JP2006306693A - フェライト焼結体およびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 高い焼結体密度を有し、初透磁率、高周波特性及び体積抵抗率に優れたフェライト焼結体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 六方晶Z型フェライトのフェライト焼結体であって、17〜21mol%のBaO、6〜13mol%のCoO、残部Feを主成分とし、前記主成分に対してLiをLiCO換算で0.05〜1.0質量%、SiをSiO換算で0.05〜0.5質量%含有することを特徴とし、さらには前記焼結体中のZ型フェライト相とスピネル型フェライト相の全体に対するスピネル型フェライト相の割合が、前記焼結体断面における面積比率で5%以下であることを特徴とする。
【選択図】 図1

Description

本発明は、高周波用磁性材料に係るもので、特に数MHzから数GHzまでの高周波帯域においてチョークコイルやノイズ除去素子などの電子部品や電波吸収体に使用される六方晶Z型フェライトに関する。
近年、携帯電話や無線LAN、パソコンなどの高周波化に伴い装置内部で使用される素子もまた高周波化が要求されている。このような要求に対し、従来用いられてきたスピネル系フェライトでは高周波帯域においてスネークの限界と呼ばれる周波数限界が存在するため使用することができない。そこで磁化容易面を持ち六方晶系の結晶構造を有する六方晶フェライトがかかる周波数限界を超える高周波用材料として検討されている。六方晶系フェライトの中でも特にCoを含有したZ型が比較的高い初透磁率を有し優れた高周波特性を示すことが知られている。六方晶フェライトをコイル部品等の電子部品に使用する場合、高い初透磁率と良好な周波数特性の他に絶縁性確保等の観点から高い体積抵抗率が同時に要求される。
上述の要求に対し、高透磁率、高周波化の検討として特許文献1ではSiおよびCaを含有させることでインダクタンス素子に好適な六方晶Z型フェライトが作製できることが開示されている。また特許文献2ではSiおよびCaを添加することで高周波特性が改善される旨が記載されている。
また特許文献3では主成分酸化物質の他にSiとPbなどを含有することによりSiOとPbOがガラス化することにより高比抵抗な六方晶フェライトが作製できるとの記述がある。同様に高抵抗効果に関して特許文献4では仮焼後にBiとMnを同時添加してから焼成することにより高周波での磁気特性に優れ、比抵抗の高い酸化物磁性材料を得ることができるとしている。
添加物を用いずに高抵抗化する手法として特許文献5では焼結工程の降温過程に、降温速度が0℃/min以上1℃/min未満である低速降温域を設けることで比抵抗の高いフェライトを得ることができると述べられている。また特許文献6では炭酸Baまたは炭酸Srもしくは両方を1〜10質量%、またSiOを0.5〜5質量%配合することにより高抵抗化する旨の内容が記載されている。また特許文献7ではZ型フェライトの二価イオンの一部をCo3+およびLiで置換することにより初透磁率の温度特性を改善できる旨の内容が記載されている。
特開平9−110432号公報 特開平9−129433号公報 特開平10−92624号公報 特開2001−39718号公報 特開2002−362968号公報 特開2003−2656号公報 特開昭50−32207号公報
しかしながら、特許文献1〜7の六方晶フェライトでも、高周波特性に優れた六方晶フェライトにおいて所望の高透磁率及び高体積抵抗率を同時に満たすことはできなかった。すなわち六方晶Z型フェライトのフェライト焼結体では、未だ十分な特性が得られているとはいえなかった。よって、本発明はこの点を解決することを目的とする。
本発明のフェライト焼結体は、六方晶Z型フェライトのフェライト焼結体であって、17〜21mol%のBaO、6〜13mol%のCoO、残部Feを主成分とし、前記主成分に対してLiをLiCO換算で0.05〜1.0質量%含有し且つSiをSiO換算で0.05〜0.5質量%含有することを特徴とする。LiとSiを複合で含有することで、初透磁率、焼結体密度および体積抵抗率が高い六方晶Z型フェライトを提供することができる。
