JP2006507694A - 低インダクタンス経路を有するプローブステーション - Google Patents

低インダクタンス経路を有するプローブステーション Download PDF

Info

Publication number
JP2006507694A
JP2006507694A JP2005510352A JP2005510352A JP2006507694A JP 2006507694 A JP2006507694 A JP 2006507694A JP 2005510352 A JP2005510352 A JP 2005510352A JP 2005510352 A JP2005510352 A JP 2005510352A JP 2006507694 A JP2006507694 A JP 2006507694A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive member
probe
probe assembly
chuck
test
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005510352A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006507694A5 (ja
JP4624262B2 (ja
Inventor
ダンクリー ジョン
イー コーウォン クラレンス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FormFactor Beaverton Inc
Original Assignee
Cascade Microtech Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Cascade Microtech Inc filed Critical Cascade Microtech Inc
Publication of JP2006507694A publication Critical patent/JP2006507694A/ja
Publication of JP2006507694A5 publication Critical patent/JP2006507694A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4624262B2 publication Critical patent/JP4624262B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R1/00Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
    • G01R1/02General constructional details
    • G01R1/06Measuring leads; Measuring probes
    • G01R1/067Measuring probes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/2851Testing of integrated circuits [IC]
    • G01R31/2886Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks
    • G01R31/2887Features relating to contacting the IC under test, e.g. probe heads; chucks involving moving the probe head or the IC under test; docking stations

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Measuring Instrument Details And Bridges, And Automatic Balancing Devices (AREA)
  • Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Abstract

