JP2011086892A5 - 走査露光装置、制御装置、および、デバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、走査露光装置、制御装置、および、デバイス製造方法に関する。
本発明の1つの側面は、原版および基板を走査させながら該原版を介した該基板の露光を行う走査露光装置に係り、前記走査露光装置は、前記原版を支持する原版ステージを含む第1制御対象を含み、前記原版ステージの位置を制御する第1フィードバックループと、前記基板を支持する基板ステージを含む第2制御対象を含み、前記基板ステージの位置を制御する第2フィードバックループと、第1演算器を含み、前記第1演算器を介して前記原版ステージと前記基板ステージとの同期誤差を前記第1フィードバックループおよび前記第2フィードバックループにフィードバックするフィードバック部と、を備え、前記走査露光装置は、前記第1制御対象に対する第1目標位置から前記原版ステージの位置までの伝達関数と前記第2制御対象に対する第2目標位置から前記基板ステージの位置までの伝達関数とが等しくなるように、かつ、少なくとも前記原版および前記基板が加速している期間に前記露光を行うように、構成されている。
Claims (8)
- 原版および基板を走査させながら該原版を介した該基板の露光を行う走査露光装置であって、
前記原版を支持する原版ステージを含む第1制御対象を含み、前記原版ステージの位置を制御する第1フィードバックループと、
前記基板を支持する基板ステージを含む第2制御対象を含み、前記基板ステージの位置を制御する第2フィードバックループと、
第1演算器を含み、前記第1演算器を介して前記原版ステージと前記基板ステージとの同期誤差を前記第1フィードバックループおよび前記第2フィードバックループにフィードバックするフィードバック部と、を備え、
前記走査露光装置は、前記第1制御対象に対する第1目標位置から前記原版ステージの位置までの伝達関数と前記第2制御対象に対する第2目標位置から前記基板ステージの位置までの伝達関数とが等しくなるように、かつ、少なくとも前記原版および前記基板が加速している期間に前記露光を行うように、構成されている、
ことを特徴とする走査露光装置。 - 原版および基板を走査させながら該原版を介した該基板の露光を行う走査露光装置であって、
前記原版を支持する原版ステージを含み且つ第1伝達関数を有する第1制御対象を含み、前記原版ステージの位置を制御する第1フィードバックループと、
前記基板を支持する基板ステージを含み且つ第2伝達関数を有する第2制御対象を含み、前記基板ステージの位置を制御する第2フィードバックループと、
第1演算器を含み、前記第1演算器を介して前記原版ステージと前記基板ステージとの同期誤差を前記第1フィードバックループおよび前記第2フィードバックループにフィードバックするフィードバック部と、を備え、
前記第1フィードバックループは、前記原版ステージの位置偏差が入力される第3伝達関数を有する第2演算器を含み、前記第2演算器の出力は前記第1演算器の出力が加算されて前記第1制御対象に与えられ、
前記第2フィードバックループは、前記基板ステージの位置偏差が入力される第4伝達関数を有する第3演算器を含み、前記第3演算器の出力は前記第1演算器の出力が減算されて前記第2制御対象に与えられ、
前記走査露光装置は、前記第1伝達関数と前記第3伝達関数との積と前記第2伝達関数と前記第4伝達関数との積とが等しくなるように、かつ、少なくとも前記原版および前記基板が加速している期間に前記露光を行うように、構成されている、
ことを特徴とする走査露光装置。 - 原版および基板を走査させながら該原版を介した該基板の露光を行う走査露光装置であって、
前記原版を支持する原版ステージを含み且つ第1伝達関数を有する第1制御対象を含み、前記原版ステージの位置を制御する第1フィードバックループと、
前記基板を支持する基板ステージを含み且つ第2伝達関数を有する第2制御対象を含み、前記基板ステージの位置を制御する第2フィードバックループと、
第3伝達関数を有する第1演算器を含み、前記第1演算器を介して前記原版ステージと前記基板ステージとの同期誤差を前記第1フィードバックループおよび前記第2フィードバックループにフィードバックするフィードバック部と、
第1目標位置を入力されて前記第1フィードバックループに与えられる第3目標位置を生成する、規範モデルとしての第4伝達関数を有する第2演算器と、
前記第1目標位置に対応する第2目標位置を入力されて前記第2フィードバックループに与えられる第4目標位置を生成する、前記第4伝達関数を有する第3演算器と、
前記第1制御対象の伝達関数の逆数と前記第4伝達関数との積としての第5伝達関数を有する第4演算器を含み、前記第4演算器を介して前記第1目標位置を前記第1フィードバックループにフィードフォワードする第1フィードフォワード部と、
前記第2制御対象の伝達関数の逆数と前記第4伝達関数との積としての第6伝達関数を有する第5演算器を含み、前記第5演算器を介して前記第2目標位置を前記第2フィードバックループにフィードフォワードする第2フィードフォワード部と、を備え、
前記走査露光装置は、少なくとも前記原版および前記基板が加速している期間に前記露光を行うように構成されている、
ことを特徴とする走査露光装置。 - 前記第1フィードバックループは、前記原版ステージの位置偏差が入力され、前記第1制御対象に対する第1指令値を生成する第6演算器を含み、前記第6演算器によって生成された前記第1指令値には、前記フィードバック部による前記第1フィードバックループへのフィードバック出力が加算され、
前記第2フィードバックループは、前記基板ステージの位置偏差が入力され、前記第2制御対象に対する第2指令値を生成する第7演算器を含み、前記第7演算器によって生成された前記第2指令値からは、前記フィードバック部による前記第2フィードバックループへのフィードバック出力が減算される、
ことを特徴とする請求項3に記載の走査露光装置。 - 第1物体および第2物体を移動させながら前記第1物体と前記第2物体との間の処理の制御を行う制御装置であって、
前記第1物体を支持する第1支持部を含む第1制御対象を含み、前記第1支持部の位置を制御する第1フィードバックループと、
