第1物体を駆動するよう構成される位置決めデバイスを駆動するための一次第1駆動信号を決定し、
前記第2誤差信号に基づいて、前記第2物体を駆動するよう構成される位置決めデバイスを駆動するための一次第2駆動信号を決定し、
前記第1物体を駆動するよう構成される前記位置決めデバイスを駆動するための二次第1駆動信号であって、第1伝達関数を用いて前記第2誤差信号から変換される二次第1駆動信号を決定し、
前記第2物体を駆動するよう構成される前記位置決めデバイスを駆動するための二次第2駆動信号であって、第2伝達関数を用いて前記第1誤差信号から変換される二次第2駆動信号を決定し、
前記一次第1駆動信号と前記二次第1駆動信号を結合して結合第1駆動信号を取得し、前記一次第2駆動信号と前記二次第2駆動信号を結合して結合第2駆動信号を取得する、ように構成され、
前記制御デバイスは、前記結合第1駆動信号と前記結合第2駆動信号をそれぞれの前記位置決めデバイスに出力するための出力をさらに備えることを特徴とする制御デバイス。 - 前記多体システムは、第1ステージおよび第2ステージを含む複数のステージを備え、前記第1ステージは、前記第1物体と前記第1物体を駆動するよう構成される前記位置決めデバイスとを備え、前記第2ステージは、前記第2物体と前記第2物体を駆動するよう構成される前記位置決めデバイスとを備えることを特徴とする請求項1に記載の制御デバイス。
- 前記第1物体の前記所望位置と前記第2物体の前記所望位置との間に所定の関係が存在することを特徴とする請求項1または2に記載の制御デバイス。
- 前記第1伝達関数は、前記第1物体用の位置から力への変換を与えるモデルを含み、前記第2伝達関数は、前記第2物体用の位置から力への変換を与えるモデルを含むことを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の制御デバイス。
- 前記第1伝達関数は、第1ローパスフィルタを含み、前記第2伝達関数は、第2ローパスフィルタを含むことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の制御デバイス。
- 前記一次第1駆動信号は、さらに前記第2誤差信号に基づく第1フィードスルー信号に基づいて決定され、前記一次第2駆動信号は、さらに前記第1誤差信号に基づく第2フィードスルー信号に基づいて決定されることを特徴とする請求項5に記載の制御デバイス。
- 前記第1フィードスルー信号は、前記第1ローパスフィルタを用いた前記第2誤差信号のローパスフィルタリングにより取得され、前記第2フィードスルー信号は、前記第2ローパスフィルタを用いた前記第1誤差信号のローパスフィルタリングにより取得されることを特徴とする請求項6に記載の制御デバイス。
- 前記第1ローパスフィルタの利得と前記第2ローパスフィルタの利得の積が1より小さいことを特徴とする請求項5から7のいずれか一項に記載の制御デバイス。
- 前記第1ローパスフィルタの利得が0.8以下であり、前記第2ローパスフィルタの利得が0.8以下であることを特徴とする請求項5から8のいずれか一項に記載の制御デバイス。
- 前記一次第1駆動信号を決定するよう構成される第1コントローラであって、前記第1誤差信号および第1フィードスルー信号を含む第1入力信号を受信するための入力を備える第1コントローラと、前記一次第2駆動信号を決定するよう構成される第2コントローラであって、前記第2誤差信号および第2フィードスルー信号を含む第2入力信号を受信するための入力を備える第2コントローラとを備えることを特徴とする請求項5から9のいずれか一項に記載の制御デバイス。
- 前記二次第1駆動信号は、さらに前記第1誤差信号に基づき、前記二次第2駆動信号は、さらに前記第2誤差信号に基づくことを特徴とする請求項1から10のいずれか一項に記載の制御デバイス。
- 放射ビームを調整するよう構成される照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン放射ビームを生成可能なパターニングデバイスを支持するよう構築される第1ステージと、
基板を保持するよう構築される第2ステージと、
前記基板の目標部分に前記パターン放射ビームを投影するよう構成される投影システムと、を備え、
前記第1ステージおよび前記第2ステージの同期位置決めを制御するための請求項1から11のいずれか一項に記載の制御デバイスをさらに備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項12に記載のリソグラフィ装置を用いて、パターニングデバイスからのパターンを基板上に転写することを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
- 多体システムの同期動作を制御するための制御方法であって、
前記多体システムの第1物体の所望位置を示す第1設定値と、前記多体システムの第2物体の所望位置を示す第2設定値と、を決定することと、
前記第1物体の前記所望位置と前記第1物体の測定位置との差を示す第1誤差信号と、前記第2物体の所望位置と前記第2物体の測定位置との差を示す第2誤差信号と、を受信することと、
前記第1誤差信号に基づいて前記第1物体を駆動する位置決めデバイスを駆動するための一次第1駆動信号を決定することと、
前記第2誤差信号に基づいて前記第2物体を駆動する位置決めデバイスを駆動するための一次第2駆動信号を決定することと、
前記第1物体を駆動する前記位置決めデバイスを駆動するための二次第1駆動信号であって、第1伝達関数を用いて前記第2誤差信号から変換される二次第1駆動信号を決定することと、
前記第2物体を駆動する前記位置決めデバイスを駆動するための二次第2駆動信号であって、第2伝達関数を用いて前記第1誤差信号から変換される二次第2駆動信号を決定することと、
前記一次第1駆動信号と前記二次第2駆動信号を結合して結合第1駆動信号を取得し、前記一次第2駆動信号と前記二次第2駆動信号を結合して結合第2駆動信号を取得することと、
前記結合第1駆動信号と前記第2駆動信号をそれぞれの前記位置決めデバイスに提供することと、を備えることを特徴とする制御方法。
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