要約書なし。

Description

本発明は、半導体ウエハのような電気デバイスを試験するため、手動、半自動、又は全自動で使用される、通常パッケージ又はウエハプローバとして知られている、プローブステーションに関するものである。
既存のプローブステーションは、電気的に乱れのない環境で、低電流と高周波での双方の測定を行うことができる。この環境は、例えば、環境エンクロージャ内部で、一以上のガード及び電磁妨害(EMI)シールド構体を内蔵することで、提供され得る。ガード及びEMIシールド構体は周知であり、技術文献上にて広く開示されている。例えば、William KnauerによるFixturing for Low Current/Low Voltage Parametric Testingと題した論文が、1990年11月のEvaluation Engineeringの150〜153ページに掲載されている。このようなガード及びEMIシールド構体を提供する、既存のプローブステーションの例は、米国特許第5,434,512号及び第5,266,889号に開示されており、引用した内容はこの明細書に含まれる。
プローブステーションは、半導体ウエハのような、特性を測定すべき電気デバイスに試験信号を供給する。試験状態は制御され、かつ試験器具又は近くにある他の電気機器から生じたり、或いはスプリアス気流又はこれに類似するもののために生じ得る電磁妨害は、完全にというわけではないがほぼ生じないようにするのが望ましい。制御され、かつほぼノイズのない試験環境を提供するために、ガード構体を内蔵する既存のプローブステーションは通常、少なくとも部分的には、試験信号経路を該試験信号と近似するガード信号で包囲しており、こうして、この試験信号経路からそれを直に取り巻く環境への電磁流の漏洩を防止する。同様に、EMIシールド構体は、プローブ環境の周辺部の大部分を包囲する環境エンクロージャに、シールド信号を供給することができる。環境エンクロージャは、典型的には、シールド、アースグラウンド、器具グラウンド又は他の所望の電位点に接続することができる。
プローブステーションにテスト信号と、ガード信号と、シールド信号とを供給するために、既存のプローブステーションは、試験中に電気デバイスを載せる多段チャックを具えることがよくある。当該電気デバイスを支持するチャックの最上段は、典型的には、固体の電気伝導性金属プレートを具え、この金属プレートを経て試験信号を流すことができる。チャックの中段及び下段も同様に、固体の電気伝導性金属プレートを具え、この金属プレートを経て、ガード信号とシールド信号とをそれぞれ流すことができる。このようにして、このような多段チャック上に載せた電気デバイスは、下方からガードし、かつシールドすることもできる。同様に、単一段及び二重段チャック、並びに中心部に相当な開口部を有するチャックも同じく頻繁に使用される。
典型的には、試験信号経路からは電気的に絶縁され、かつガード信号に接続される電気デバイス上に亘って懸垂導電性プレートを位置させることで、妨害を更に低減させることができる。この懸垂プレートは、プローブアセンブリが電気デバイスと電気的に接触できるように、中央開口部を規定する。このようにして、当該電気デバイスに供給される信号に近似する信号によって、電気デバイスは、下方と上方の双方からガードされ得る。
このようなプローブステーションは、電気デバイスの低電流試験及び高周波試験を行うには有効であるが、前述した既存のプローブステーションは、不都合なことに高電流測定に対してはかなりのインダクタンスを呈することがしばしばあり、特にパルス化信号を用いて試験を行う際には顕著となる。この高インダクタンスは、電流レベルの迅速な変化に抵抗する傾向があり、この結果、所望よりも高い電圧及び電流レベルとなる。
従って、高電流及び/又はパルス化試験を行うのに好適なプローブステーションが望まれる。
図1は、ガード及び電磁シールド構体を有する、既存のプローブステーション10の一般的な図解線図を示す。試験信号は、試験経路12を経て、チャック20に載っている電気デバイス18と接触する、プローブ針16を有しているプローブ14に与えられる。プローブ針は、例えばプローブカード、可動ポジショナ上のプローブ、光学信号、メンブレンプローブなどのような、任意のタイプの接触式のものにもし得る。チャック20は、第1の伝送ライン22を経て伝えられるガード信号を受信し、また、懸垂ガード部材24は、第2の伝送ライン26を経て伝えられるガード信号を受信する。第1の伝送ライン22は、同様にチャック20への試験信号経路も含んでいる。図1に示すように、第1の伝送ライン22と、試験経路12と、プローブ14と、プローブ針16と、デバイス18と、チャック20とが全体として、試験器具における共通の信号源までの大きなループを形成している。通常は、このプローブステーション内では、伝送ライン22は、チャック20の動きに適応させるため、長さ数フィートのサービスループ内にある。
本発明者らは、高電流又はパルス化試験信号を用いると、試験機器から発生してチャックを通過する大きな試験ループが不所望なインダクタンスを生じさせる、ということを確かめた。この大きなループから生じるインダクタンスは、試験測定を妨害することがしばしばあり、特に高電流及び/又はパルス化信号においては妨害が生じる。更に、伝送ライン22は、通常は細い導体であり、高電流を流すのに特に適しているわけではない。図2は、明瞭化のために当該試験ループを概略的に示している。
本発明者らは更に、従来は認識されていなかった、高電流及び/又はパルス化信号に対するこのインダクタンスの源を低減するか、或いは他の方法で変更すること、即ち、この誘導試験ループによって当該測定を改善し得ることを確かめた。このような変更とは、チャック20から試験器具までの試験信号経路を変更するか、又は他の方法でチャック20から試験器具まで別の試験信号経路を設けることを含むものである。図3は、試験ループの長さを低減させた一実施例のプローブステーション10を示している。チャック20から伝送ライン22を経る試験信号を送るだけでなく、伝送ライン28が、懸垂ガード部材24とチャック20を相互接続することができ、そしてこの懸垂ガード部材24は、他の伝送ライン29によって、試験器具に電気的に接続されている。この試験を行う際には、懸垂ガード部材24は、典型的にはそのガード電位が除去されるようにする。従って、懸垂ガード部材24は、従来式でない方法で使用しており、すなわちガード電位に相互接続していない。チャック20において、伝送ライン28が相互接続をするのは、チャック20の頂部層のような、チャック20の層のひとつとすることができる。少なくとも部分的に環状を成す導電部材33は、通常はガード電位に接続されており、これはチャックの頂部表面よりも高い高さを有するようにもでき、チャックの頂部表面と同じ高さを有するようにもでき、またチャックの頂部表面よりは低い高さを有するようにすることもできる。導電部材33とチャック20との間には、エアギャップを設けるのが好適である。このエアギャップには、誘電性の材料を部分的に充填させたり、ほぼ完全に充填させたり、完全に充填させたりするようにできる。チャックの頂部表面への、又はチャックの頂部表面からの信号経路は、導電部材33の開口部を経て設けることができる。図4に概略的に示すように、伝送ライン28によって、チャック20と懸垂ガード部材24とを電気的に接続し、かつ、伝送ライン29によって、チャック20と試験器具とを電気的に接続することで、既存のプローブステーションの場合よりもループ経路が短くなる。この試験経路のループの長さを減らすことで、電気的性能が向上し、特に、高電流及び/又はパルス化信号を用いて電気デバイスをテストする場合に電気的性能の改善が得られる。
懸垂プレートは、典型的には絶縁体を用いて、上方から懸垂することも、又はプローブステーションの内部から支持体によって支持することも、又はチャック若しくはチャックアセンブリによって支持することもできるものとする。通常は、この懸垂プレートは、チャック20と共に動くのではなく、プローブステーション10に対して固定した空間的関係で維持されるようになっている。また、懸垂プレートは、チャック20と共に移動せずに、プローブステーション10に対して固定した空間的関係で維持される特性を有している、プローブステーション内部の任意の導電部材とすることができる。或いは、この懸垂プレートは、前述の配置で使用する際に、ガード及び/又はシールド電位に電気的に接続されない、プローブステーション内部の任意の導電部材とすることもできる。
チャック20から懸垂ガード24までの相互接続は、全体的に環境エンクロージャ内で行うようにするのが好適である。環境エンクロージャの更なる説明については、米国特許第5,457,398号に開示されているが、引用した内容は、参照することによりこの明細書に含まれる。環境エンクロージャ内の相互接続によって、相互接続部が少なくとも部分的に環境エンクロージャの外部にある場合や、或いは他に、試験経路が環境エンクロージャ内部から外部に出て、また内部に亘っている場合と比較すると、導電経路の長さを減少させることになる。
図2〜4に概略的に示した伝送ライン28及び29は、多様な構造に具体化することができる。例えば、伝送ライン28及び29は、ワイヤ、同軸ケーブル、3軸ケーブル、1個又は複数個の導電タブのような、慣例の伝送ラインにすることができる。或いは、図5に示すように、伝送ライン28は導電性シェル又はボウル50で構成することができ、これがチャック20の試験経路(例えば最上層)とその下面で接触するようにし、かつ懸垂プレート24とはその上面で接触するようにし得る。このシェル50は、チャック20の大部分を取り囲むようにするのが好適であり、チャック20のほぼ全てを取り囲むのは更に好適である。更に、シェル50は、実質上閉じたループを形成することが好適であるが、少なくとも部分的には、チャック20により画成される外周よりも小さくすることができる。また好ましくは、導電性シェル50は、懸垂部材と接触する、可撓性を有する上部を具えるようにもし得る。これにより、押付けて係合させた際に、導電性シェル50が懸垂プレート24に対して水平方向に動いても、優れた導電性相互接続が得られる。更に、シェル50は、例えば「フリップアップ」式のフィンガを用いる場合のように、その高さを変化させて、懸垂部材と着脱自在に係合することができる。更に、可撓性を有する上部を用いることで、Z軸方向のチャックの移動範囲を大きくすることもできる。更にシェルは、固体のもの、可撓性のもの、及び/又は所望のように開口部を設けたものとすることもできる。特に、この開口部は、被試験デバイスの周りに空気流を流す際に有効となり得る。
図6を参照するに、インダクタンスを減少させた試験経路は、チャックを取囲むエンクロージャ37を具える構体内に含めることができる。被試験デバイスの試験中には、エンクロージャ37はチャック20と共に移動する。懸垂部材との相互接続28は、チェンバ内の場所から或いはチェンバ内のチャックと接続された他の経路で、ケーブル又は他の手段によって行うことができる。
図7を参照するに、試験信号経路を提供するために、デュアルプローブアセンブリを用いることができる。第1プローブ70は、被試験デバイスに試験信号を供給し得る。それから試験信号は、被試験デバイスを経てチャック20に伝えられる。チャック20は、懸垂プレート24に電気的に相互接続される。第2プローブ72は、懸垂プレート24から試験信号を受信することができる。或いは、第2プローブ72は、試験信号を受信するために、チャック20に直接相互接続することもできる。
図8を参照するに、試験信号経路を提供し、かつ検知するために、単一プローブアセンブリ80を使用することができる。プローブ80は、プローブの第1先端部82を経て被試験デバイスに試験信号を供給することができる。そして試験信号は、被試験デバイスを経てチャック20に送られる。チャック20は、懸垂プレート24に電気的に相互接続されている。単一プローブアセンブリ80は、懸垂プレート24からプローブの第2先端部84を経て試験信号を受信することができる。或いは、プローブアセンブリ80の第2先端部は、試験信号を受信するために、チャック20に直接相互接続することもできる。このようにして、単一プローブアセンブリは、試験信号を供給することも、試験信号を検知することもできる。また、プローブアセンブリ80から試験器具までの相互接続部は、単一ケーブルアセンブリとするのが好適であり、インダクタンスを最小化するために撚り対線とするのは更に好適である。撚り対線は、プローブと試験器具との距離の少なくとも50%までとするのが好適である。
上述の明細書中で用いた用語及び表現は、記述的に用いたものであり、限定的に用いたものではない。またそのような用語及び表現を用いることで、表示及び記述した特徴の又はその特徴の一部の均等物を除外する意図はなく、本発明の範囲は請求の範囲によってのみ規定され限定されるものである。
ガード及び電磁シールド構体を有する既存のプローブステーションを示す図解線図である。 図1の概略図である。 低減インダクタンスを呈する、変更プローブステーションを示す図解線図である。 図3の概略図である。 低減インダクタンスを呈する、他の変更プローブステーションを示す図解線図である。 低減インダクタンスを呈する、更に他の変更プローブステーションの概略図である。 低減インダクタンスを呈する、更に他の変更プローブステーションを示す図解線図である。 低減インダクタンスを呈する、改良したプローブステーションを示す図解線図である。