また、前記フェライト焼結体中のZ型フェライト相とスピネル型フェライト相の全体に対するスピネル型フェライト相の割合が、前記焼結体断面における面積比率で5%以下であることを特徴とする。Li及びSiを含有し、かつスピネル型フェライト相の割合を前記範囲とすることで、初透磁率および焼結体密度が高い六方晶Z型フェライトを提供することができる。前記焼結体中のZ型フェライト相とスピネル型フェライト相の全体に対するスピネル型フェライト相の割合は、焼結体の断面を鏡面研磨し、SEM/EDXを用いた1000倍の観察像で、相の同定・観察を行い、該観察像におけるZ型フェライト相とスピネル型フェライト相の全体に対するスピネル型フェライト相の面積比率として算出したものを用いる。
さらに、前記主成分は18.2〜19.8mol%のBaO、8〜11.5mol%のCoO、残部Feであることが好ましい。主成分組成を該範囲とすることで、スピネル型フェライト相の生成を抑制することができる。
さらに、前記フェライト焼結体において、焼結体密度が4.95×10kg/m以上であることが好ましい。Li及びSiの含有により4.95×10kg/m以上の焼結体密度を得ることが可能となり、高透磁率、高強度の六方晶Z型のフェライト焼結体を提供することができる。
さらに、前記フェライト焼結体において、焼結体断面の平均結晶粒径が20μm以上であることが好ましい。焼結体の平均結晶粒径を該範囲とすることにより、Li含有による高密度化とあいまっていっそう高い初透磁率を発揮する。ここで、焼結体の平均結晶粒径とは、鏡面研磨し、エッチング処理を施した焼結体の断面における顕微鏡観察像において、1mmに相当する直線を引き、その線分上に存在する結晶粒の個数で前記線分の長さを除した値とする。なお、線分の末端が結晶粒内で途切れる場合は、その粒は0.5個として計数する。
さらに、前記フェライト焼結体において、100kHzでの初透磁率μが14以上であることが好ましい。LiおよびSiの含有、高密度化によって、100kHzで14以上の初透磁率を得ることも可能であり、もともと高周波特性に優れる六方晶Z型フェライト、さらにはそれを用いた電子部品の高性能化に資する。なお、本願発明では、特に限定のない限り、初透磁率は100kHzでの値とする。
さらに、前記フェライト焼結体において、前記主成分に対してMnをMn換算で0.05〜5質量%含有することが好ましい。Mnの含有は高抵抗を維持しつつ、さらなる初透磁率向上の効果を示す。
前記フェライト焼結体において、100kHzでの初透磁率μが15以上、かつ体積抵抗率ρが10Ω・m以上であることが好ましい。かかるフェライト焼結体は、特に高周波用途の電子部品に好適に用いることができる。
本発明のフェライト焼結体の製造方法は、混合した原料粉を仮焼する仮焼工程と、前記仮焼工程で得られた仮焼粉を粉砕する粉砕工程と、前記粉砕工程で得られた粉砕粉を成形する成形工程と、前記成形工程で得られた成形体を焼成し六方晶Z型フェライトの焼結体を得る焼結工程とを有するフェライト焼結体の製造方法であって、前記フェライト焼結体は、17〜21mol%のBaO、6〜13mol%のCoO、残部Feを主成分とし、前記主成分に対してLiをLiCO換算で0.05〜1.0質量%、SiをSiO換算で0.05〜0.5質量%含有し、前記仮焼工程を大気中、950〜1150℃の条件で行うことを特徴とする。仮焼粉を前記温度範囲で行うことによって、スピネル相フェライトの生成を抑制しつつ、高透磁率化を図ることができる。
また、前記フェライト焼結体の製造方法において、前記仮焼工程で得られた仮焼粉が実質的に六方晶M型フェライト相および六方晶Y型フェライト相の2相であることが好ましい。仮焼後の原料粉を六方晶M型フェライト相および六方晶Y型フェライト相とすることで、焼結工程を経て得られる六方晶Z型フェライトのフェライト焼結体の初透磁率を大きく向上させることができる。なお、実質的に六方晶M型フェライト相および六方晶Y型フェライト相の2相であるとは、粉末X線回折において、前記2相以外の相のピークが観察されないことをいう。
本発明によれば、高い焼結体密度を有し、初透磁率、高周波特性及び体積抵抗率に優れたフェライト焼結体を提供することができる。本発明のフェライト焼結体を使用することにより、高い初透磁率が得られ高品質のチョークコイル、インダクタ、電波吸収体などを提供することが可能となる。また、本発明によれば、スピネル相の生成を抑えた、初透磁率の高い六方晶Z型フェライトのフェライト焼結体の製造に好適な方法を提供することができる。