前記第2物体を支持する第2支持部を含む第2制御対象を含み、前記第2支持部の位置を制御する第2フィードバックループと、
第1演算器を含み、前記第1演算器を介して前記第1支持部と前記第2支持部との同期誤差を前記第1フィードバックループおよび前記第2フィードバックループにフィードバックするフィードバック部と、を備え、
前記制御装置は、前記第1制御対象に対する第1目標位置から前記第1支持部の位置までの伝達関数と前記第2制御対象に対する第2目標位置から前記第2支持部の位置までの伝達関数とが等しくなるように、かつ、少なくとも前記第1物体および前記第2物体が加速している期間に前記処理を行うように、構成されている、
ことを特徴とする制御装置。 - 原版および基板を走査しながら該原版を介した該基板の露光を行う走査露光装置であって、
請求項5に記載の制御装置を備え、
前記制御装置は、前記第1物体としての前記原版および前記第2物体としての前記基板を走査させながら前記制御としての前記原版を介した前記基板の露光の制御を行う、
ことを特徴とする走査露光装置。 - 前記第1支持部および前記第2支持部が正の加速度で加速している期間に前記基板の露光が開始され、かつ、単位時間あたりに基板が露光される光のエネルギーが前記第2支持部の速度に比例する、
ことを特徴とする請求項6に記載の走査露光装置。 - デバイスを製造するデバイス製造方法であって、
請求項1ないし請求項4、請求項6および請求項7のうちいずれか1項に記載の走査露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009240871A JP2011086892A (ja) | 2009-10-19 | 2009-10-19 | 位置制御装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
US12/892,810 US8493551B2 (en) | 2009-10-19 | 2010-09-28 | Scanning exposure apparatus, control apparatus and method of manufacturing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009240871A JP2011086892A (ja) | 2009-10-19 | 2009-10-19 | 位置制御装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011086892A JP2011086892A (ja) | 2011-04-28 |
JP2011086892A5 true JP2011086892A5 (ja) | 2012-12-06 |
Family
ID=43879060
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009240871A Pending JP2011086892A (ja) | 2009-10-19 | 2009-10-19 | 位置制御装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8493551B2 (ja) |
JP (1) | JP2011086892A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5662836B2 (ja) * | 2011-02-24 | 2015-02-04 | 国立大学法人名古屋大学 | 同期制御装置と同期制御方法 |
US20120319637A1 (en) * | 2011-06-20 | 2012-12-20 | Nikon Corporation | Synchronization control devices and methods |
KR101885749B1 (ko) * | 2013-12-20 | 2018-08-06 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
JP7148295B2 (ja) | 2018-07-04 | 2022-10-05 | キヤノン株式会社 | 制御装置、露光装置及び物品の製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09115825A (ja) * | 1995-10-19 | 1997-05-02 | Nikon Corp | 走査型投影露光装置 |
JP3755862B2 (ja) * | 1999-05-26 | 2006-03-15 | キヤノン株式会社 | 同期位置制御装置および方法 |
JP2003133216A (ja) * | 2001-10-26 | 2003-05-09 | Canon Inc | 露光方法及び露光装置 |
JP2005051197A (ja) * | 2003-07-17 | 2005-02-24 | Nikon Corp | ステージ制御方法及び装置、ステージ制御プログラム、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
US7289858B2 (en) * | 2004-05-25 | 2007-10-30 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic motion control system and method |
JP2007049056A (ja) * | 2005-08-12 | 2007-02-22 | Nikon Corp | ステージ制御方法及び装置、ステージ制御プログラム、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
-
2009
- 2009-10-19 JP JP2009240871A patent/JP2011086892A/ja active Pending
-
2010
- 2010-09-28 US US12/892,810 patent/US8493551B2/en not_active Expired - Fee Related
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