Claims (10)

  1. 電気デバイスをプローブするプローブアセンブリであって、前記プローブアセンブリが、
    (a)電気デバイスを支持するのに適した第1導電性部材を有するチャックと、
    (b)前記チャックから離間された第2導電性部材と
    を具え、前記電気デバイスは、前記第1導電性部材と前記第2導電性部材との間に離間して配置され、前記第1導電性部材は前記第2導電性部材と電気的に相互接続され、前記第1導電性部材と前記第2導電性部材とが同電位に電気的に接続されているプローブアセンブリ。
  2. 請求項1に記載のプローブアセンブリにおいて、前記第2導電性部材は、前記電気デバイスの試験信号に電気的に相互接続されているプローブアセンブリ。
  3. 請求項1に記載のプローブアセンブリにおいて、前記第1導電性部材は第1プレートを具え、前記第2導電性部材は第2プレートを具え、かつ前記第2導電性部材は、前記電気デバイスからの距離を、前記第1導電性部材よりも更なる距離離間されているプローブアセンブリ。
  4. 請求項1に記載のプローブアセンブリにおいて、前記第2導電性部材は第2プレートを具え、かつ前記第1導電性部材から垂直方向に離間されているプローブアセンブリ。
  5. 請求項1に記載のプローブアセンブリにおいて、前記第2導電性部材は、完全に環境チェンバ内で前記第1導電性部材に電気的に相互接続されているプローブアセンブリ。
  6. 請求項1に記載のプローブアセンブリにおいて、前記第2導電性部材は、前記チャックによって支持されないプローブアセンブリ。
  7. 請求項1に記載のプローブアセンブリにおいて、前記第1導電性部材は第1プローブに電気的に相互接続され、前記第2導電性部材は第2プローブに電気的に相互接続されているプローブアセンブリ。
  8. 請求項1に記載のプローブアセンブリにおいて、前記第1導電性部材と前記第2導電性部材とが、第1プローブに電気的に相互接続されているプローブアセンブリ。
  9. 請求項1に記載のプローブアセンブリにおいて、前記第1プローブは、試験器具に、前記第1プローブと前記試験器具との距離の少なくとも50%に亘る撚り対線によって、電気的に相互接続されているプローブアセンブリ。
  10. 請求項1に記載のプローブアセンブリにおいて、更に、前記第1導電性部材及び前記第2導電性部材と係合可能な着脱自在のほぼ閉じたループ部材を具え、前記ループ部材は、前記第1導電性部材と前記第2導電性部材とを相互接続する可撓性部材を含むプローブアセンブリ。
JP2005510352A 2002-11-25 2003-10-24 低インダクタンス経路を有するプローブステーション Expired - Fee Related JP4624262B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US42908202P 2002-11-25 2002-11-25
US10/672,655 US7250779B2 (en) 2002-11-25 2003-09-25 Probe station with low inductance path
PCT/US2003/033767 WO2004049395A2 (en) 2002-11-25 2003-10-24 Probe station with low inductance path

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2006507694A true JP2006507694A (ja) 2006-03-02
JP2006507694A5 JP2006507694A5 (ja) 2010-11-11
JP4624262B2 JP4624262B2 (ja) 2011-02-02

Family

ID=32397172

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005510352A Expired - Fee Related JP4624262B2 (ja) 2002-11-25 2003-10-24 低インダクタンス経路を有するプローブステーション

Country Status (6)

Country Link
US (2) US7250779B2 (ja)
EP (1) EP1567871B1 (ja)
JP (1) JP4624262B2 (ja)
KR (1) KR20050086822A (ja)
AU (1) AU2003286669A1 (ja)
WO (1) WO2004049395A2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022028607A (ja) * 2020-08-03 2022-02-16 致茂電子股▲分▼有限公司 ウェーハ検査システムおよびそのウェーハ検査装置

