JP2006226862A - Xyステージ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 格子プラテン上のスライダ部を2次元方向に位置制御するXYステージにおいて、
独立に位置制御される複数のスライダ部を有し、これらスライダ部の夫々は、スライダ部をX軸方向及びY軸方向に位置制御する位置制御手段と、スライダ部のZ軸まわりのヨーイングを補正するヨーイング補正手段を備える。
【選択図】 図1
Description
(1)スライダ部を2次元位置制御する際に、Z軸まわりの回転(ヨーイング)が発生し、これが位置決め精度向上の障害要因となる。
(1)格子プラテン上のスライダ部を2次元方向に位置制御するXYステージにおいて、
独立に位置制御される複数のスライダ部を有し、これらスライダ部の夫々は、スライダ部をX軸方向及びY軸方向に位置制御する位置制御手段と、スライダ部のZ軸まわりのヨーイングを補正するヨーイング補正手段を備えることを特徴とするXYステージ。
(1)スライダ部を2次元位置制御する際に、Z軸まわりの回転(ヨーイング)による位置決め誤差が抑制され、位置決め精度向上に貢献できる。
(1)X軸センサ2台及びY軸センサ1台はスライダ部より分離され固定配置されるので、その電子部品による発熱がスライダ部の上に取り付けられるワーク及びワーク上に搭載されるデバイスに影響を与えることが回避される。これにより、露光工程のようにワークが更に精度の高いデバイスの位置決め作業をしている場合等では温度補償を不用とし、スライダ部上の構成がシンプルとなり、コストダウンに貢献できる。
pz=(d1−d2)/L (1)
rz=(d3−d4)/L (2)
hz=(d1+d2+d3+d4)/4 (3)
(1)ピッチング方向制御:X1モータ,Y2モータとY1モータ,X2モータで逆位相の直交電流を流す。
(2)ローリング方向制御:X1モータ,Y1モータとY2モータ,X2モータで逆位相の直交電流を流す。
(3)Z軸方向位置制御:全モータに同位相で同一値の直交電流を流す。
(1)ピッチング方向制御:X1,X2とX3,X4で逆相の直交電流を流す。
(2)ローリング方向制御:X1,X3とX2,X4で逆相の直交電流を流す。
(3)Z軸方向位置制御 :X1〜X4で同相の直交電流を流す。
φ=mod(X,P)
で算出される。
101、102 103スライダ部
104、105、106 デバイスホルダ
107、107´、107″ デバイス
108 カメラ
109 レーザ光源
110 フォトマスク
111 レンズ系
112、113、114 ヨーイング補正手段
Claims (13)
- 格子プラテン上のスライダ部を2次元方向に位置制御するXYステージにおいて、
独立に位置制御される複数のスライダ部を有し、これらスライダ部の夫々は、スライダ部をX軸方向及びY軸方向に位置制御する位置制御手段と、スライダ部のZ軸まわりのヨーイングを補正するヨーイング補正手段を備えることを特徴とするXYステージ。 - 前記スライダ部の夫々は、スライダ部のZ軸方向の変化を補正するローリング又はピッチング補正手段を備えることを特徴とする請求項1に記載のXYステージ。
- 前記スライダ部の夫々は、スライダ部のZ軸方向の変化を検出するセンサ手段と、このセンサ手段の検出値に基づいてZ軸方向の変化を抑制するコイル手段を備えたことを特徴とする請求項2に記載のXYステージ。
- 前記スライダ部の夫々は、Z軸方向の変化を検出するセンサ手段と、このセンサ手段の検出値に基づいて前記スライダ部をX軸方向及びY軸方向に移動するX軸モータ及びY軸モータの制御電流に対してその位相角と直交する位相の補正電流を付与する、直交電流付与手段を備えることを特徴とする請求項2に記載のXYステージ。
- 前記スライダ部の夫々は、速度に応じて前記X軸モータ及びY軸モータに供給される制御電流の転流位相角より計算されるコギング補正信号により、スライダ部に発生するコギング推力に起因するリップルを抑制する、リップル抑制手段を備えることを特徴とする請求項1に記載のXYステージ。
- 前記転流位相角又は前記コギング補正信号の少なくともいずれかの定数を変更する、定数設定手段を設けたことを特徴とする請求項5に記載のXYステージ。
- X軸に関する前記コギング補正信号をY軸のコギング補正信号に、Y軸に関する前記コギング補正信号をX軸のコギング補正信号に加算することを特徴とする請求項5に記載のXYステージ。
- X軸及びY軸に関する前記コギング補正信号を、Z軸に関するコギング補正信号に加算することを特徴とする請求項5に記載のXYステージ。
- 前記スライダ部の夫々は、スライダの移動速度に基づく速度フィードバック制御手段及びスライダの移動速度に基づく加速度フィードバック制御手段を備えることを特徴とする請求項1に記載のXYステージ。
- 前記速度フィードバック制御手段が出力するスライダの加速度指令値を前記加速度フィードバック制御手段にフィードフォワード信号として与えることを特徴とする請求項9に記載のXYステージ。
