JP2011086892A - 位置制御装置、露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1ステージおよび第2ステージを同期させて制御する位置制御装置は、前記第1ステージの位置を制御する第1フィードバックループと、前記第2ステージの位置を制御する第2フィードバックループと、前記第1ステージと前記第2ステージとの同期誤差を前記第1フィードバックループおよび前記第2フィードバックループの双方にフィードバックする同期誤差フィードバック部とを備える。
【選択図】図1
Description
図1を参照しながら本発明の第1実施形態の位置制御装置100を説明する。位置制御装置100は、例えば、図5に例示されるような露光装置EXの原版ステージ55および基板ステージ56を同期制御する装置として構成されうる。以下では、位置制御装置100が露光装置EXの原版ステージ55および基板ステージ56を同期制御する装置として構成された例を説明する。
図2を参照しながら本発明の第2実施形態の位置制御装置110を説明する。第2実施形態は、第1実施形態の改良例を提供する。なお、第2実施形態において、第1実施形態の位置制御装置100における構成要素と同一の構成要素には同一の参照符号が付されている。第2実施形態は、原版ステージ55を含む第1制御対象8aの伝達特性P1および基板ステージ56を含む第2制御対象8bの伝達特性P2が複雑で、前述の伝達特性C1P1、C2P2を十分に等しくすることができない場合に適している。位置制御装置110のうち、第1制御対象8aおよび第2制御対象8bを除く部分は、制御部CNTと呼ばれうる。
図6を参照しながら第1又は第2実施形態の位置制御装置が適用された露光装置EXにおける第1露光制御例を説明する。図6において、加速度101b、速度102b、位置103bは、それぞれ基板ステージ56の加速度、速度、位置を示している。104bは、原版ステージ55と基板ステージ56との同期誤差12(12’)を示している。
図7を参照しながら第1又は第2実施形態の位置制御装置が適用された露光装置EXにおける第1露光制御例を説明する。図7において、加速度101c、速度102c、位置103cは、それぞれ基板ステージ56の加速度、速度、位置を示している。104cは、原版ステージ55と基板ステージ56との同期誤差12(12’)を示している。
本発明の好適な実施形態のデバイス製造方法は、例えば、半導体デバイス、液晶デバイス等のデバイスの製造に好適である。前記方法は、感光剤が塗布された基板を、上記の露光装置を用いて露光する工程と、前記露光された基板を現像する工程とを含みうる。さらに、前記デバイス製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含みうる。
Claims (8)
- 第1ステージおよび第2ステージを同期させて制御する位置制御装置であって、
前記第1ステージの位置を制御する第1フィードバックループと、
前記第2ステージの位置を制御する第2フィードバックループと、
前記第1ステージと前記第2ステージとの同期誤差に所定の伝達特性を乗じて得られる補正値を前記第1フィードバックループおよび前記第2フィードバックループにフィードバックする同期誤差フィードバック部と、
を備えることを特徴とする位置制御装置。 - 前記第1フィードバックループに与えられる前記第1ステージの目標位置に対する前記第1ステージの応答特性と、前記第2フィードバックループに与えられる前記第2ステージの目標位置に対する前記第2ステージの応答特性とが等しいことを特徴とする請求項1に記載の位置制御装置。
- 前記第1フィードバックループは、
前記第1ステージの制御偏差に第1伝達特性を乗じることによって第1指令値を生成する第1補償器と、
前記第1指令値を前記第1ステージと前記第2ステージとの同期誤差に前記伝達特性および係数を乗じて得られる第1補正値によって補正することによって第1補正指令値を生成する第1演算器とを含み、
前記第2フィードバックループは、
前記第2ステージの制御偏差に第2伝達特性を乗じることによって第2指令値を生成する第2補償器と、
前記第2指令値を前記第1ステージと前記第2ステージとの同期誤差に前記伝達特性を乗じて得られる第2補正値によって補正することによって第2補正指令値を生成する第2演算器とを含み、
前記第1ステージは前記第1補正指令値に従って駆動され、前記第2ステージは前記第2補正指令値に従って駆動され、
前記係数は、前記第2ステージの速度に対する前記第1ステージの速度の比である、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の位置制御装置。 - 前記第1ステージと、前記第1ステージを駆動する第1ステージ駆動機構と、前記第1ステージの位置を計測する第1計測器とを含む第1制御対象の伝達特性をP1、前記第1補償器の伝達特性をC1とし、
前記第2ステージと、前記第2ステージを駆動する第2ステージ駆動機構と、前記第2ステージの位置を計測する第2計測器とを含む第2制御対象の伝達特性をP2、前記第2補償器の伝達特性をC2としたときに、
C1P1=C2P2
を満たすことを特徴とする請求項3に記載の位置制御装置。 - 第2目標位置を生成する目標位置生成器と、
前記第2目標位置に前記係数を乗じて第1目標位置を生成する乗算器と、
前記第1目標位置に伝達特性Mを乗じることによって、前記第1フィードバックループに与えるべき前記第1ステージの目標位置として第1規範目標位置を生成する第1規範モデルと、
前記第2目標位置に伝達特性Mを乗じることによって、前記第2フィードバックループに与えるべき前記ステージの目標位置として第2規範目標位置を生成する第2規範モデルと、
前記第1目標位置にMP1 −1を乗じることによって第3補正値を生成する第1特性同化器と、
前記第2目標位置にMP2 −1を乗じることによって第4補正値を生成する第2特性同化器とを更に備え、
前記第1演算器は、前記第1指令値を前記第1補正値のほか前記第3補正値によって補正することによって前記第1補正指令値を生成し、
前記第2演算器は、前記第2指令値を前記第2補正値のほか前記第4補正値によって補正することによって前記第2補正指令値を生成する、
ことを特徴とする請求項3に記載の位置制御装置。 - 第1ステージによって支持された原版のパターンを投影光学系によって第2ステージによって支持された基板に投影して該基板を露光する露光装置であって、
前記第1ステージおよび前記第2ステージを制御するように構成された請求項1乃至5のいずれか1項に記載の位置制御装置を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記第1ステージおよび前記第2ステージが正の加速度で加速している間に基板の露光が開始され、かつ、単位時間あたりに基板に照射される光のエネルギーが前記第2ステージの速度に比例するように、基板を照明する照明系を制御する制御部を更に備えることを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
- デバイスを製造するデバイス製造方法であって、
請求項6又は7に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
該露光された基板を現像する工程と、
含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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