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5345170A (en) * 1992-06-11 1994-09-06 Cascade Microtech, Inc. Wafer probe station having integrated guarding, Kelvin connection and shielding systems
US6445202B1 (en) 1999-06-30 2002-09-03 Cascade Microtech, Inc. Probe station thermal chuck with shielding for capacitive current
US6914423B2 (en) 2000-09-05 2005-07-05 Cascade Microtech, Inc. Probe station
US6965226B2 (en) 2000-09-05 2005-11-15 Cascade Microtech, Inc. Chuck for holding a device under test
US6836135B2 (en) * 2001-08-31 2004-12-28 Cascade Microtech, Inc. Optical testing device
US7250779B2 (en) * 2002-11-25 2007-07-31 Cascade Microtech, Inc. Probe station with low inductance path
US7221172B2 (en) * 2003-05-06 2007-05-22 Cascade Microtech, Inc. Switched suspended conductor and connection
US7492172B2 (en) 2003-05-23 2009-02-17 Cascade Microtech, Inc. Chuck for holding a device under test
JP4199629B2 (ja) * 2003-09-18 2008-12-17 株式会社日立ハイテクノロジーズ 内部構造観察方法とその装置
US7250626B2 (en) 2003-10-22 2007-07-31 Cascade Microtech, Inc. Probe testing structure
US7187188B2 (en) * 2003-12-24 2007-03-06 Cascade Microtech, Inc. Chuck with integrated wafer support
US7535247B2 (en) 2005-01-31 2009-05-19 Cascade Microtech, Inc. Interface for testing semiconductors
US7656172B2 (en) 2005-01-31 2010-02-02 Cascade Microtech, Inc. System for testing semiconductors
US7652491B2 (en) * 2006-11-17 2010-01-26 Suss Microtec Test Systems Gmbh Probe support with shield for the examination of test substrates under use of probe supports
US8130005B2 (en) * 2006-12-14 2012-03-06 Formfactor, Inc. Electrical guard structures for protecting a signal trace from electrical interference
US7676953B2 (en) * 2006-12-29 2010-03-16 Signature Control Systems, Inc. Calibration and metering methods for wood kiln moisture measurement
TWI434360B (zh) * 2008-09-04 2014-04-11 Star Techn Inc 封閉式針測機台
US8319503B2 (en) 2008-11-24 2012-11-27 Cascade Microtech, Inc. Test apparatus for measuring a characteristic of a device under test
WO2010120913A2 (en) * 2009-04-14 2010-10-21 Maui Imaging, Inc. Universal multiple aperture medical ultrasound probe
JP5296117B2 (ja) * 2010-03-12 2013-09-25 東京エレクトロン株式会社 プローブ装置
JP5291157B2 (ja) * 2011-08-01 2013-09-18 東京エレクトロン株式会社 パワーデバイス用のプローブカード
JP5265746B2 (ja) * 2011-09-22 2013-08-14 東京エレクトロン株式会社 プローブ装置
US9364925B2 (en) * 2012-04-30 2016-06-14 Globalfoundries Inc. Assembly of electronic and optical devices
JP6042760B2 (ja) * 2013-03-28 2016-12-14 東京エレクトロン株式会社 プローブ装置
EP2838107B1 (en) 2013-08-14 2016-06-01 Fei Company Circuit probe for charged particle beam system
US10281518B2 (en) 2014-02-25 2019-05-07 Formfactor Beaverton, Inc. Systems and methods for on-wafer dynamic testing of electronic devices
US9989584B2 (en) 2014-07-11 2018-06-05 Teradyne, Inc. Controlling signal path inductance in automatic test equipment
US9784763B1 (en) 2016-04-08 2017-10-10 Cascade Microtech, Inc. Shielded probe systems with controlled testing environments
JP7138463B2 (ja) * 2018-03-30 2022-09-16 株式会社日本マイクロニクス プローバ

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0784003A (ja) * 1993-06-25 1995-03-31 Nippon Maikuronikusu:Kk 電気回路測定装置