- 前記スライダ部の夫々は、前記X軸モータ及びY軸モータに供給する制御電流に対して位相が直交する補正電流を重畳させる、デッドタイム補正手段を備えることを特徴とする請求項1に記載のXYステージ。
- 前記補正電流の値は、デッドタイム発生回路の特性に応じて手動設定されることを特徴とする請求項11に記載のXYステージ。
- 前記スライダ部の夫々は、半導体製造装置でアライメントを行うデバイス及び半導体製造装置で露光を行うデバイスを搭載し、位置制御されることを特徴とする請求項1乃至12のいずれかに記載のXYステージ。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005041562A JP4678204B2 (ja) | 2005-02-18 | 2005-02-18 | Xyステージ |
EP06713884A EP1852763A4 (en) | 2005-02-18 | 2006-02-16 | XY STAGE |
US11/816,661 US20090014932A1 (en) | 2005-02-18 | 2006-02-16 | Xy stage |
PCT/JP2006/302743 WO2006088098A1 (ja) | 2005-02-18 | 2006-02-16 | Xyステージ |
KR1020077018947A KR100915163B1 (ko) | 2005-02-18 | 2006-02-16 | Xy 스테이지 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005041562A JP4678204B2 (ja) | 2005-02-18 | 2005-02-18 | Xyステージ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006226862A true JP2006226862A (ja) | 2006-08-31 |
JP4678204B2 JP4678204B2 (ja) | 2011-04-27 |
Family
ID=36916499
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005041562A Expired - Fee Related JP4678204B2 (ja) | 2005-02-18 | 2005-02-18 | Xyステージ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090014932A1 (ja) |
EP (1) | EP1852763A4 (ja) |
JP (1) | JP4678204B2 (ja) |
KR (1) | KR100915163B1 (ja) |
WO (1) | WO2006088098A1 (ja) |
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- 2005-02-18 JP JP2005041562A patent/JP4678204B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-02-16 KR KR1020077018947A patent/KR100915163B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2006-02-16 US US11/816,661 patent/US20090014932A1/en not_active Abandoned
- 2006-02-16 WO PCT/JP2006/302743 patent/WO2006088098A1/ja active Application Filing
- 2006-02-16 EP EP06713884A patent/EP1852763A4/en not_active Withdrawn
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KR100915163B1 (ko) | 2009-09-03 |
WO2006088098A1 (ja) | 2006-08-24 |
JP4678204B2 (ja) | 2011-04-27 |
EP1852763A1 (en) | 2007-11-07 |
US20090014932A1 (en) | 2009-01-15 |
KR20070104611A (ko) | 2007-10-26 |
EP1852763A4 (en) | 2010-10-06 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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