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。本発明に係るフェライト焼結体は、本発明において特に規定する以外は、フェライトの製造に適用される通常の粉末冶金的方法によって製造することができる。すなわち、素原料を例えば湿式のボールミルにて混合し、電気炉などを用いて仮焼することにより仮焼粉を得る。また得られた仮焼粉を湿式のボールミルなどを用いて粉砕し、得られた粉砕粉をプレス機により成形し例えば電気炉などを用いて焼成を行い、六方晶Z型フェライトのフェライト焼結体を得る。
六方晶Z型フェライトのフェライト焼結体では、Z相が生成し易い温度域において本焼成を行っても十分な初透磁率を得ることが難しい。これはZ相が生成し易い温度域においては十分に焼結が進まず焼結体密度が低いためである。逆に高い温度域で焼成を行うとZ相が生成しにくく、W相、BaFe相といった異相が生成し著しく特性が劣化する。したがって、高い初透磁率を有する六方晶Z型フェライトのフェライト焼結体を得るためには、Z相が生成し易い温度域において十分高い焼結体密度を得られるようにすることが必要である。
これに対して、本発明者は、高い焼結密度を得るためにはLiを含有させることが特に効果的であることを見出した。すなわち、17〜21mol%のBaO、6〜13mol%のCoO、残部Feを主成分とし、前記主成分に対してLiをLiCO換算で0.05〜1.0質量%含有させることによって、Z相は生成し易いが高密度化しにくかった焼結温度領域においても、焼結体の高密度化を図ることができる。これは、Liが焼結助剤として作用し焼結密度を向上させるものと推測している。
前記主成分組成範囲と前記Liの含有により、焼結体の高密度化が図られる。しかし、本発明者は、Liの含有は、焼結体密度を向上させる効果があるが、それだけでは単純に初透磁率が向上しない場合があることを知見した。すなわち、理由は必ずしも明らかではないが、Liを含有させることによって、焼結体の結晶粒径が小さくなることが一因であることがわかってきている。このため、Liを単独で含有させた場合は、Li含有量の増加とともに、焼結体密度は増加するものの初透磁率は減少する。
これに対し、Liと、さらにSiを複合的に含有させることにより、初透磁率が大幅に向上するうえに、初透磁率のLi含有量依存性の挙動が大きく変化することを見出したものである。すなわち、Siを含有させた場合は、Liを単独で含有させた場合と異なり、Li含有量の増加とともに初透磁率が増加する傾向を示すのである。すなわち、Siと共にLiを含有させる場合には、特有の焼結体密度向上と初透磁率向上の相乗効果が得られることを知見した。Liと、さらにSiを複合で含有させた場合は、焼結体の結晶粒径が大きくなっており、これが前記効果の原因であると推察される。すなわち、Liを含有する場合において、高透磁率を得る観点からは、該結晶粒径は大きいことが好ましい。また、その平均結晶粒径は20μm以上であることが、Li含有効果を発揮し、例えば14以上の初透磁率をうる観点から好ましい。一方、Siが初透磁率そのものを向上させる要因については焼結時にSiが粒界部に偏析する過程で成分元素の活発な拡散を促し、結晶粒成長を助けるものと推測される。またSiの含有は体積抵抗率の向上にも寄与する。これは偏析したSiが高抵抗な粒界層を形成し試料全体の体積抵抗率を向上させたものと予想される。すなわち、Siの含有は、粒界抵抗の増加を通じてフェライト焼結体全体の抵抗率増加にも寄与する。Siは少量でもLiとの複合含有効果、体積抵抗率増加の効果を示すがSiO換算で0.05質量%未満ではこれらの実質的な効果が発揮されず、一方0.5質量%を超えると体積抵抗率が改善されなくなるとともに、初透磁率および焼結体密度の低下を招くので0.05〜0.5質量%の範囲が好ましい。Liと複合で前記範囲のSiを含有させることにより、焼結体密度を4.95×10kg/m以上、体積抵抗率を10Ω・m以上としつつ、Li含有による初透磁率向上効果を発揮させることができる。さらに過焼結による粗大粒発生を防ぐためには、0.05〜0.2質量%の範囲がより好ましい。