Family Cites Families (204)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1191486A (en) * 1914-03-20 1916-07-18 Edward B Tyler Expansion-joint.
US1337866A (en) 1917-09-27 1920-04-20 Griffiths Ethel Grace System for protecting electric cables
US2142625A (en) * 1932-07-06 1939-01-03 Hollandsche Draad En Kabelfab High tension cable
US2197081A (en) 1937-06-14 1940-04-16 Transit Res Corp Motor support
US2264685A (en) * 1940-06-28 1941-12-02 Westinghouse Electric & Mfg Co Insulating structure
US2376101A (en) 1942-04-01 1945-05-15 Ferris Instr Corp Electrical energy transmission
US2389668A (en) 1943-03-04 1945-11-27 Barnes Drill Co Indexing mechanism for machine tables
US2471897A (en) 1945-01-13 1949-05-31 Trico Products Corp Fluid motor packing
US2471697A (en) 1946-11-08 1949-05-31 Merck & Co Inc Process for reducing carbonyl compounds to their corresponding methylene analogues
US2812502A (en) 1953-07-07 1957-11-05 Bell Telephone Labor Inc Transposed coaxial conductor system
CH364040A (fr) 1960-04-19 1962-08-31 Ipa Anstalt Dispositif de détection pour vérifier si un élément d'une installation électrique est sous tension
US3185927A (en) 1961-01-31 1965-05-25 Kulicke & Soffa Mfg Co Probe instrument for inspecting semiconductor wafers including means for marking defective zones
US3193712A (en) 1962-03-21 1965-07-06 Clarence A Harris High voltage cable
US3230299A (en) * 1962-07-18 1966-01-18 Gen Cable Corp Electrical cable with chemically bonded rubber layers
US3256484A (en) 1962-09-10 1966-06-14 Tektronix Inc High voltage test probe containing a part gas, part liquid dielectric fluid under pressure and having a transparent housing section for viewing the presence of the liquid therein
US3176091A (en) * 1962-11-07 1965-03-30 Helmer C Hanson Controlled multiple switching unit
US3192844A (en) 1963-03-05 1965-07-06 Kulicke And Soffa Mfg Company Mask alignment fixture
US3201721A (en) 1963-12-30 1965-08-17 Western Electric Co Coaxial line to strip line connector
US3405361A (en) 1964-01-08 1968-10-08 Signetics Corp Fluid actuable multi-point microprobe for semiconductors
US3289046A (en) 1964-05-19 1966-11-29 Gen Electric Component chip mounted on substrate with heater pads therebetween
GB1069184A (en) * 1965-04-15 1967-05-17 Andre Rubber Co Improvements in or relating to pipe couplings
US3333274A (en) 1965-04-21 1967-07-25 Micro Tech Mfg Inc Testing device
US3435185A (en) * 1966-01-11 1969-03-25 Rohr Corp Sliding vacuum seal for electron beam welder
US3408565A (en) 1966-03-02 1968-10-29 Philco Ford Corp Apparatus for sequentially testing electrical components under controlled environmental conditions including a component support mating test head
US3484679A (en) 1966-10-03 1969-12-16 North American Rockwell Electrical apparatus for changing the effective capacitance of a cable
FR1583782A (ja) * 1968-03-25 1969-12-05
US3609539A (en) 1968-09-28 1971-09-28 Ibm Self-aligning kelvin probe
NL6917791A (ja) * 1969-03-13 1970-09-15
US3648169A (en) * 1969-05-26 1972-03-07 Teledyne Inc Probe and head assembly
US3596228A (en) 1969-05-29 1971-07-27 Ibm Fluid actuated contactor
US3602845A (en) 1970-01-27 1971-08-31 Us Army Slot line nonreciprocal phase shifter
US3654573A (en) 1970-06-29 1972-04-04 Bell Telephone Labor Inc Microwave transmission line termination
US3740900A (en) 1970-07-01 1973-06-26 Signetics Corp Vacuum chuck assembly for semiconductor manufacture
US3642415A (en) * 1970-08-10 1972-02-15 Shell Oil Co Plunger-and-diaphragm plastic sheet forming apparatus
US3700998A (en) 1970-08-20 1972-10-24 Computer Test Corp Sample and hold circuit with switching isolation
US3714572A (en) * 1970-08-21 1973-01-30 Rca Corp Alignment and test fixture apparatus
US4009456A (en) * 1970-10-07 1977-02-22 General Microwave Corporation Variable microwave attenuator
US3662318A (en) 1970-12-23 1972-05-09 Comp Generale Electricite Transition device between coaxial and microstrip lines
US3710251A (en) * 1971-04-07 1973-01-09 Collins Radio Co Microelectric heat exchanger pedestal
US3814888A (en) 1971-11-19 1974-06-04 Gen Electric Solid state induction cooking appliance
US3810017A (en) 1972-05-15 1974-05-07 Teledyne Inc Precision probe for testing micro-electronic units
US3829076A (en) 1972-06-08 1974-08-13 H Sofy Dial index machine
US3858212A (en) 1972-08-29 1974-12-31 L Tompkins Multi-purpose information gathering and distribution system
US3952156A (en) 1972-09-07 1976-04-20 Xerox Corporation Signal processing system
CA970849A (en) * 1972-09-18 1975-07-08 Malcolm P. Macmartin Low leakage isolating transformer for electromedical apparatus
US3775644A (en) 1972-09-20 1973-11-27 Communications Satellite Corp Adjustable microstrip substrate holder
US3777260A (en) 1972-12-14 1973-12-04 Ibm Grid for making electrical contact
FR2298196A1 (fr) 1973-05-18 1976-08-13 Lignes Telegraph Telephon Composant non reciproque a ligne a fente a large bande
US3814838A (en) 1973-06-01 1974-06-04 Continental Electronics Mfg Insulator assembly having load distribution support
US3930809A (en) * 1973-08-21 1976-01-06 Wentworth Laboratories, Inc. Assembly fixture for fixed point probe card
US3863181A (en) * 1973-12-03 1975-01-28 Bell Telephone Labor Inc Mode suppressor for strip transmission lines
US4001685A (en) * 1974-03-04 1977-01-04 Electroglas, Inc. Micro-circuit test probe
US3936743A (en) * 1974-03-05 1976-02-03 Electroglas, Inc. High speed precision chuck assembly
US3976959A (en) 1974-07-22 1976-08-24 Gaspari Russell A Planar balun
US3970934A (en) 1974-08-12 1976-07-20 Akin Aksu Printed circuit board testing means
US4042119A (en) 1975-06-30 1977-08-16 International Business Machines Corporation Workpiece positioning apparatus
US4038894A (en) 1975-07-18 1977-08-02 Springfield Tool And Die, Inc. Piercing apparatus
SE407115B (sv) 1975-10-06 1979-03-12 Kabi Ab Forfarande och metelektroder for studium av enzymatiska och andra biokemiska reaktioner
US4035723A (en) 1975-10-16 1977-07-12 Xynetics, Inc. Probe arm
US3992073A (en) 1975-11-24 1976-11-16 Technical Wire Products, Inc. Multi-conductor probe
US3996517A (en) 1975-12-29 1976-12-07 Monsanto Company Apparatus for wafer probing having surface level sensing
US4116523A (en) 1976-01-23 1978-09-26 James M. Foster High frequency probe
US4049252A (en) 1976-02-04 1977-09-20 Bell Theodore F Index table
US4008900A (en) * 1976-03-15 1977-02-22 John Freedom Indexing chuck
US4099120A (en) 1976-04-19 1978-07-04 Akin Aksu Probe head for testing printed circuit boards
US4115735A (en) 1976-10-14 1978-09-19 Faultfinders, Inc. Test fixture employing plural platens for advancing some or all of the probes of the test fixture
US4093988A (en) 1976-11-08 1978-06-06 General Electric Company High speed frequency response measurement
US4186338A (en) * 1976-12-16 1980-01-29 Genrad, Inc. Phase change detection method of and apparatus for current-tracing the location of faults on printed circuit boards and similar systems
US4115736A (en) 1977-03-09 1978-09-19 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Probe station
US4151465A (en) 1977-05-16 1979-04-24 Lenz Seymour S Variable flexure test probe for microelectronic circuits
US4161692A (en) 1977-07-18 1979-07-17 Cerprobe Corporation Probe device for integrated circuit wafers
US4135131A (en) 1977-10-14 1979-01-16 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Microwave time delay spectroscopic methods and apparatus for remote interrogation of biological targets
US4371742A (en) * 1977-12-20 1983-02-01 Graham Magnetics, Inc. EMI-Suppression from transmission lines
US4172993A (en) 1978-09-13 1979-10-30 The Singer Company Environmental hood for testing printed circuit cards
DE2849119A1 (de) 1978-11-13 1980-05-14 Siemens Ag Verfahren und schaltungsanordnung zur daempfungsmessung, insbesondere zur ermittlung der daempfungs- und/oder gruppenlaufzeitverzerrung eines messobjektes
US4383217A (en) 1979-01-02 1983-05-10 Shiell Thomas J Collinear four-point probe head and mount for resistivity measurements
US4280112A (en) 1979-02-21 1981-07-21 Eisenhart Robert L Electrical coupler
US4352061A (en) 1979-05-24 1982-09-28 Fairchild Camera & Instrument Corp. Universal test fixture employing interchangeable wired personalizers
US4287473A (en) 1979-05-25 1981-09-01 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Nondestructive method for detecting defects in photodetector and solar cell devices
US4277741A (en) 1979-06-25 1981-07-07 General Motors Corporation Microwave acoustic spectrometer
JPS5933267B2 (ja) 1979-08-28 1984-08-14 三菱電機株式会社 半導体素子の不良解析法
US4327180A (en) 1979-09-14 1982-04-27 Board Of Governors, Wayne State Univ. Method and apparatus for electromagnetic radiation of biological material
US4284033A (en) 1979-10-31 1981-08-18 Rca Corporation Means to orbit and rotate target wafers supported on planet member
US4330783A (en) 1979-11-23 1982-05-18 Toia Michael J Coaxially fed dipole antenna
US4365195A (en) 1979-12-27 1982-12-21 Communications Satellite Corporation Coplanar waveguide mounting structure and test fixture for microwave integrated circuits
US4365109A (en) 1980-01-25 1982-12-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Coaxial cable design
US4342958A (en) 1980-03-28 1982-08-03 Honeywell Information Systems Inc. Automatic test equipment test probe contact isolation detection method
JPS5953659B2 (ja) 1980-04-11 1984-12-26 株式会社日立製作所 真空室中回転体の往復動機構
US4284682A (en) 1980-04-30 1981-08-18 Nasa Heat sealable, flame and abrasion resistant coated fabric
US4357575A (en) 1980-06-17 1982-11-02 Dit-Mco International Corporation Apparatus for use in testing printed circuit process boards having means for positioning such boards in proper juxtaposition with electrical contacting assemblies
US4346355A (en) 1980-11-17 1982-08-24 Raytheon Company Radio frequency energy launcher
US4376920A (en) 1981-04-01 1983-03-15 Smith Kenneth L Shielded radio frequency transmission cable
JPS57169244A (en) * 1981-04-13 1982-10-18 Canon Inc Temperature controller for mask and wafer
US4414638A (en) 1981-04-30 1983-11-08 Dranetz Engineering Laboratories, Inc. Sampling network analyzer with stored correction of gain errors
US4425395A (en) * 1981-04-30 1984-01-10 Fujikura Rubber Works, Ltd. Base fabrics for polyurethane-coated fabrics, polyurethane-coated fabrics and processes for their production
US4401945A (en) 1981-04-30 1983-08-30 The Valeron Corporation Apparatus for detecting the position of a probe relative to a workpiece
US4426619A (en) * 1981-06-03 1984-01-17 Temptronic Corporation Electrical testing system including plastic window test chamber and method of using same
US4566184A (en) * 1981-08-24 1986-01-28 Rockwell International Corporation Process for making a probe for high speed integrated circuits
US4419626A (en) 1981-08-25 1983-12-06 Daymarc Corporation Broad band contactor assembly for testing integrated circuit devices
US4453142A (en) 1981-11-02 1984-06-05 Motorola Inc. Microstrip to waveguide transition
US4480223A (en) 1981-11-25 1984-10-30 Seiichiro Aigo Unitary probe assembly
US4528504A (en) 1982-05-27 1985-07-09 Harris Corporation Pulsed linear integrated circuit tester
US4468629A (en) 1982-05-27 1984-08-28 Trw Inc. NPN Operational amplifier
US4491173A (en) * 1982-05-28 1985-01-01 Temptronic Corporation Rotatable inspection table
JPS58210631A (ja) 1982-05-31 1983-12-07 Toshiba Corp 電子ビ−ムを用いたicテスタ
US4507602A (en) * 1982-08-13 1985-03-26 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Measurement of permittivity and permeability of microwave materials
US4479690A (en) 1982-09-13 1984-10-30 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Underwater splice for submarine coaxial cable
US4487996A (en) 1982-12-02 1984-12-11 Electric Power Research Institute, Inc. Shielded electrical cable
US4575676A (en) * 1983-04-04 1986-03-11 Advanced Research And Applications Corporation Method and apparatus for radiation testing of electron devices
CH668646A5 (de) * 1983-05-31 1989-01-13 Contraves Ag Vorrichtung zum wiederholten foerdern von fluessigkeitsvolumina.
JPS59226167A (ja) 1983-06-04 1984-12-19 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板表面処理装置
FR2547945B1 (fr) 1983-06-21 1986-05-02 Raffinage Cie Francaise Nouvelle structure de cable electrique et ses applications
US4588970A (en) 1984-01-09 1986-05-13 Hewlett-Packard Company Three section termination for an R.F. triaxial directional bridge
US4816767A (en) * 1984-01-09 1989-03-28 Hewlett-Packard Company Vector network analyzer with integral processor
JPS60136006U (ja) * 1984-02-20 1985-09-10 株式会社 潤工社 フラツトケ−ブル
US4557599A (en) 1984-03-06 1985-12-10 General Signal Corporation Calibration and alignment target plate
US4646005A (en) * 1984-03-16 1987-02-24 Motorola, Inc. Signal probe
JPS60235304A (ja) 1984-05-08 1985-11-22 株式会社フジクラ 直流電力ケ−ブル
US4675600A (en) 1984-05-17 1987-06-23 Geo International Corporation Testing apparatus for plated through-holes on printed circuit boards, and probe therefor
DE3428087A1 (de) * 1984-07-30 1986-01-30 Kraftwerk Union AG, 4330 Mülheim Konzentrisches dreileiterkabel
US4665360A (en) 1985-03-11 1987-05-12 Eaton Corporation Docking apparatus
US4734872A (en) * 1985-04-30 1988-03-29 Temptronic Corporation Temperature control for device under test
US4730158A (en) * 1986-06-06 1988-03-08 Santa Barbara Research Center Electron-beam probing of photodiodes
US5095891A (en) * 1986-07-10 1992-03-17 Siemens Aktiengesellschaft Connecting cable for use with a pulse generator and a shock wave generator
US4904933A (en) * 1986-09-08 1990-02-27 Tektronix, Inc. Integrated circuit probe station
US4673839A (en) 1986-09-08 1987-06-16 Tektronix, Inc. Piezoelectric pressure sensing apparatus for integrated circuit testing stations
US4812754A (en) * 1987-01-07 1989-03-14 Tracy Theodore A Circuit board interfacing apparatus
US4727637A (en) * 1987-01-20 1988-03-01 The Boeing Company Computer aided connector assembly method and apparatus
US4731577A (en) * 1987-03-05 1988-03-15 Logan John K Coaxial probe card
US4810981A (en) * 1987-06-04 1989-03-07 General Microwave Corporation Assembly of microwave components
US4894612A (en) * 1987-08-13 1990-01-16 Hypres, Incorporated Soft probe for providing high speed on-wafer connections to a circuit
US5084671A (en) * 1987-09-02 1992-01-28 Tokyo Electron Limited Electric probing-test machine having a cooling system
US5198752A (en) * 1987-09-02 1993-03-30 Tokyo Electron Limited Electric probing-test machine having a cooling system
JP2554669Y2 (ja) * 1987-11-10 1997-11-17 博 寺町 回転位置決め装置
US4896109A (en) * 1987-12-07 1990-01-23 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Photoconductive circuit element reflectometer
US5091691A (en) * 1988-03-21 1992-02-25 Semitest, Inc. Apparatus for making surface photovoltage measurements of a semiconductor
US4906920A (en) * 1988-10-11 1990-03-06 Hewlett-Packard Company Self-leveling membrane probe
US4893914A (en) * 1988-10-12 1990-01-16 The Micromanipulator Company, Inc. Test station
US4904935A (en) * 1988-11-14 1990-02-27 Eaton Corporation Electrical circuit board text fixture having movable platens