このようにSiを複合で含有させることにより十分な結晶粒成長が得られるようになり、Liの含有で焼結体密度を向上するだけでなく初透磁率を維持・向上させることが可能となる。しかし含有量がLiCO換算で0.05質量%未満では実質的な効果が認められない。また1.0質量%を超えると過焼結となりやすい他、逆に初透磁率の低下が大きくなる。Siと複合でLiをLiCO換算で0.05〜1.0質量%含有させることによって、初透磁率が大きく低下することなく、焼結体密度を大幅に向上することができ、4.95×10kg/m以上の焼結体密度を得ることができる。高焼結体密度、高透磁率を得る観点からは,より好ましくはLiCO換算で0.2〜0.8質量%である。かかる範囲では、Li含有による透磁率向上の効果を示し、Liを含有しない場合に比べて初透磁率が増加する。かかる範囲は15以上の初透磁率を得るうえで好ましい。さらに好ましくは0.4〜0.6質量%である。また、Liを含有させる主成分の組成は、17〜21mol%のBaO、6〜13mol%のCoO、残部Feとすることが好ましい。BaOが17mol%未満であるとLiを添加しても高い焼結体密度・初透磁率が得られなくなり、21mol%を超えるとスピネル相以外の異相が多量に生成し初透磁率が大きく低下する。高い焼結体密度・初透磁率とを得る観点からは、化学量論組成よりもBaリッチな17.7〜21mol%であることが好ましい。一方、CoOが6mol%未満であると初透磁率及びZ型フェライトが持つ高周波特性が低下し、13mol%を超えるとLiの添加により多量の異相が生成し初透磁率が低下する。
さらに、本発明では、焼結体中のZ型フェライト相とスピネル型フェライト相の全体に対するスピネル型フェライト相の割合を、前記焼結体断面における面積比率で5%以下とすることが好ましい。これは、Liの含有はスピネル型フェライト相の生成を伴うという新たな知見に基づく。すなわち、Liの含有により焼結体密度が増加するが、Siを複合で含有する場合であっても、Li含有量が増加しても初透磁率は単調には変化せず、これがスピネル型フェライト相の生成に起因することを見出したのである。即ち、スピネル型フェライト相の生成は、Li含有量の増加に伴い増加する。スピネル型フェライト相の生成量の増加は初透磁率の低下につながるので、結局スピネル型フェライト相の生成は抑制する必要がある。また、スピネル型フェライト相の生成は主成分組成にも依存する。これについては下記する。さて、焼結体中のスピネル型フェライト相の割合(以下Vfsとも呼ぶ)は、焼結体断面における面積比率で算出し、該割合が5%以下であることが好ましい。Vfsが5%以下である時、高い初透磁率と良好な周波数特性を発現させることができる。他方、Vfsが5%を超えると初透磁率の低下が大きくなり、初透磁率が14未満となる。より好ましくは、4%以下とすることで、15以上の初透磁率を得ることも可能となる。
また、前記主成分組成は、18.2〜19.8mol%のBaO、8〜11.5mol%のCoO、残部Feとすると、前記Vfsを2%以下とすることができる。さらにVfsを低下させるとともに高透磁率を得るためにはCoOを9〜10mol%とすることがいっそう好ましい。主成分組成を前記範囲とすることで、Liを含有する場合であってもスピネル型フェライト相の生成が大幅に抑制され、Vfsを0.5%以下とすることも可能となる。したがって、高透磁率を得やすい。これは、主成分組成を化学量論組成よりも大幅にCoプアな組成とすると、Liを添加した場合でもスピネル型フェライト相が生成しにくいという新たな知見に基づく。これは、次のように考えられる。LiはZ型フェライト相に固溶するが、その際、LiはFe3+と価数バランスをとりつつ2価の状態を維持する。この際Coが多い場合は2価イオンであるCoがはきだされてCoリッチなスピネル相を形成する。しかし、Coプアな組成では、二価のイオンの一部はもともとCo以外の他の陽イオンがニ価のイオンとしてその一部を占めており、この場合はLiを添加してもCo以外の陽イオンが優先的に二価から三価となりCoがはきだされないためスピネル相の生成が抑えられると考えられる。そのため、スピネル型フェライト相が生成しにくい組成領域がCoプア側に広がる。
例えば高周波用デバイスに適用するためには体積抵抗率を一層高くすることが望ましい。これに対し、更に混合の際に適量の二価の金属イオンを同時添加することにより体積抵抗率が向上することを見出した。二価の金属イオンの添加がフェライト焼結体の高抵抗化に寄与する点については、+2の価数をとる金属がFe2+の生成するサイトに優先的に固溶し、結果としてFe2+の生成を抑制するものと推測している。すなわちこれら二価の金属イオンの添加は、主として粒内抵抗の増加を通じてフェライト焼結体全体の抵抗率増加に寄与する。
特に二価の金属イオンとしてMnをMn換算で0.05〜5質量%含有させることにより、体積抵抗率が大きく改善されることを見出した。またMnは初透磁率向上の効果も示す。これはMnがZ相の結晶格子に固溶し、磁気異方性が変化したものと予想している。かかる構成で初透磁率μiが15以上、体積抵抗率ρが10Ω・m以上のフェライト焼結体を提供することも可能となる。すなわち特にMnとSiおよびLiを複合で含有することによって、高密度、高透磁率、高抵抗を併せ持ったフェライト焼結体が実現される。上記組成においてMnは少量の含有で体積抵抗率が増加するが、0.05質量%未満では実質的な効果が発揮されない。一方Mnの含有量の増加に伴い体積抵抗率は増加するが5質量%を超えて含有させると焼結体密度が著しく低下し焼結が困難になる。Si、Liと複合で含有させる場合は、Siの効果で体積抵抗率は既に非常に高い値を示しており、この場合は特に初透磁率向上の効果の方が顕著に確認される。高体積抵抗率、高焼結体密度を維持しつつ、高透磁率を得る観点からは、Mnの含有量の更に好ましい範囲は2〜4質量%、特に好ましくは2.5〜3.5質量%である。
上述のMnに代表される二価の金属イオンやLiの含有により、全鉄量に対するFe2+の比率が減少するため、これらの含有量を制御することにより全鉄量に対するFe2+の比率を0.2%以下とすることができる。主成分を本発明の範囲、例えば17〜21mol%のBaO、6〜13mol%のCoO、残部Feとし、初透磁率μiを14以上とし、含有される全鉄量に対するFe2+の比率を0.2%以下とすることで高透磁率かつ高抵抗な高周波特性に優れた六方晶Z型フェライトを提供することが可能となる。より好ましくはFe2+の比率を0.05%以下とすることで10Ω・m以上の体積抵抗率を得ることができる。
上記本願発明は、焼結体密度4.95×10kg/m以上、さらには初透磁率14以上、さらには体積抵抗率を10Ω・m以上の高透磁率、高密度、高体積抵抗率を実現するうえで好適であり、これらの特性を有することが高周波用途の電子部品を提供するうえで好ましい。主成分を本発明の範囲、例えば17〜21mol%のBaO、6〜13mol%のCoO、残部Feとし、前記主成分に対してLiをLiCO換算で0.05〜1.0質量%、MnをMn換算で0.05〜5質量%、SiをSiO換算で0.05〜0.5質量%含有することによって、焼結体密度を4.95×10kg/m以上、初透磁率μiが14以上、かつ体積抵抗率ρが10Ω・m以上の高特性を得ることができ、さらにLiをLiCO換算で0.2〜0.8質量%含有することで15以上の初透磁率μiを得ることも可能であり、高周波用途の電子部品に好適なフェライト焼結体を提供することができる。
本発明に係るフェライト焼結体は、上述のように本願発明で特に限定する以外は、通常の粉末冶金的方法によって製造することができるが、17〜21mol%のBaO、6〜13mol%のCoO、残部Feを主成分とし、前記主成分に対してLiをLiCO換算で0.05〜1.0質量%、SiをSiO換算で0.05〜0.5質量%含有するフェライト焼結体を製造する場合、仮焼温度が低くなると最終的に得られる焼結体におけるスピネル型フェライトの割合Vfsが増加してしまう。仮焼温度900℃以上でVfsを5%以下とすることが可能であるが、15以上の初透磁率を得るためには950℃以上とすることが好ましい。一方、仮焼温度が1150℃を超えると焼結体の結晶粒径が小さくなり、初透磁率も低下し、15以上の初透磁率を得ることが困難となる。したがって、高透磁率を得る観点からは仮焼温度は950〜1150℃であることが好ましい。また、仮焼温度によって、仮焼後の原料粉の構成相が、M型、Y型およびZ型の六方晶フェライト、BaFe、スピネル相等の中で変化するが、特に仮焼粉の原料粉が実質的に六方晶M型フェライト相と六方晶Y型フェライト相の2相である場合に、焼結体の初透磁率向上の効果が大きい。これは2相が結合する際の反応によりZ相結晶粒成長が助長されるためであると推測される。また、仮焼の雰囲気は、生産性の観点から大気中であることが好ましい。
本発明に係るフェライト焼結体は、上述のように通常の粉末冶金的方法によって製造することができるが、焼結雰囲気の酸素濃度は高いことが好ましい。該酸素濃度を高くすることによって、体積抵抗率が高くなる。また、スピネル型フェライト相の割合も低下する。かかる観点からは、酸素濃度は、20vol%以上が好ましく、酸素100%の焼結雰囲気とすることがより好ましい。また、焼結温度は、例えば1250〜1350℃の範囲で選択すればよいが、高焼結体密度、高透磁率を得る観点からは、1280〜1330℃が好ましい。
以下、本発明に係る六方晶Z型フェライトのフェライト焼結体について具体的に説明する。先ず、主成分組成が表1のような割合となるよう、Fe、BaCO、Coを秤量し、この主成分に対し表1の割合になるようにMn、LiCO、SiOをそれぞれ添加し、湿式ボールミルにて16時間混合した。なお、Mn、LiCO、SiOについては仮焼後に行う粉砕時に加えてもよい。次にこれを大気中1100℃で2時間仮焼した。この仮焼粉を湿式ボールミルにて18時間粉砕した。作製した粉砕粉にバインダー(PVA)を添加し、造粒した。造粒後リング状に圧縮成形し、その後、酸素雰囲気中1300℃で3時間焼結した。得られた外径25mm、内径15mm、高さ5mmのリング状焼結体の25℃における初透磁率および体積抵抗率を測定した。初透磁率は、リング焼結体に20回の巻き線を施し、インピーダンス・ゲインフェイズアナライザー4194A(Yokogawa・Hewlett・Packard社製)を用いて周波数100kHzで測定した(以下、特に断らない限り初透磁率とは100kHzで測定した値を指すものとする)。また、体積抵抗率、焼結体平均結晶粒径、初透磁率の周波数特性の評価も行なった。体積抵抗率は、リング焼結体を中心で2分割に切断し、切断面に導電材であるドータイトを塗布し絶縁抵抗計(アドバンテスト社製)を用いて測定した。また10MHzから1.8GHzまでの初透磁率の周波数特性は、インピーダンスメータ4291B(Hewlett・Packard社製)を用いて測定した。また、焼結体の平均結晶粒径とは、鏡面研磨し、エッチング処理を施した焼結体の断面における顕微鏡観察像において、1mmに相当する直線を引き、その線分上に存在する結晶粒の個数で前記線分の長さを除した値を平均結晶粒とした。なお、線分の末端が結晶粒内で途切れる場合は、その粒は0.5個として計数した。初透磁率、焼結体密度、体積抵抗率の評価結果を表1に示す。
表1に示した通り、比較例1〜4からは、LiCO単独の場合でその含有量の増加に伴い焼結体密度が向上し、LiCO含有量が0.2質量%以上では、焼結密度4.85×10kg/m以上が得られることがわかる。しかし、焼結体密度が増加するにもかかわらず、LiCOの増加に伴い初透磁率は減少している。一方、実施例1では、SiOを0.13質量%含有させることにより初透磁率は14を超え、且つ体積抵抗率が10Ω・m以上となり、SiOの含有が初透磁率・体積抵抗率を共に向上させる効果があることが分かる。また、表1(実施例2〜6)に示した通り、SiOを複合で含有する場合は、LiCOの含有量の増加に伴い焼結体密度が向上するとともに、初透磁率が向上することが分かる。LI含有量を変化させた表1の実施例2〜6の結果では初透磁率は14以上を示している。SiOを含有し、LiCOの含有量が0.2質量%以上では、焼結体密度5.00×10kg/m以上が得られるようになる。初透磁率は含有量が0.6質量%までは増加し、0.2〜0.8質量%の含有量の範囲で、Liを含有しない場合に比べて初透磁率は0.7以上増加している。表1では15以上の初透磁率が得られることが分かる。特に0.4〜0.6質量%の含有量の範囲では、Liを含有しない場合に比べて初透磁率は4.5以上増加している。表1では19以上の非常に高い初透磁率が得られている。また、体積抵抗率は何れも10Ω・m以上の値が得られた。実施例7〜10では、SiOは0.05〜0.2質量%で、18以上の初透磁率を示し、特に0.13〜0.2質量%の範囲では19以上の非常に高い初透磁率を示している。また、焼結体平均結晶粒径の評価結果を表2に示すが、表2の結果から、Liを単独で含有した場合は、焼結体の平均結晶粒径が小さくなっているとともに、初透磁率が低いのに対して、Siを複合で含有することによって平均結晶粒径が大きくなって、初透磁率が向上していることがわかる。平均結晶粒径が20μm以上の範囲、具体的には24〜58μmの範囲の試料で、Li含有の効果が発揮されるようになり、14以上の初透磁率、5.00×10kg/m以上が得られることが分かる。また、比較例5に示すように、Liに加えてMnを含有させても、それだけでは焼結体の結晶粒径は小さいままで、初透磁率も低い。すなわち、焼結体結晶粒径を大きくし、Li含有による初透磁率向上効果を発現するという現象は、Liに対してSiを含有させることによって発揮される効果であることがわかる。Mnは、Liとの複合含有では初透磁率向上の効果を示していないが、さらにSiとの複合で含有させると初透磁率向上の効果を示すことが分かる。特にMnが3〜4質量%では、初透磁率は19以上となり、高初透磁率、高焼結体密度、高体積抵抗率が実現されている。
上記よりLiCOをSiOと複合で含有させることにより六方晶Z型フェライトの焼結体の高密度化および高透磁率化が図られることが明らかとなった。ここで得られた試料についてX線回折で異相の生成を調査した結果を図1および図2に示す。図2には実施例2および実施例3の結果を、図3には比較例1、実施例2、実施例5および比較例7のX線回折パターンの一部を拡大したものを示した。高LiCO含有材にはスピネル型フェライト相が生成していることが分かる。また図1にSEM観察結果の例として、実施例3の試料のSEM写真を示す。黒色部がスピネル型フェライト相に相当し(矢印1指示)、灰色部がZ型フェライト相に相当する(矢印2指示)。ここでSEM観察の結果からZ型フェライト相とスピネル型フェライト相の全体に対するスピネル型フェライト相の面積比率を測定し、LiCO含有量に対するスピネル型フェライト相の割合の変化を調べた結果を図4に示した。なお、前記面積比率は、Z型フェライト相とスピネル型フェライト相をもとに算出し、空孔等それ以外の部分は除外した。LiCO含有量の増加に伴い、スピネル型フェライト相の割合が増加することが分かる。図4と表1の結果から、スピネル型フェライト相の割合が5%以下の範囲で初透磁率μi≧14、4%以下の範囲でμi≧15が得られることが分かる。Liの含有に伴う焼結体密度増加による初透磁率向上の効果とスピネル型フェライト相の生成による初透磁率の低下の影響が合わさって、Li含有量が0.2〜0.6質量%(2000〜6000ppm)、スピネル型フェライト相の割合が0.2〜2.2%の範囲で(実施例2〜4)、17以上の初透磁率が得られている。
また、表1に示すように、主成分組成が本発明の範囲内である17.9〜21mol%のBaO、8〜13mol%のCoO、残部Feの試料は、前記主成分に対するLiの含有量をLiCO換算で0.2〜1.0質量%、SiOを0.05〜0.2質量%の範囲として、焼結体密度5.03×10kg/m以上、初透磁率14以上、体積抵抗率1.1×10Ω・m以上の高特性が得られている。また、スピネル型フェライト相の割合を調べた結果を表3に示す。表3および図4より、BaOが18.2〜19.8mol%、CoOが8〜11.5の範囲である実施例7、8、11〜14ではVfsが2%以下となった。特に、Co量が9〜10mol%の実施例11、13、14ではVfsは0.5%以下となり、透磁率も19以上の高い値が得られた。また主成分組成が本発明範囲外である比較例8〜11では何れも初透磁率が13未満の低い値となることが分かった。
また上記比較例6、7および実施例2〜6の試料に含有される全鉄量に対するFe2+の比率を評価した。Fe2+量は、焼結体を強リン酸に溶解し、ジフェニルアミン−4−スルフォン酸ナトリウムを指示薬として重クロム酸カリウム標準溶液で滴定することによって決定した。また、全Feの量は、塩酸にて試料を分解し、過酸化水素でFe(Fe2+、Fe3+)の内のFe2+をFe3+へ酸化させすべてFe3+とし、その後塩化第一スズでFe3+からFe2+へ還元した後、重クロム酸カリウム標準溶液で滴定することによって決定した。結果、何れの試料からも0.04質量%以上のFe2+は検出されなかった。すなわち上記スピネル型フェライト相の割合の範囲では、Fe2+を生成させるような組成のずれを生じさせないものと理解できる。
次に実施例3の組成について、大気中で異なる仮焼温度で仮焼し、仮焼の条件だけ変えて試料を作製した。その特性を表4に示す。表4に示したように仮焼温度900〜1200℃の範囲で初透磁率が14以上、Vfs5%以下が得られるが、特に仮焼温度が本発明の範囲内である1000〜1100℃の試料では、15以上の初透磁率と4%以下のVfsが得られていることが分かる。なお、仮焼温度が900℃であると、スピネル型フェライト相の割合が高く、15以上の高透磁率が得られない。一方、仮焼温度が1200℃になると、平均結晶粒径が小さくなりすぎ、15以上の高透磁率が得られないことが分かる。これらのことから仮焼温度は950〜1150℃が好ましいと考える。また、仮焼粉の状態において生成している相をX線回折パターンにより同定した結果を同じく表4に示す。特に初透磁率が19以上と磁気特性の高かった1100℃の仮焼温度では、仮焼後の原料粉の生成相はM型及びY型フェライトの2相であり、生成相がこの2相構成を有する場合に特に初透磁率向上に有効であることが分かる。
また、本発明の実施例に係る試料ではMn、Siを本発明の範囲で含有することによって、それらを含有しない場合(比較例1)に比べて高い体積抵抗率を示すことがわかる。さらに、実施例3と比較例1の試料の初透磁率の周波数依存性を測定した結果を図5に示す。実施例3の試料は、Li、Si、Mnを含有しない比較例1に比べて、高い透磁率が高周波側まで維持され、透磁率が減少し始める周波数が高い。すなわち本発明のフェライト焼結体は、周波数特性にも優れることがわかる。
本発明の実施例のSEM観察写真である。 本発明の実施例のX線回折パターンを示す図である。 本発明の実施例および比較例のX線回折パターンを示す図である。 LiCO含有量とスピネル相の生成率の関係を表す図である。 本発明の実施例および比較例の初透磁率の周波数依存性を示す図である。
符号の説明
1:スピネル型フェライト相 2:Z型フェライト相

Claims (10)

  1. 六方晶Z型フェライトのフェライト焼結体であって、17〜21mol%のBaO、6〜13mol%のCoO、残部Feを主成分とし、前記主成分に対してLiをLiCO換算で0.05〜1.0質量%、SiをSiO換算で0.05〜0.5質量%含有するフェライト焼結体。
  2. 前記フェライト焼結体中のZ型フェライト相とスピネル型フェライト相の全体に対するスピネル型フェライト相の割合が、前記フェライト焼結体断面における面積比率で5%以下であることを特徴とする請求項1に記載のフェライト焼結体。
  3. 前記主成分が18.2〜19.8mol%のBaO、8〜11.5mol%のCoO、残部Feであることを特徴とする請求項1または2に記載のフェライト焼結体。
  4. 焼結体密度が4.95×10kg/m以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のフェライト焼結体。
  5. 焼結体断面の平均結晶粒径が20μm以上であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のフェライト焼結体。
  6. 100kHzでの初透磁率μが14以上であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のフェライト焼結体。
  7. 前記主成分に対してMnをMn換算で0.05〜5質量%含有することを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のフェライト焼結体。
  8. 100kHzでの初透磁率μが15以上、かつ体積抵抗率ρが10Ω・m以上であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のフェライト焼結体。
  9. 混合した原料粉を仮焼する仮焼工程と、前記仮焼工程で得られた仮焼粉を粉砕する粉砕工程と、前記粉砕工程で得られた粉砕粉を成形する成形工程と、前記成形工程で得られた成形体を焼成し六方晶Z型フェライトの焼結体を得る焼結工程とを有するフェライト焼結体の製造方法であって、前記フェライト焼結体は、17〜21mol%のBaO、6〜13mol%のCoO、残部Feを主成分とし、前記主成分に対してLiをLiCO換算で0.05〜1.0質量%、SiをSiO換算で0.05〜0.5質量%含有するとともに、前記仮焼工程を大気中、950〜1150℃の条件で行うフェライト焼結体の製造方法。
  10. 前記仮焼工程で得られた仮焼粉が実質的に六方晶M型フェライト相および六方晶Y型フェライト相の2相であることを特徴とする請求項9に記載のフェライト焼結体の製造方法。
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