US4982153A (en) * 1989-02-06 1991-01-01 Cray Research, Inc. Method and apparatus for cooling an integrated circuit chip during testing
US5101149A (en) * 1989-07-18 1992-03-31 National Semiconductor Corporation Modifiable IC board
US5097207A (en) * 1989-11-03 1992-03-17 John H. Blanz Company, Inc. Temperature stable cryogenic probe station
US5089774A (en) * 1989-12-26 1992-02-18 Sharp Kabushiki Kaisha Apparatus and a method for checking a semiconductor
JPH03209737A (ja) * 1990-01-11 1991-09-12 Tokyo Electron Ltd プローブ装置
US5001423A (en) * 1990-01-24 1991-03-19 International Business Machines Corporation Dry interface thermal chuck temperature control system for semiconductor wafer testing
US4994737A (en) * 1990-03-09 1991-02-19 Cascade Microtech, Inc. System for facilitating planar probe measurements of high-speed interconnect structures
US5198753A (en) * 1990-06-29 1993-03-30 Digital Equipment Corporation Integrated circuit test fixture and method
JP2802825B2 (ja) * 1990-09-22 1998-09-24 大日本スクリーン製造 株式会社 半導体ウエハの電気測定装置
US5094536A (en) * 1990-11-05 1992-03-10 Litel Instruments Deformable wafer chuck
US5280156A (en) * 1990-12-25 1994-01-18 Ngk Insulators, Ltd. Wafer heating apparatus and with ceramic substrate and dielectric layer having electrostatic chucking means
JPH05136218A (ja) * 1991-02-19 1993-06-01 Tokyo Electron Yamanashi Kk 検査装置
US5101453A (en) * 1991-07-05 1992-03-31 Cascade Microtech, Inc. Fiber optic wafer probe
US5198756A (en) * 1991-07-29 1993-03-30 Atg-Electronics Inc. Test fixture wiring integrity verification device
US5198758A (en) * 1991-09-23 1993-03-30 Digital Equipment Corp. Method and apparatus for complete functional testing of a complex signal path of a semiconductor chip
US5345170A (en) * 1992-06-11 1994-09-06 Cascade Microtech, Inc. Wafer probe station having integrated guarding, Kelvin connection and shielding systems
FR2695508B1 (fr) * 1992-09-08 1994-10-21 Filotex Sa Câble à faible niveau de bruit.
US5382898A (en) * 1992-09-21 1995-01-17 Cerprobe Corporation High density probe card for testing electrical circuits
US5684669A (en) * 1995-06-07 1997-11-04 Applied Materials, Inc. Method for dechucking a workpiece from an electrostatic chuck
JPH0714898A (ja) * 1993-06-23 1995-01-17 Mitsubishi Electric Corp 半導体ウエハの試験解析装置および解析方法
JP3346838B2 (ja) * 1993-06-29 2002-11-18 有限会社創造庵 回転運動機構
JP3442822B2 (ja) * 1993-07-28 2003-09-02 アジレント・テクノロジー株式会社 測定用ケーブル及び測定システム
US5594358A (en) * 1993-09-02 1997-01-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Radio frequency probe and probe card including a signal needle and grounding needle coupled to a microstrip transmission line
US5500606A (en) * 1993-09-16 1996-03-19 Compaq Computer Corporation Completely wireless dual-access test fixture
US5486975A (en) * 1994-01-31 1996-01-23 Applied Materials, Inc. Corrosion resistant electrostatic chuck
US5491426A (en) * 1994-06-30 1996-02-13 Vlsi Technology, Inc. Adaptable wafer probe assembly for testing ICs with different power/ground bond pad configurations
US5488954A (en) * 1994-09-09 1996-02-06 Georgia Tech Research Corp. Ultrasonic transducer and method for using same
US5835997A (en) * 1995-03-28 1998-11-10 University Of South Florida Wafer shielding chamber for probe station
US5561377A (en) * 1995-04-14 1996-10-01 Cascade Microtech, Inc. System for evaluating probing networks
KR0176434B1 (ko) * 1995-10-27 1999-04-15 이대원 진공 척 장치
US5712571A (en) * 1995-11-03 1998-01-27 Analog Devices, Inc. Apparatus and method for detecting defects arising as a result of integrated circuit processing
US5861743A (en) * 1995-12-21 1999-01-19 Genrad, Inc. Hybrid scanner for use in an improved MDA tester
JP2900877B2 (ja) * 1996-03-22 1999-06-02 日本電気株式会社 半導体デバイスの配線電流観測方法、配線系欠陥検査方法およびその装置
US6023209A (en) * 1996-07-05 2000-02-08 Endgate Corporation Coplanar microwave circuit having suppression of undesired modes
US5963027A (en) * 1997-06-06 1999-10-05 Cascade Microtech, Inc. Probe station having environment control chambers with orthogonally flexible lateral wall assembly
US6002263A (en) * 1997-06-06 1999-12-14 Cascade Microtech, Inc. Probe station having inner and outer shielding
US6029141A (en) * 1997-06-27 2000-02-22 Amazon.Com, Inc. Internet-based customer referral system
WO1999004273A1 (en) * 1997-07-15 1999-01-28 Wentworth Laboratories, Inc. Probe station with multiple adjustable probe supports
US6013586A (en) * 1997-10-09 2000-01-11 Dimension Polyant Sailcloth, Inc. Tent material product and method of making tent material product
US6229322B1 (en) * 1998-08-21 2001-05-08 Micron Technology, Inc. Electronic device workpiece processing apparatus and method of communicating signals within an electronic device workpiece processing apparatus
JP2000183120A (ja) * 1998-12-17 2000-06-30 Mitsubishi Electric Corp プローバ装置及び半導体装置の電気的評価方法
JP2000180469A (ja) * 1998-12-18 2000-06-30 Fujitsu Ltd 半導体装置用コンタクタ及び半導体装置用コンタクタを用いた試験装置及び半導体装置用コンタクタを用いた試験方法及び半導体装置用コンタクタのクリーニング方法
JP3388462B2 (ja) * 1999-09-13 2003-03-24 日本電気株式会社 半導体チップ解析用プローバ及び半導体チップ解析装置
US6650135B1 (en) * 2000-06-29 2003-11-18 Motorola, Inc. Measurement chuck having piezoelectric elements and method
US6313567B1 (en) * 2000-04-10 2001-11-06 Motorola, Inc. Lithography chuck having piezoelectric elements, and method
US6424141B1 (en) * 2000-07-13 2002-07-23 The Micromanipulator Company, Inc. Wafer probe station
GB0021975D0 (en) * 2000-09-07 2000-10-25 Optomed As Filter optic probes
WO2002052285A1 (en) * 2000-12-22 2002-07-04 Tokyo Electron Limited Probe cartridge assembly and multi-probe assembly
US7006046B2 (en) * 2001-02-15 2006-02-28 Integral Technologies, Inc. Low cost electronic probe devices manufactured from conductive loaded resin-based materials
JP4029603B2 (ja) * 2001-05-31 2008-01-09 豊田合成株式会社 ウェザストリップ
US7071714B2 (en) * 2001-11-02 2006-07-04 Formfactor, Inc. Method and system for compensating for thermally induced motion of probe cards
US6777964B2 (en) * 2002-01-25 2004-08-17 Cascade Microtech, Inc. Probe station
US6806697B2 (en) * 2002-04-05 2004-10-19 Agilent Technologies, Inc. Apparatus and method for canceling DC errors and noise generated by ground shield current in a probe
US6856129B2 (en) * 2002-07-09 2005-02-15 Intel Corporation Current probe device having an integrated amplifier
JP4043339B2 (ja) * 2002-10-22 2008-02-06 川崎マイクロエレクトロニクス株式会社 試験方法および試験装置
US6847219B1 (en) * 2002-11-08 2005-01-25 Cascade Microtech, Inc. Probe station with low noise characteristics
US6724205B1 (en) * 2002-11-13 2004-04-20 Cascade Microtech, Inc. Probe for combined signals
US7250779B2 (en) * 2002-11-25 2007-07-31 Cascade Microtech, Inc. Probe station with low inductance path
US6861856B2 (en) * 2002-12-13 2005-03-01 Cascade Microtech, Inc. Guarded tub enclosure
US6838885B2 (en) * 2003-03-05 2005-01-04 Murata Manufacturing Co., Ltd. Method of correcting measurement error and electronic component characteristic measurement apparatus
US7002133B2 (en) * 2003-04-11 2006-02-21 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Detecting one or more photons from their interactions with probe photons in a matter system
US7221172B2 (en) * 2003-05-06 2007-05-22 Cascade Microtech, Inc. Switched suspended conductor and connection
KR100523139B1 (ko) * 2003-06-23 2005-10-20 주식회사 하이닉스반도체 웨이퍼 테스트시 사용되는 프로빙 패드의 수를 감소시키기위한 반도체 장치 및 그의 테스팅 방법
US7001785B1 (en) * 2004-12-06 2006-02-21 Veeco Instruments, Inc. Capacitance probe for thin dielectric film characterization
US7005879B1 (en) * 2005-03-01 2006-02-28 International Business Machines Corporation Device for probe card power bus noise reduction

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0784003A (ja) * 1993-06-25 1995-03-31 Nippon Maikuronikusu:Kk 電気回路測定装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022028607A (ja) * 2020-08-03 2022-02-16 致茂電子股▲分▼有限公司 ウェーハ検査システムおよびそのウェーハ検査装置
JP7313401B2 (ja) 2020-08-03 2023-07-24 致茂電子股▲分▼有限公司 ウェーハ検査システムおよびそのウェーハ検査装置

Also Published As

Publication number Publication date
AU2003286669A1 (en) 2004-06-18
EP1567871A4 (en) 2006-05-17
US7250779B2 (en) 2007-07-31
US7498828B2 (en) 2009-03-03
US20070247178A1 (en) 2007-10-25
US20050099192A1 (en) 2005-05-12
WO2004049395A2 (en) 2004-06-10
KR20050086822A (ko) 2005-08-30
EP1567871B1 (en) 2012-03-21
AU2003286669A8 (en) 2004-06-18
EP1567871A2 (en) 2005-08-31
JP4624262B2 (ja) 2011-02-02
WO2004049395A3 (en) 2005-01-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4624262B2 (ja) 低インダクタンス経路を有するプローブステーション
KR100753945B1 (ko) 저노이즈 특성을 가진 프로브 스테이션
US6124723A (en) Probe holder for low voltage, low current measurements in a water probe station
KR100292438B1 (ko) 저전류 검사카드
JP3974257B2 (ja) 低電流測定システム
US7468609B2 (en) Switched suspended conductor and connection
JPH1126526A (ja) プローブステーション及びテスト装置のプロービング方法
JP2002071743A (ja) 部分放電検出方法
US6249133B1 (en) Low-current probe card
KR20140131481A (ko) 포고 핀의 연결에 기계적 고정을 제공하는 테스트 소켓
US11262400B2 (en) Shielding for probing system
JP2005156253A (ja) 表示パネル試験用プローバ及び試験装置
JP2673870B2 (ja) 電気回路測定装置
JP5297562B2 (ja) 相互接続を改良したプローブステーション
JPS63217634A (ja) ウエフア上電子回路検査装置
JP2000090751A (ja) 電源信号ラインの2重シ―ルドケ―ブル

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20061221

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080917

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081104

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20090203

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20090210

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090303

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100216

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100325

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100427

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100727

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100812

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20100812

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100803

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100823

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100823

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100827

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100903

A524 Written submission of copy of amendment under section 19 (pct)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524

Effective date: 20100927

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101019

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101102

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4624262

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131112

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees