JPH11327657A - アクティブ除振装置および露光装置 - Google Patents
アクティブ除振装置および露光装置Info
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- JPH11327657A JPH11327657A JP10139242A JP13924298A JPH11327657A JP H11327657 A JPH11327657 A JP H11327657A JP 10139242 A JP10139242 A JP 10139242A JP 13924298 A JP13924298 A JP 13924298A JP H11327657 A JPH11327657 A JP H11327657A
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- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
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- F16F15/00—Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
- F16F15/02—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
- F16F15/023—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems using fluid means
- F16F15/027—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems using fluid means comprising control arrangements
- F16F15/0275—Control of stiffness
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
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- F16F15/00—Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
- F16F15/002—Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion characterised by the control method or circuitry
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- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
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- F16F15/02—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＸＹステージの高速移動に伴う重心変化の影
響を排除したアクティブ除振装置を提供する。 【解決手段】 移動可能なステージを支持する構造体を
搭載する除振台、空気ばねアクチュエータと振動計測手
段と位置計測手段と該空気ばねアクチュエータの加圧力
を計測する加圧力計測手段とを備え前記除振台を支持す
る複数台の能動的支持脚、および前記位置計測手段の出
力に基づいて指定された平衡位置に前記除振台を位置決
めする位置フィードバック系と前記振動計測手段の出力
に基づいて前記除振台にダンピングを付与する加速度フ
ィードバック系と前記加圧力計測手段の出力に基づいて
前記空気ばねアクチュエータの加圧力を制御する加圧力
フィードバック系とを有する制御装置を備えたアクティ
ブ除振装置において、前記除振台の上のステージが移動
することによって発生する前記除振台の傾きを矯正する
補正信号を前記ステージの位置を検出する位置検出手段
の計測値に基づいて作成し、これを前記加圧力フィード
バック系にフィードフォワード入力する手段を設ける。
響を排除したアクティブ除振装置を提供する。 【解決手段】 移動可能なステージを支持する構造体を
搭載する除振台、空気ばねアクチュエータと振動計測手
段と位置計測手段と該空気ばねアクチュエータの加圧力
を計測する加圧力計測手段とを備え前記除振台を支持す
る複数台の能動的支持脚、および前記位置計測手段の出
力に基づいて指定された平衡位置に前記除振台を位置決
めする位置フィードバック系と前記振動計測手段の出力
に基づいて前記除振台にダンピングを付与する加速度フ
ィードバック系と前記加圧力計測手段の出力に基づいて
前記空気ばねアクチュエータの加圧力を制御する加圧力
フィードバック系とを有する制御装置を備えたアクティ
ブ除振装置において、前記除振台の上のステージが移動
することによって発生する前記除振台の傾きを矯正する
補正信号を前記ステージの位置を検出する位置検出手段
の計測値に基づいて作成し、これを前記加圧力フィード
バック系にフィードフォワード入力する手段を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レチクルの回路パ
ターンを半導体ウエハに焼き付ける半導体露光装置また
は液晶基板製造装置あるいは電子顕微鏡などに用いられ
るアクティブ除振装置に関する。より詳しくは、除振台
に伝播してくる外部振動を抑制するとともに、除振台に
搭載される精密機器自身が発生する振動を積極的に打ち
消すことが可能なアクティブ除振装置およびこの装置を
備えた露光装置に関する。
ターンを半導体ウエハに焼き付ける半導体露光装置また
は液晶基板製造装置あるいは電子顕微鏡などに用いられ
るアクティブ除振装置に関する。より詳しくは、除振台
に伝播してくる外部振動を抑制するとともに、除振台に
搭載される精密機器自身が発生する振動を積極的に打ち
消すことが可能なアクティブ除振装置およびこの装置を
備えた露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビームを使う電子顕微鏡またはステ
ッパなどに代表される半導体露光装置では、除振装置上
にＸＹステージが搭載されている。この除振装置は、空
気ばね、コイルばね、防振ゴムなどの振動吸収手段によ
り振動を減衰させる機能を持つ。しかし、上述の如き振
動吸収手段を備えた受動的除振装置においては、床から
伝播する振動についてはある程度減衰できても、同装置
上に搭載されているＸＹステージ自身が発生する振動は
有効に減衰できない、という問題がある。つまり、ＸＹ
ステージ自身の高速移動によって生じる反力は除振装置
を揺らせることになり、この振動はＸＹステージの位置
決め整定性を著しく阻害するものであった。さらに、受
動的除振装置においては、床から伝播する振動の絶縁
（除振）とＸＹステージ自身の高速移動で発生する振動
の抑制（制振）性能の間にトレードオフの問題があっ
た。これらの問題を解消するべく、近年は能動的除振装
置（以下、アクティブ除振装置と呼ぶ）を使用する傾向
にある。アクティブ除振装置は可調整機構の範囲内で除
振と制振のトレードオフが解消できるし、なによりもフ
ィードフォワード制御を積極的に適用することによって
受動的除振装置では達成できない性能を取得することが
できる。
ッパなどに代表される半導体露光装置では、除振装置上
にＸＹステージが搭載されている。この除振装置は、空
気ばね、コイルばね、防振ゴムなどの振動吸収手段によ
り振動を減衰させる機能を持つ。しかし、上述の如き振
動吸収手段を備えた受動的除振装置においては、床から
伝播する振動についてはある程度減衰できても、同装置
上に搭載されているＸＹステージ自身が発生する振動は
有効に減衰できない、という問題がある。つまり、ＸＹ
ステージ自身の高速移動によって生じる反力は除振装置
を揺らせることになり、この振動はＸＹステージの位置
決め整定性を著しく阻害するものであった。さらに、受
動的除振装置においては、床から伝播する振動の絶縁
（除振）とＸＹステージ自身の高速移動で発生する振動
の抑制（制振）性能の間にトレードオフの問題があっ
た。これらの問題を解消するべく、近年は能動的除振装
置（以下、アクティブ除振装置と呼ぶ）を使用する傾向
にある。アクティブ除振装置は可調整機構の範囲内で除
振と制振のトレードオフが解消できるし、なによりもフ
ィードフォワード制御を積極的に適用することによって
受動的除振装置では達成できない性能を取得することが
できる。
【０００３】さて、受動的除振装置に限らずアクティブ
除振装置でも、除振台の上に搭載されたＸＹステージが
ステップアンドリピートあるいはステップアンドスキャ
ンした場合には、同ステージの移動に原因した重心変化
が生じるので除振台は傾く。十分な時間が経過すると、
もちろんこの傾きは復帰するがステップアンドリピート
あるいはステップアンドスキャンは何れも高速に行なわ
れ、除振台の位置復帰動作が間に合わずに結局のところ
除振台は傾くことになる。このような傾きは当然の物理
現象であるが、半導体露光装置にとっては不利益をもた
らす。例えば、本体構造体に備える不図示の機能ユニッ
トが本体構造体の傾きによって振動してしまい、所定の
性能が得られない等の障害を引き起こす。対策として、
除振台の固有振動数を高くしてすなわち除振台を固くす
ることによって外乱に対する応答を抑圧することが考え
られる。しかし、この場合には、床などの振動を除振台
の上へ伝え易くするため除振特性の劣化を招く。そこ
で、除振特性を損なうことなく本体構造体の傾きを矯正
する技術が必要となっていた。
除振装置でも、除振台の上に搭載されたＸＹステージが
ステップアンドリピートあるいはステップアンドスキャ
ンした場合には、同ステージの移動に原因した重心変化
が生じるので除振台は傾く。十分な時間が経過すると、
もちろんこの傾きは復帰するがステップアンドリピート
あるいはステップアンドスキャンは何れも高速に行なわ
れ、除振台の位置復帰動作が間に合わずに結局のところ
除振台は傾くことになる。このような傾きは当然の物理
現象であるが、半導体露光装置にとっては不利益をもた
らす。例えば、本体構造体に備える不図示の機能ユニッ
トが本体構造体の傾きによって振動してしまい、所定の
性能が得られない等の障害を引き起こす。対策として、
除振台の固有振動数を高くしてすなわち除振台を固くす
ることによって外乱に対する応答を抑圧することが考え
られる。しかし、この場合には、床などの振動を除振台
の上へ伝え易くするため除振特性の劣化を招く。そこ
で、除振特性を損なうことなく本体構造体の傾きを矯正
する技術が必要となっていた。
【０００４】より詳細な理解を得るべく、除振台の上に
ＸＹステージを搭載するアクティブ除振装置の機械構成
を参照しながら上述の内容を説明しよう。図７にアクテ
ィブ除振装置の機械構成の概略を示す。図中、２１は除
振台２２に搭載されたＸＹステージを、２３−１，２３
−２，２３−３は除振台２２を支える能動的支持脚を示
す。１脚の能動的支持脚２３−ｎ（但し、ｎ＝１，２，
３）の中には、鉛直方向と水平方向の２軸を制御するた
めに必要な個数の加速度センサＡＣ、位置センサＰＯ、
圧力センサＰＲ、サーボバルブＳＶ、空気ばねアクチュ
エータＡＳが内蔵されている。ここで、ＡＣ，ＰＯなど
の次に付けた記号は図中の座標系に従う方位（Ｘ，Ｙ，
Ｚ）と能動的支持脚２３の配置場所（ｎ＝１，２，３）
を示す。例えば、Ｙ２とはＹ軸方向であって左側に配置
した能動的支持脚２３−２の中にあるものを指す。
ＸＹステージを搭載するアクティブ除振装置の機械構成
を参照しながら上述の内容を説明しよう。図７にアクテ
ィブ除振装置の機械構成の概略を示す。図中、２１は除
振台２２に搭載されたＸＹステージを、２３−１，２３
−２，２３−３は除振台２２を支える能動的支持脚を示
す。１脚の能動的支持脚２３−ｎ（但し、ｎ＝１，２，
３）の中には、鉛直方向と水平方向の２軸を制御するた
めに必要な個数の加速度センサＡＣ、位置センサＰＯ、
圧力センサＰＲ、サーボバルブＳＶ、空気ばねアクチュ
エータＡＳが内蔵されている。ここで、ＡＣ，ＰＯなど
の次に付けた記号は図中の座標系に従う方位（Ｘ，Ｙ，
Ｚ）と能動的支持脚２３の配置場所（ｎ＝１，２，３）
を示す。例えば、Ｙ２とはＹ軸方向であって左側に配置
した能動的支持脚２３−２の中にあるものを指す。
【０００５】詳細な構造の説明は省くが、ＸＹステージ
２１のＹステージが図中に示すＹ軸方向にある距離移動
して停止した場合の現象を説明する。ＹステージのＹ軸
方向への移動は能動的支持脚２３−ｎにとっては除振台
全体の重心変化となり除振台２２の水平姿勢を維持する
ために必要な各能動的支持脚２３−ｎ内の鉛直方向アク
チュエータＡＣ−Ｚｎ（ｎ＝１，２，３）が発生すべき
推力は唯一に定まる。Ｙステージが移動して静止状態に
あるとき、十分な時間経過の後には、位置制御がかけら
れているので重心変化に見合う推力を能動的支持脚２３
−ｎが発生して除振台２２の傾きは復帰する。すなわ
ち、除振台２２の水準は保たれる。しかしながら、Ｙス
テージが連続的に、ステップアンドリピートあるいはス
テップアンドスキャンを行なった場合には事情が異な
る。連続的にＹステージが移動することによって重心位
置も連続的に変化するために、能動的支持脚２３−ｎの
予め設定した位置への復帰動作が間に合わず、徐々に除
振台２２は傾くことになるのである。Ｘステージがステ
ップアンドリピートあるいはステップアンドスキャンし
た場合も同様の理由により、Ｙ軸回りの回転（傾き）を
発生させることになる。このような除振台２２の傾き
は、不図示の計測装置の計測精度を劣化させたりステー
ジ自身の位置決め整定性を劣化させる要因となり、半導
体露光装置の生産性を損なう一因となっていた。そこ
で、ステージ移動による重心変化に原因した除振台の傾
きを矯正する技術が必要となっていた。
２１のＹステージが図中に示すＹ軸方向にある距離移動
して停止した場合の現象を説明する。ＹステージのＹ軸
方向への移動は能動的支持脚２３−ｎにとっては除振台
全体の重心変化となり除振台２２の水平姿勢を維持する
ために必要な各能動的支持脚２３−ｎ内の鉛直方向アク
チュエータＡＣ−Ｚｎ（ｎ＝１，２，３）が発生すべき
推力は唯一に定まる。Ｙステージが移動して静止状態に
あるとき、十分な時間経過の後には、位置制御がかけら
れているので重心変化に見合う推力を能動的支持脚２３
−ｎが発生して除振台２２の傾きは復帰する。すなわ
ち、除振台２２の水準は保たれる。しかしながら、Ｙス
テージが連続的に、ステップアンドリピートあるいはス
テップアンドスキャンを行なった場合には事情が異な
る。連続的にＹステージが移動することによって重心位
置も連続的に変化するために、能動的支持脚２３−ｎの
予め設定した位置への復帰動作が間に合わず、徐々に除
振台２２は傾くことになるのである。Ｘステージがステ
ップアンドリピートあるいはステップアンドスキャンし
た場合も同様の理由により、Ｙ軸回りの回転（傾き）を
発生させることになる。このような除振台２２の傾き
は、不図示の計測装置の計測精度を劣化させたりステー
ジ自身の位置決め整定性を劣化させる要因となり、半導
体露光装置の生産性を損なう一因となっていた。そこ
で、ステージ移動による重心変化に原因した除振台の傾
きを矯正する技術が必要となっていた。
【０００６】上述の課題を解決するための従来技術に係
る公知例として、特開平９−１３４８７６（除振装置お
よび露光装置）が知られている。ステージ移動時の重心
変化により生じる除振台の傾きをステージの位置検出手
段（レーザ干渉計）の出力に基づいて予測し、この傾き
を矯正するような指令値を除振装置の振動制御系にフィ
ードフォワード入力している。アクチュエータはボイス
コイルモータ（ＶＣＭ）であり、ステージ移動によって
生じる除振台の傾きを矯正する定常的な電流を通電して
いる。容易にわかるように、定常的な電流の通電によっ
てもたらされる弊害は以下の通りである。 （１）ＶＣＭ駆動電源の大型化を招く。 （２）ＶＣＭおよびそれを駆動する電力アンプが発熱す
る。 （３）ＶＣＭおよび電力アンプの発熱回収用の冷却装置
を備えねばならない。 （４）半導体露光装置全体に対する湿度調節装置の大型
化を招来する。
る公知例として、特開平９−１３４８７６（除振装置お
よび露光装置）が知られている。ステージ移動時の重心
変化により生じる除振台の傾きをステージの位置検出手
段（レーザ干渉計）の出力に基づいて予測し、この傾き
を矯正するような指令値を除振装置の振動制御系にフィ
ードフォワード入力している。アクチュエータはボイス
コイルモータ（ＶＣＭ）であり、ステージ移動によって
生じる除振台の傾きを矯正する定常的な電流を通電して
いる。容易にわかるように、定常的な電流の通電によっ
てもたらされる弊害は以下の通りである。 （１）ＶＣＭ駆動電源の大型化を招く。 （２）ＶＣＭおよびそれを駆動する電力アンプが発熱す
る。 （３）ＶＣＭおよび電力アンプの発熱回収用の冷却装置
を備えねばならない。 （４）半導体露光装置全体に対する湿度調節装置の大型
化を招来する。
【０００７】したがって、半導体露光装置のような大型
構造体に対する除振・制振用のＶＣＭには直流電流を通
電しないことが望ましい。勿論、電磁力を利用して大型
構造物を非接触支持する除振台は存在する。例えば、特
許番号第２５２２７３６号（除振装置）に開示されてい
る。しかし、ここで使用されているアクチュエータは磁
気軸受としての電磁石である。元々定常的に力を発生す
る用途のアクチュエータであり、先に説明したＶＣＭの
使用形態と同列に論じることはできない。ＶＣＭは機械
構造物の振動を制振するダンピング用のアクチュエータ
となすような電流の通電の仕方が本来の使用形態であ
る。力が必要な仕事は、サーボバルブ開閉によって大重
量を支持できる空気ばねアクチュエータに任せるべきで
ある。すなわち、ステージ移動に伴う荷重偏在によって
生じる除振台の傾きは、空気ばねアクチュエータによっ
て矯正されることが望ましい。しかし、移動荷重補正を
実現せんとしたときの技術上の課題は存在する。それ
は、サーボバルブを含めた空気ばねアクチュエータ特性
が概ね積分特性であることに原因する。
構造体に対する除振・制振用のＶＣＭには直流電流を通
電しないことが望ましい。勿論、電磁力を利用して大型
構造物を非接触支持する除振台は存在する。例えば、特
許番号第２５２２７３６号（除振装置）に開示されてい
る。しかし、ここで使用されているアクチュエータは磁
気軸受としての電磁石である。元々定常的に力を発生す
る用途のアクチュエータであり、先に説明したＶＣＭの
使用形態と同列に論じることはできない。ＶＣＭは機械
構造物の振動を制振するダンピング用のアクチュエータ
となすような電流の通電の仕方が本来の使用形態であ
る。力が必要な仕事は、サーボバルブ開閉によって大重
量を支持できる空気ばねアクチュエータに任せるべきで
ある。すなわち、ステージ移動に伴う荷重偏在によって
生じる除振台の傾きは、空気ばねアクチュエータによっ
て矯正されることが望ましい。しかし、移動荷重補正を
実現せんとしたときの技術上の課題は存在する。それ
は、サーボバルブを含めた空気ばねアクチュエータ特性
が概ね積分特性であることに原因する。
【０００８】より詳細な理解を得るべく図面を使って説
明しよう。図２は無定位系へのフィードフォワード入力
を示すブロック線図である。ここで、無定位系とは、サ
ーボバルブを含めた空気ばねアクチュエータが示す積分
特性１５のことを指す。図２において、フィードフォワ
ード入力端子１４には図示のようにステージ位置に応じ
た補正信号が入力されており、この信号を適切なゲイン
ｋp を掛けてフィードフォワード入力すれば、１６で指
し示す除振台の機械系を、すなわち除振台の傾きを矯正
することができそうに考えられる。しかし、サーボバル
ブを含めた空気ばねアクチュエータは概ね積分特性であ
り、ステージ位置に応じて線形に変化する補正信号をフ
ィードフォワード入力して得られる実際の駆動力ｆは、
補正信号の入力を積分したものとなることに注意せねば
ならない。すなわち、ステージ移動に比例した除振台の
傾きを抑制する力は発生できないことが分かる。つまり
図２に示すような移動荷重補正の構成では除振台の傾き
は矯正できないと結論される。
明しよう。図２は無定位系へのフィードフォワード入力
を示すブロック線図である。ここで、無定位系とは、サ
ーボバルブを含めた空気ばねアクチュエータが示す積分
特性１５のことを指す。図２において、フィードフォワ
ード入力端子１４には図示のようにステージ位置に応じ
た補正信号が入力されており、この信号を適切なゲイン
ｋp を掛けてフィードフォワード入力すれば、１６で指
し示す除振台の機械系を、すなわち除振台の傾きを矯正
することができそうに考えられる。しかし、サーボバル
ブを含めた空気ばねアクチュエータは概ね積分特性であ
り、ステージ位置に応じて線形に変化する補正信号をフ
ィードフォワード入力して得られる実際の駆動力ｆは、
補正信号の入力を積分したものとなることに注意せねば
ならない。すなわち、ステージ移動に比例した除振台の
傾きを抑制する力は発生できないことが分かる。つまり
図２に示すような移動荷重補正の構成では除振台の傾き
は矯正できないと結論される。
【０００９】そこで、ステージの移動位置に応じた力を
発生させるべくサーボバルブを含めた空気ばねアクチュ
エータの特性を無定位系から定位系にする。定位系と
は、図３に示すような例えば１次遅れ系の特性１７のこ
とを指す。この特性にすることができれば、ステージ位
置に応じて線形に変化する補正信号をフィードフォワー
ド入力端子１４に印加したとき、ステージ位置に応じた
駆動力ｆが得られる。ここで、１次遅れの特性は、概略
積分特性のサーボバルブに対して圧力フィードバックを
掛けることによって実現される。圧力フィードバックの
構成については、既に本願出願人による特願平９−６８
９９５に開示している。しかし、ここでは本体構造体の
変形抑止が目的であった。すなわち空気ばねアクチュエ
ータの圧力を制御の管理下におくことによって、露光装
置本体１３を歪ませないようにすることを主目的として
いた。また、ここでは、ステージの加減運転に原因した
瞬発的な揺れを抑制するための、いわゆるステージ反力
フィードフォワードを水平方向の空気ばねアクチュエー
タに入力する構成も開示している。本発明は、このよう
な瞬発的に掛かる力を抑制する制御装置を開示するもの
ではなく、ステージ移動に伴って生じる除振台の傾きと
いう相対的には低周波の変動を抑制するためのフィード
フォワード入力を主に鉛直方向の空気ばねアクチュエー
タに入力する装置構成を与える。すなわち、本発明は、
特願平９−６８９９５の中で既知とした圧力フィードバ
ックを有益に使い、かつステージの移動位置情報に基づ
いて除振台の傾きを補正する装置構成を与えるものであ
る。
発生させるべくサーボバルブを含めた空気ばねアクチュ
エータの特性を無定位系から定位系にする。定位系と
は、図３に示すような例えば１次遅れ系の特性１７のこ
とを指す。この特性にすることができれば、ステージ位
置に応じて線形に変化する補正信号をフィードフォワー
ド入力端子１４に印加したとき、ステージ位置に応じた
駆動力ｆが得られる。ここで、１次遅れの特性は、概略
積分特性のサーボバルブに対して圧力フィードバックを
掛けることによって実現される。圧力フィードバックの
構成については、既に本願出願人による特願平９−６８
９９５に開示している。しかし、ここでは本体構造体の
変形抑止が目的であった。すなわち空気ばねアクチュエ
ータの圧力を制御の管理下におくことによって、露光装
置本体１３を歪ませないようにすることを主目的として
いた。また、ここでは、ステージの加減運転に原因した
瞬発的な揺れを抑制するための、いわゆるステージ反力
フィードフォワードを水平方向の空気ばねアクチュエー
タに入力する構成も開示している。本発明は、このよう
な瞬発的に掛かる力を抑制する制御装置を開示するもの
ではなく、ステージ移動に伴って生じる除振台の傾きと
いう相対的には低周波の変動を抑制するためのフィード
フォワード入力を主に鉛直方向の空気ばねアクチュエー
タに入力する装置構成を与える。すなわち、本発明は、
特願平９−６８９９５の中で既知とした圧力フィードバ
ックを有益に使い、かつステージの移動位置情報に基づ
いて除振台の傾きを補正する装置構成を与えるものであ
る。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】半導体露光装置では、
過大な加減速を行なうＸＹステージがアクティブな除振
台の上に搭載されているという構成をとっている。した
がって、同ステージの移動に伴って本体構造体の重心も
移動することになる。この本体構造体がアクティブ除振
装置によって支持されているとき、位置制御によって除
振台を所定の位置へと復帰させるよう動作する。しか
し、ＸＹステージの移動量が大きく、移動時間が短く、
かつ頻繁な移動が繰り返される場合には、除振台の所定
位置への復帰が間に合わなくなり、除振台はＸＹステー
ジの高速移動によって傾く。除振台の傾きは、ＸＹステ
ージの位置決め特性を移動場所ごとにばらつかせる要因
となるなど生産性を劣化させる問題を引き起こす。
過大な加減速を行なうＸＹステージがアクティブな除振
台の上に搭載されているという構成をとっている。した
がって、同ステージの移動に伴って本体構造体の重心も
移動することになる。この本体構造体がアクティブ除振
装置によって支持されているとき、位置制御によって除
振台を所定の位置へと復帰させるよう動作する。しか
し、ＸＹステージの移動量が大きく、移動時間が短く、
かつ頻繁な移動が繰り返される場合には、除振台の所定
位置への復帰が間に合わなくなり、除振台はＸＹステー
ジの高速移動によって傾く。除振台の傾きは、ＸＹステ
ージの位置決め特性を移動場所ごとにばらつかせる要因
となるなど生産性を劣化させる問題を引き起こす。
【００１１】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものである。その目的は、ＸＹステージの高速移動
に伴う重心変化の影響を排除したアクティブ除振装置を
提供すること、およびこのアクティブ除振装置を組み込
んだ露光装置を提供することにある。
れたものである。その目的は、ＸＹステージの高速移動
に伴う重心変化の影響を排除したアクティブ除振装置を
提供すること、およびこのアクティブ除振装置を組み込
んだ露光装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のアクティブ除振装置は、空気ばねアクチュ
エータと、振動計測手段と、位置計測手段と、空気ばね
アクチュエータの加圧力を計測する加圧力計測手段とを
備えた能動的支持脚を複数台使用して除振台を支持して
なるアクティブ除振装置であって、振動計測手段の出力
に基づく加速度フィードバックループと、位置計測手段
の出力に基づく位置フィードバックループと、加圧力計
測手段の出力に基づく加圧力フィードバックループとを
有する制御装置を備え、除振台の上のステージが移動し
て重心が変化することによって発生する除振台の傾きを
前記ステージに対する位置検出手段の計測値に基づいて
算出し、除振台の傾きを矯正する補正信号を加圧力フィ
ードバックループにフィードフォワード入力している。
ここで、位置フィードバックループは、指定された平衡
位置に除振台を位置決めするためのものであり、加速度
フィードバックループは除振台にダンピングを付与する
ためのものであり、加圧力フィードバックループは空気
ばねアクチュエータの加圧力を制御するためのものであ
る。
め、本発明のアクティブ除振装置は、空気ばねアクチュ
エータと、振動計測手段と、位置計測手段と、空気ばね
アクチュエータの加圧力を計測する加圧力計測手段とを
備えた能動的支持脚を複数台使用して除振台を支持して
なるアクティブ除振装置であって、振動計測手段の出力
に基づく加速度フィードバックループと、位置計測手段
の出力に基づく位置フィードバックループと、加圧力計
測手段の出力に基づく加圧力フィードバックループとを
有する制御装置を備え、除振台の上のステージが移動し
て重心が変化することによって発生する除振台の傾きを
前記ステージに対する位置検出手段の計測値に基づいて
算出し、除振台の傾きを矯正する補正信号を加圧力フィ
ードバックループにフィードフォワード入力している。
ここで、位置フィードバックループは、指定された平衡
位置に除振台を位置決めするためのものであり、加速度
フィードバックループは除振台にダンピングを付与する
ためのものであり、加圧力フィードバックループは空気
ばねアクチュエータの加圧力を制御するためのものであ
る。
【００１３】本発明において、加圧力計測手段として
は、空気ばねアクチュエータの内圧を測定する圧力セン
サが好適に使用できる。あるいは、空気ばねアクチュエ
ータが発生する荷重を検出するロードセンサも好適に使
用できる。また、上述の加圧力フィードバックループの
周波数帯域で決まる固有周期は、ステージのステップア
ンドリピートあるいはステップアンドスキャンの周期に
比較して短く設定するのが好ましい。さらに、ステージ
に対する位置検出手段とはこの位置決めに用いられるレ
ーザ干渉計、ステージを駆動するリニアモータのコイル
の相切り替えのためのエンコーダ、もしくは特別に設け
た位置センサを好適に使用できる。
は、空気ばねアクチュエータの内圧を測定する圧力セン
サが好適に使用できる。あるいは、空気ばねアクチュエ
ータが発生する荷重を検出するロードセンサも好適に使
用できる。また、上述の加圧力フィードバックループの
周波数帯域で決まる固有周期は、ステージのステップア
ンドリピートあるいはステップアンドスキャンの周期に
比較して短く設定するのが好ましい。さらに、ステージ
に対する位置検出手段とはこの位置決めに用いられるレ
ーザ干渉計、ステージを駆動するリニアモータのコイル
の相切り替えのためのエンコーダ、もしくは特別に設け
た位置センサを好適に使用できる。
【００１４】上述したアクティブ除振装置は、例えばレ
チクルに形成された回路パターンを投影光学系を介して
ＸＹステージ上の半導体ウエハに転写する露光製置に備
えられる。
チクルに形成された回路パターンを投影光学系を介して
ＸＹステージ上の半導体ウエハに転写する露光製置に備
えられる。
【００１５】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。図１に本発明に本発明の一実施例に係るアクティブ
除振装置を示す。同図において、ＰＯ−Ζ１，ＰＯ−Ｚ
２，ＰＯ−Ζ３，ＰＯ−Ｘ１，ＰＯ−Ｙ２，ＰＯ−Ｙ３
は位置計測手段であり、その出力は位置目標値出力部１
の出力（ｚ10，ｚ20，ｚ30，ｘ10，ｙ20，ｙ30）と比較
されて、各軸の位置偏差信号（ｅz1，ｅz2，ｅz3，
ｅx1，ｅy2，ｅy3）となる。これらの偏差信号は、除振
台２２の並進運動と各軸回りの回転運動の合計６自由度
の運動モード位置偏差信号（ｅx ，ｅy ，ｅz ，ｅθ
x ，ｅθy ，ｅθz ）を演算出力する位置信号に関する
運動モード抽出演算手段２に導かれる。これらの出力信
号は、運動モードごとにほぼ非干渉で位置の特性を調整
する位置に関するゲイン補償器３に導かれる。このルー
プを位置フィードバックループと称する。
る。図１に本発明に本発明の一実施例に係るアクティブ
除振装置を示す。同図において、ＰＯ−Ζ１，ＰＯ−Ｚ
２，ＰＯ−Ζ３，ＰＯ−Ｘ１，ＰＯ−Ｙ２，ＰＯ−Ｙ３
は位置計測手段であり、その出力は位置目標値出力部１
の出力（ｚ10，ｚ20，ｚ30，ｘ10，ｙ20，ｙ30）と比較
されて、各軸の位置偏差信号（ｅz1，ｅz2，ｅz3，
ｅx1，ｅy2，ｅy3）となる。これらの偏差信号は、除振
台２２の並進運動と各軸回りの回転運動の合計６自由度
の運動モード位置偏差信号（ｅx ，ｅy ，ｅz ，ｅθ
x ，ｅθy ，ｅθz ）を演算出力する位置信号に関する
運動モード抽出演算手段２に導かれる。これらの出力信
号は、運動モードごとにほぼ非干渉で位置の特性を調整
する位置に関するゲイン補償器３に導かれる。このルー
プを位置フィードバックループと称する。
【００１６】振動計測手段の代表である加速度センサＡ
Ｃ−Ｚ１，ＡＣ−Ｚ２，ＡＣ−Ｚ３，ＡＣ−Ｘ１，ＡＣ
−Ｙ２，ＡＣ−Ｙ３の出力は高周波ノイズを除去する等
の適切なフィルタリング処理が施されて、即座に加速度
に関する運動モード抽出演算手段４への入力となる。そ
の出力は運動モード加速度信号（ａx ，ａy ，ａz ，ａ
θx ，ａθy ，ａθz ）である。運動モードごとに最適
なダンピングを設定するべく、運動モード加速度信号
（ａx ，ａy ，ａz ，ａθx ，ａθy ，ａθz ）は次段
の加速度信号に関するゲイン補償器５に導かれている。
このゲインを調整することによって運動モードごとに最
適なダンピング特性が得られる。このループを加速度フ
ィードバックループと称する。
Ｃ−Ｚ１，ＡＣ−Ｚ２，ＡＣ−Ｚ３，ＡＣ−Ｘ１，ＡＣ
−Ｙ２，ＡＣ−Ｙ３の出力は高周波ノイズを除去する等
の適切なフィルタリング処理が施されて、即座に加速度
に関する運動モード抽出演算手段４への入力となる。そ
の出力は運動モード加速度信号（ａx ，ａy ，ａz ，ａ
θx ，ａθy ，ａθz ）である。運動モードごとに最適
なダンピングを設定するべく、運動モード加速度信号
（ａx ，ａy ，ａz ，ａθx ，ａθy ，ａθz ）は次段
の加速度信号に関するゲイン補償器５に導かれている。
このゲインを調整することによって運動モードごとに最
適なダンピング特性が得られる。このループを加速度フ
ィードバックループと称する。
【００１７】位置に関するゲイン補償器３の出力と、加
速度に関するゲイン補償器５の出力である負帰還信号は
加算されて運動モード別のＰＩ補償器６に導かれる。こ
こで、Ｐは比例動作を、Ｉは積分動作を意味する。この
部位にＰＩ捕償器を設けた理由については、特願平９−
６８９９５に詳しく述べている。数式を用いた詳細な説
明は割愛して簡単に述べると以下の通りである。
速度に関するゲイン補償器５の出力である負帰還信号は
加算されて運動モード別のＰＩ補償器６に導かれる。こ
こで、Ｐは比例動作を、Ｉは積分動作を意味する。この
部位にＰＩ捕償器を設けた理由については、特願平９−
６８９９５に詳しく述べている。数式を用いた詳細な説
明は割愛して簡単に述べると以下の通りである。
【００１８】まず、圧力フィードバック無しの場合であ
って、加速度を検出してそれに適切なゲインを掛けたも
のをサーボバルブを駆動する電圧電流変換器の前段にフ
ィードバックすると、その操作量はダンピングとして作
用する。サーボバルブを含めた空気ばねアクチュエータ
の特性が概ね積分特性であるため、加速度信号が積分さ
れて速度としての効果を持つためである。ところが、圧
力フィードバックを施したときには、積分特性は消滅し
て１次遅れ系となる。したがって、このような１次遅れ
系に対して加速度フィードバックを施してもダンピング
として効果は持たない。そこで、加速度のゲインフィー
ドバックをダンピングとして作用させるために積分特性
を復活させる。この役割を持つ補償器がＰＩ補償器６と
なっている。ＰＩ補償器６は補償器として作りだされた
完全な積分特性を持つので、先に説明した位置フィード
バックループに積分器を含まなくても定常位置偏差零で
位置決めできる。故に、このループにおける補償器はゲ
イン補償器３になっている。
って、加速度を検出してそれに適切なゲインを掛けたも
のをサーボバルブを駆動する電圧電流変換器の前段にフ
ィードバックすると、その操作量はダンピングとして作
用する。サーボバルブを含めた空気ばねアクチュエータ
の特性が概ね積分特性であるため、加速度信号が積分さ
れて速度としての効果を持つためである。ところが、圧
力フィードバックを施したときには、積分特性は消滅し
て１次遅れ系となる。したがって、このような１次遅れ
系に対して加速度フィードバックを施してもダンピング
として効果は持たない。そこで、加速度のゲインフィー
ドバックをダンピングとして作用させるために積分特性
を復活させる。この役割を持つ補償器がＰＩ補償器６と
なっている。ＰＩ補償器６は補償器として作りだされた
完全な積分特性を持つので、先に説明した位置フィード
バックループに積分器を含まなくても定常位置偏差零で
位置決めできる。故に、このループにおける補償器はゲ
イン補償器３になっている。
【００１９】さて、ＰＩ補償器６の出力である運動モー
ド駆動信号（ｄx ，ｄy ，ｄz ，ｄθx ，ｄθy ，ｄθ
z ）は運動モード分配演算手段７への入力となり、その
出力は各軸の空気ばねアクチュエータが発生すべき駆動
信号（ｄz1，ｄz2，ｄz3，ｄx1，ｄy2，ｄy3）となる。
ここで、駆動信号（ｄz1，ｄz2，ｄz3，ｄx1，ｄy2，ｄ
y3）によって駆動される系は、特願平９−６８９９５で
開示した各軸ごと独立な圧力フィードバックループが構
成されている。すなわち、空気ばねアクチュエータの内
圧を計測するための圧力センサに代表される圧力計測手
段ＰＲ−Ｚ１，ＰＲ−Ｚ２，ＰＲ−Ｚ３，ＰＲ−Ｘ１，
ＰＲ−Ｙ２，ＰＲ−Ｙ３の出力は圧力検出手段８によっ
て電気信号となして負帰還されており、圧力目標値出力
部９の信号と先に記述した各軸の駆動信号（ｄz1，
ｄz2，ｄz3，ｄx1，ｄy2，ｄy3）とを加算して圧力に関
するＰＩ補償器１０に導かれている。このＰＩ補償器１
０の出力は、各軸のサーボバルブＳＶ−Ｚ１，ＳＶ−Ζ
２，ＳＶ−Ｚ３，ＳＶ−Ｘ１，ＳＶ−Ｙ２，ＳＶ−Ｙ３
に電流を通して弁の開閉を行なわせるための電圧電流変
換器（図面中、ＶＩ変換と略記）１１を駆動している。
ここで、圧力目標値出力部９は、各軸の空気ばねアクチ
ュエータが発生すべき平衡状態の圧力値を指定するもの
である。このようなループを圧力フィードバックループ
と称する。なお、圧力フィードバックループでは、空気
ばねアクチュエータの内圧を圧力センサに代表される圧
力計測手段ＰＲによって検出してこれをフィードバック
しているが、空気ばねアクチュエータが発生する荷重を
ロードセンサに代表される荷重計測手段によって検出し
てこの出力を負帰還してなる荷重フィードバックを構成
したときにも上述の圧力フィードバックループと同様の
機能が実現できる。そこで、圧力計測手段と荷重計測手
段とを併せて加圧力計測手段と呼び、圧力フィードバッ
クループと荷重フィードバックループとを併せて加圧力
フィードバックループと呼ぶことにする。本明細書で
は、加圧力フィードバックループの中の圧力フィードバ
ックループを使って技術内容を説明している。
ド駆動信号（ｄx ，ｄy ，ｄz ，ｄθx ，ｄθy ，ｄθ
z ）は運動モード分配演算手段７への入力となり、その
出力は各軸の空気ばねアクチュエータが発生すべき駆動
信号（ｄz1，ｄz2，ｄz3，ｄx1，ｄy2，ｄy3）となる。
ここで、駆動信号（ｄz1，ｄz2，ｄz3，ｄx1，ｄy2，ｄ
y3）によって駆動される系は、特願平９−６８９９５で
開示した各軸ごと独立な圧力フィードバックループが構
成されている。すなわち、空気ばねアクチュエータの内
圧を計測するための圧力センサに代表される圧力計測手
段ＰＲ−Ｚ１，ＰＲ−Ｚ２，ＰＲ−Ｚ３，ＰＲ−Ｘ１，
ＰＲ−Ｙ２，ＰＲ−Ｙ３の出力は圧力検出手段８によっ
て電気信号となして負帰還されており、圧力目標値出力
部９の信号と先に記述した各軸の駆動信号（ｄz1，
ｄz2，ｄz3，ｄx1，ｄy2，ｄy3）とを加算して圧力に関
するＰＩ補償器１０に導かれている。このＰＩ補償器１
０の出力は、各軸のサーボバルブＳＶ−Ｚ１，ＳＶ−Ζ
２，ＳＶ−Ｚ３，ＳＶ−Ｘ１，ＳＶ−Ｙ２，ＳＶ−Ｙ３
に電流を通して弁の開閉を行なわせるための電圧電流変
換器（図面中、ＶＩ変換と略記）１１を駆動している。
ここで、圧力目標値出力部９は、各軸の空気ばねアクチ
ュエータが発生すべき平衡状態の圧力値を指定するもの
である。このようなループを圧力フィードバックループ
と称する。なお、圧力フィードバックループでは、空気
ばねアクチュエータの内圧を圧力センサに代表される圧
力計測手段ＰＲによって検出してこれをフィードバック
しているが、空気ばねアクチュエータが発生する荷重を
ロードセンサに代表される荷重計測手段によって検出し
てこの出力を負帰還してなる荷重フィードバックを構成
したときにも上述の圧力フィードバックループと同様の
機能が実現できる。そこで、圧力計測手段と荷重計測手
段とを併せて加圧力計測手段と呼び、圧力フィードバッ
クループと荷重フィードバックループとを併せて加圧力
フィードバックループと呼ぶことにする。本明細書で
は、加圧力フィードバックループの中の圧力フィードバ
ックループを使って技術内容を説明している。
【００２０】次に、ＸＹステージの移動に原因した除振
台２２の傾きを抑制する装置構成について説明する。ま
ず、ＬＡ−ＸとＬＡ−ＹはＸＹステージ２１を位置決め
する位置検出手段としてのレーザ干渉計であり、図７に
示したアクティブ除振装置を一構成ユニットとして備え
る露光装置本体１３に取付けられている。ＸＹステージ
がＸ軸方向に移動したとき、除振台にはＹ軸回りの回転
（傾き）が、Ｙ軸方向に移動したときにはＸ軸回りの回
転（傾き）がそれぞれ発生する。Ｘ，Ｙ軸方向への移動
量と傾き量は比例関係にあり、したがってＸＹステージ
の移動によって生じる除振台の傾きは、ＸＹステージの
移動量に比例した駆動力を発生させることによって抑制
できる。つまり、ＸＹステージの移動量に比例した駆動
力を鉛直方向支持の空気ばねアクチュエータに線形的に
発生させることができれば、除振台の傾きは抑制でき
る。この事情を踏まえて、Ｙ軸のレーザ干渉計ＬＡ−Ｙ
の出力信号は補正信号発生部１２に入力されておりＹ軸
への移動距離に比例した補正信号を発生する。その出力
はＸ軸回りの回転駆動信号を生成するｄθx の箇所に加
算している。同様に、Ｘ軸のレーザ干渉計ＬＡ−Ｘの出
力は補正信号発生部１２に導かれて、ここでＸ軸への移
動量に比例した補正電圧が発生する。その出力電圧はＹ
軸回りの回転駆動信号を生成するｄθy の箇所に加算し
ている。この加算信号に線形的に応動した力を空気ばね
アクチュエータに発生させるためには、既に述べたよう
に電圧電流変換器１１ヘの入力をｖi ［Ｖ］として発生
する駆動力ｆ［Ｎ］までの特性が問題になってくる。こ
こで、圧力フィードバックが無い場合の特性は、図２の
無定位系１５と同じであり、（１）式とおける。ここ
で、ｓはラプラス演算子でありＢ［Ｎ／Ｖｓｅｃ］は圧
力時定数ゲインである。
台２２の傾きを抑制する装置構成について説明する。ま
ず、ＬＡ−ＸとＬＡ−ＹはＸＹステージ２１を位置決め
する位置検出手段としてのレーザ干渉計であり、図７に
示したアクティブ除振装置を一構成ユニットとして備え
る露光装置本体１３に取付けられている。ＸＹステージ
がＸ軸方向に移動したとき、除振台にはＹ軸回りの回転
（傾き）が、Ｙ軸方向に移動したときにはＸ軸回りの回
転（傾き）がそれぞれ発生する。Ｘ，Ｙ軸方向への移動
量と傾き量は比例関係にあり、したがってＸＹステージ
の移動によって生じる除振台の傾きは、ＸＹステージの
移動量に比例した駆動力を発生させることによって抑制
できる。つまり、ＸＹステージの移動量に比例した駆動
力を鉛直方向支持の空気ばねアクチュエータに線形的に
発生させることができれば、除振台の傾きは抑制でき
る。この事情を踏まえて、Ｙ軸のレーザ干渉計ＬＡ−Ｙ
の出力信号は補正信号発生部１２に入力されておりＹ軸
への移動距離に比例した補正信号を発生する。その出力
はＸ軸回りの回転駆動信号を生成するｄθx の箇所に加
算している。同様に、Ｘ軸のレーザ干渉計ＬＡ−Ｘの出
力は補正信号発生部１２に導かれて、ここでＸ軸への移
動量に比例した補正電圧が発生する。その出力電圧はＹ
軸回りの回転駆動信号を生成するｄθy の箇所に加算し
ている。この加算信号に線形的に応動した力を空気ばね
アクチュエータに発生させるためには、既に述べたよう
に電圧電流変換器１１ヘの入力をｖi ［Ｖ］として発生
する駆動力ｆ［Ｎ］までの特性が問題になってくる。こ
こで、圧力フィードバックが無い場合の特性は、図２の
無定位系１５と同じであり、（１）式とおける。ここ
で、ｓはラプラス演算子でありＢ［Ｎ／Ｖｓｅｃ］は圧
力時定数ゲインである。
【００２１】
【数１】 一方、圧力フィードバックが有る場合、図１を参照して
圧力計測手段ＰＲの信号を圧力検出手段８によって電気
信号に変換し、電圧電流変換器１１に前置するＰＩ補償
器１０の前段にその電気信号をフィードバックした系へ
の新しい入力ｗi ［Ｖ］から駆動力ｆまでの特性は、適
切にＰＩ補償器１０のパラメータを設定したとき（２）
式および図３の定位系１７の如く１次遅れ系と表現する
ことができる。ここで、Ｂv ［Ｎ／Ｖ］は圧力ゲイン
を、Ｔ［ｓｅｃ］は時定数を意味する。
圧力計測手段ＰＲの信号を圧力検出手段８によって電気
信号に変換し、電圧電流変換器１１に前置するＰＩ補償
器１０の前段にその電気信号をフィードバックした系へ
の新しい入力ｗi ［Ｖ］から駆動力ｆまでの特性は、適
切にＰＩ補償器１０のパラメータを設定したとき（２）
式および図３の定位系１７の如く１次遅れ系と表現する
ことができる。ここで、Ｂv ［Ｎ／Ｖ］は圧力ゲイン
を、Ｔ［ｓｅｃ］は時定数を意味する。
【００２２】
【数２】 ｗi ＝ｗi0／ｓとしてステップ状の信号を印加したとき
の最終値ｆ∞は次式のようになる。
の最終値ｆ∞は次式のようになる。
【００２３】
【数３】 ー方、圧力フィードバックを持たない無定位系の（１）
式の場合、ステップ状の信号入力に対して駆動力ｆは発
散してしまうことは容易に確認できる（実際には、完全
な積分器ではなく、極く低周波で折点を有するローパス
フィルタ特性であるため駆動力ｆは十分な時間経過を経
て定常値に落ち着く）。つまり圧力フィードバックが無
い無定位系では、ＸＹステージの移動場所に応じた補正
信号をサーボバルブを駆動する電圧電流変換器１１の前
段に印加しても、捕正すべき力ｆを発生させることはで
きないのである。
式の場合、ステップ状の信号入力に対して駆動力ｆは発
散してしまうことは容易に確認できる（実際には、完全
な積分器ではなく、極く低周波で折点を有するローパス
フィルタ特性であるため駆動力ｆは十分な時間経過を経
て定常値に落ち着く）。つまり圧力フィードバックが無
い無定位系では、ＸＹステージの移動場所に応じた補正
信号をサーボバルブを駆動する電圧電流変換器１１の前
段に印加しても、捕正すべき力ｆを発生させることはで
きないのである。
【００２４】さて、以上の説明では、ある時間の間ＸＹ
ステージが移動した場所に留まっているときであって、
補正信号を空気ばねアクチュエータに印加した場面を想
定した定式化であった。しかし、半導体露光装置（ステ
ッパ）に搭載のＸＹステージはステップアンドリピート
と言われる間欠運転を行なう。走査型露光装置の場合に
は、ステップアンドスキャンと言われる動作を行なう。
図４に、ステップアンドリピートあるいはステップアン
ドスキャンの一例を示そう。図中、１８は半導体ウエハ
を、１９は露光されるショット領域を、２０は移動方向
を示す。このような移動を行なったとき、図中記載の座
標系を使って説明すると、ｘ軸回りの回転θx を除振台
に発生させて傾斜させてしまうが、ｙ軸方向の移動距離
であり且つθx を矯正する補正信号でもある波形は図５
のようになる。つまり補正信号は時間変化に対して勾配
を持つおおむねランプ状の波形になる。
ステージが移動した場所に留まっているときであって、
補正信号を空気ばねアクチュエータに印加した場面を想
定した定式化であった。しかし、半導体露光装置（ステ
ッパ）に搭載のＸＹステージはステップアンドリピート
と言われる間欠運転を行なう。走査型露光装置の場合に
は、ステップアンドスキャンと言われる動作を行なう。
図４に、ステップアンドリピートあるいはステップアン
ドスキャンの一例を示そう。図中、１８は半導体ウエハ
を、１９は露光されるショット領域を、２０は移動方向
を示す。このような移動を行なったとき、図中記載の座
標系を使って説明すると、ｘ軸回りの回転θx を除振台
に発生させて傾斜させてしまうが、ｙ軸方向の移動距離
であり且つθx を矯正する補正信号でもある波形は図５
のようになる。つまり補正信号は時間変化に対して勾配
を持つおおむねランプ状の波形になる。
【００２５】図６は、ランプ状の波形が折り返す三角波
の補正信号Ａを（２）式に示す時定数Ｔが異なる圧力フ
ィードバック系に入力したときに発生する駆動力ｆを示
す。Ｂで指し示す駆動力ｆを得たときの圧力フィードバ
ック系の時定数ＴはＣの場合におけるそれに比較して小
さい。すなわち、補正信号Ａの周期に比較して短い時定
数Ｔを持つ圧力フィードバック系を構築しておくことに
よって、補正信号Ａにある程度追従する駆動力ｆが得ら
れる。上記説明より、圧力フィードバック系の周波数帯
域で決まる固有周期は、ステージのステップアンドリピ
ートあるいはステップアンドスキャンの周期に比較して
短いことが除振台の傾きを確実に矯正するための条件と
なる。しかし、ＡとＢを比較して明らかなように時定数
Ｔが小さい場合でも偏差ｅは残る。この理由は、圧力フ
ィードバック系が１形のためである。周知のように、１
形の系へのランプ状入力に対しては偏差が残る。つま
り、原理的にｅのような追従誤差は残るのである。しか
し、ランプ状の補正信号をなぞる駆動力ｆを発生させれ
ば、結果として補正信号を印加しない場合に比較して除
振台の傾きは大幅に矯正できる。すなわち、ランプ入力
に対して１形の圧力フィードバック系に追従誤差が残る
ことは制御理論的にみた場合には当然の結果であり追従
性能を指標にした場合には問題視せねばならない。しか
し、除振台の傾きを矯正する目的でみた場合、補正信号
の波形のなぞる駆動力ｆが発生すればそれで十分であ
る。つまり補正信号を印加しない場合と比較すれば、除
振台の傾きは大幅に矯正できるのである。
の補正信号Ａを（２）式に示す時定数Ｔが異なる圧力フ
ィードバック系に入力したときに発生する駆動力ｆを示
す。Ｂで指し示す駆動力ｆを得たときの圧力フィードバ
ック系の時定数ＴはＣの場合におけるそれに比較して小
さい。すなわち、補正信号Ａの周期に比較して短い時定
数Ｔを持つ圧力フィードバック系を構築しておくことに
よって、補正信号Ａにある程度追従する駆動力ｆが得ら
れる。上記説明より、圧力フィードバック系の周波数帯
域で決まる固有周期は、ステージのステップアンドリピ
ートあるいはステップアンドスキャンの周期に比較して
短いことが除振台の傾きを確実に矯正するための条件と
なる。しかし、ＡとＢを比較して明らかなように時定数
Ｔが小さい場合でも偏差ｅは残る。この理由は、圧力フ
ィードバック系が１形のためである。周知のように、１
形の系へのランプ状入力に対しては偏差が残る。つま
り、原理的にｅのような追従誤差は残るのである。しか
し、ランプ状の補正信号をなぞる駆動力ｆを発生させれ
ば、結果として補正信号を印加しない場合に比較して除
振台の傾きは大幅に矯正できる。すなわち、ランプ入力
に対して１形の圧力フィードバック系に追従誤差が残る
ことは制御理論的にみた場合には当然の結果であり追従
性能を指標にした場合には問題視せねばならない。しか
し、除振台の傾きを矯正する目的でみた場合、補正信号
の波形のなぞる駆動力ｆが発生すればそれで十分であ
る。つまり補正信号を印加しない場合と比較すれば、除
振台の傾きは大幅に矯正できるのである。
【００２６】なお、補正信号に対する完全な追従を得る
には、図６を参照して残存する追従誤差ｅを無くすため
にＶＣＭを働かせることができる。このとき、図７には
不図示であるが空気ばねアクチュエータと共にＶＣＭを
も適切に配置してなるハイブリッドのアクティブ除振装
置であることが必要となる。この構成のとき、ほとんど
の移動荷重を空気ばねアクチュエータの力でまかない、
１形の圧力フィードバック系に原因して発生する補正し
きれない移動荷重分についてはＶＣＭが補助するのであ
る。全ての移動荷重をＶＣＭで補正する場合と比較すれ
ば、追従誤差ｅを無くす仕事をＶＣＭに任せても発熱問
題は軽微である。
には、図６を参照して残存する追従誤差ｅを無くすため
にＶＣＭを働かせることができる。このとき、図７には
不図示であるが空気ばねアクチュエータと共にＶＣＭを
も適切に配置してなるハイブリッドのアクティブ除振装
置であることが必要となる。この構成のとき、ほとんど
の移動荷重を空気ばねアクチュエータの力でまかない、
１形の圧力フィードバック系に原因して発生する補正し
きれない移動荷重分についてはＶＣＭが補助するのであ
る。全ての移動荷重をＶＣＭで補正する場合と比較すれ
ば、追従誤差ｅを無くす仕事をＶＣＭに任せても発熱問
題は軽微である。
【００２７】あるいは、概ねランプ状の補正信号への完
全な追従を図るためには、ステップアンドリピートある
いはステップアンドスキャンの駆動パターンが予め既知
であることを利用することもできる。すなわち、図６を
参照して追従誤差ｅを無くすように、先行的に補正信号
を印加すればよい。このとき、予め既知の駆動プロファ
イルに基づき先行的に除振台の傾きが補正できる。
全な追従を図るためには、ステップアンドリピートある
いはステップアンドスキャンの駆動パターンが予め既知
であることを利用することもできる。すなわち、図６を
参照して追従誤差ｅを無くすように、先行的に補正信号
を印加すればよい。このとき、予め既知の駆動プロファ
イルに基づき先行的に除振台の傾きが補正できる。
【００２８】上記説明では、図１の補正信号発生部１２
に導かれる信号はＸＹステージの位置決め用の位置検出
手段であり、具体的にはレーザ干渉計であった。しかし
ながら、ＸＹステージを駆動するアクチュエータが多相
型の直流リニアモータなどの場合、一般にはコイルの相
切り替えのためのエンコーダを搭載している。つまり、
このエンコーダの出力信号を補正信号発生部１２に導い
て、ＸＹステージの高速移動あるいは高速スキャンに原
因した除振台の傾きを矯正する補正信号を生成すること
も可能である。このようなＸＹステージの位置決めのた
めの位置検出手段に限らず、ＸＹステージの移動位置を
計測する手段であるならば、レーザ干渉計やコイル相切
り替えのためのエンコーダに限定されるものではない。
例えば、除振台の傾きを矯正するための信号としてＸＹ
ステージの位置を検出するための特別の位置センサを備
えても構わない。
に導かれる信号はＸＹステージの位置決め用の位置検出
手段であり、具体的にはレーザ干渉計であった。しかし
ながら、ＸＹステージを駆動するアクチュエータが多相
型の直流リニアモータなどの場合、一般にはコイルの相
切り替えのためのエンコーダを搭載している。つまり、
このエンコーダの出力信号を補正信号発生部１２に導い
て、ＸＹステージの高速移動あるいは高速スキャンに原
因した除振台の傾きを矯正する補正信号を生成すること
も可能である。このようなＸＹステージの位置決めのた
めの位置検出手段に限らず、ＸＹステージの移動位置を
計測する手段であるならば、レーザ干渉計やコイル相切
り替えのためのエンコーダに限定されるものではない。
例えば、除振台の傾きを矯正するための信号としてＸＹ
ステージの位置を検出するための特別の位置センサを備
えても構わない。
【００２９】さらに、図１においては、制御ループ中
に、位置に関する運動モード抽出演算手段２、加速度に
関する運動モード抽出手段４、および運動モード分配演
算手段７を備えた、所謂運動モード別の非干渉化制御系
になっている。このような制御構造を採るが故に除振台
の傾きを補正するための補正信号をその運動モードを表
す駆動信号の箇所に重畳することで、複数台の能動的支
持脚が除振台の傾きを矯正するように協調をとって駆動
力が発生する。つまり、運動モード別の制御ループ構成
であることが、ＸＹステージの移動に原因した除振台の
傾きを矯正することにおいて多大の貢献をしている。
に、位置に関する運動モード抽出演算手段２、加速度に
関する運動モード抽出手段４、および運動モード分配演
算手段７を備えた、所謂運動モード別の非干渉化制御系
になっている。このような制御構造を採るが故に除振台
の傾きを補正するための補正信号をその運動モードを表
す駆動信号の箇所に重畳することで、複数台の能動的支
持脚が除振台の傾きを矯正するように協調をとって駆動
力が発生する。つまり、運動モード別の制御ループ構成
であることが、ＸＹステージの移動に原因した除振台の
傾きを矯正することにおいて多大の貢献をしている。
【００３０】最後に、位置センサ、加速度センサおよび
空気ばねアクチュエータの冗長性について言及してお
く。剛な物体の運動自由度は並進と回転運動が各３であ
り合計６となる。したがって、センサとアクチュエータ
の必要最低限の数はそれぞれ６である。図１に示すアク
ティブ除振装置の場合、位置センサと加速度センサは剛
体の運動モードを検出することに対して必要最低限の数
を揃える。もちろん、本発明の主旨を逸脱しない範囲内
において、各種センサとの数に制約を設けるものではな
い。例えば、柔軟な運動モードをも検出してそのモード
も剛体運動モードと同様に積極的に制御しようとするな
らば、センサおよびアクチュエータの数を増やさねばな
らない。その場合でも図１に示すアクティブ除振装置が
備えている運動モード別のループ構造に変更を来たすも
のでないことは言うまでもない。
空気ばねアクチュエータの冗長性について言及してお
く。剛な物体の運動自由度は並進と回転運動が各３であ
り合計６となる。したがって、センサとアクチュエータ
の必要最低限の数はそれぞれ６である。図１に示すアク
ティブ除振装置の場合、位置センサと加速度センサは剛
体の運動モードを検出することに対して必要最低限の数
を揃える。もちろん、本発明の主旨を逸脱しない範囲内
において、各種センサとの数に制約を設けるものではな
い。例えば、柔軟な運動モードをも検出してそのモード
も剛体運動モードと同様に積極的に制御しようとするな
らば、センサおよびアクチュエータの数を増やさねばな
らない。その場合でも図１に示すアクティブ除振装置が
備えている運動モード別のループ構造に変更を来たすも
のでないことは言うまでもない。
【００３１】
【デバイス生産方法の実施例】次に上記説明したアクテ
ィブ除振装置を備えた露光装置を利用したデバイスの生
産方法の実施例を説明する。図８は微小デバイス（ＩＣ
やＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜
磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示
す。ステップ１（回路設計）ではデバイスのパターン設
計を行なう。ステップ２（マスク製作）では設計したパ
ターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３
（ウエハ製造）ではシリコンやガラス等の材料を用いて
ウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前
工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、
リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成
する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、
ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チ
ップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシン
グ、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封
入）等の工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ
５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久
性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体
デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
ィブ除振装置を備えた露光装置を利用したデバイスの生
産方法の実施例を説明する。図８は微小デバイス（ＩＣ
やＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜
磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示
す。ステップ１（回路設計）ではデバイスのパターン設
計を行なう。ステップ２（マスク製作）では設計したパ
ターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３
（ウエハ製造）ではシリコンやガラス等の材料を用いて
ウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前
工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、
リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成
する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、
ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チ
ップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシン
グ、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封
入）等の工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ
５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久
性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体
デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【００３２】図９は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明したアクティブ除振装置
を備えた露光装置によってマスクの回路パターンをウエ
ハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光した
ウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現
像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９
（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となった
レジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行な
うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成
される。
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明したアクティブ除振装置
を備えた露光装置によってマスクの回路パターンをウエ
ハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光した
ウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現
像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９
（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となった
レジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行な
うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成
される。
【００３３】本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。
【００３４】
【発明の効果】本発明の効果は以下の通りである。 （１）ステージの高速移動による重心変化に原因した除
振台の傾きを抑制または軽減することができる。 （２）従来、電磁モータを使った除振台の傾き補正で
は、電流を連続的に通電する必要があった。したがっ
て、電磁モータ自身の発熱対策はもとより空調関連の対
策を十分施さねばならなった。しかるに、本発明では電
磁モータに比較すると発熱は極めて軽微なサーボバルブ
を駆動することによって除振台の傾きを補正しているの
で、発熱の問題は生じない。 （３）ステージの高速且つ連続的な移動にも拘わらず、
除振台の傾きが補正されてその量をほぼゼロにできる。
したがって、除振台が傾くことに起因した外乱をステー
ジに与えることはなくなる。つまり、ステージの移動場
所によらず常に安定した位置決めあるいはスキャン性能
を取得することができる。 （４）もって、生産性が向上するという効果がある。
振台の傾きを抑制または軽減することができる。 （２）従来、電磁モータを使った除振台の傾き補正で
は、電流を連続的に通電する必要があった。したがっ
て、電磁モータ自身の発熱対策はもとより空調関連の対
策を十分施さねばならなった。しかるに、本発明では電
磁モータに比較すると発熱は極めて軽微なサーボバルブ
を駆動することによって除振台の傾きを補正しているの
で、発熱の問題は生じない。 （３）ステージの高速且つ連続的な移動にも拘わらず、
除振台の傾きが補正されてその量をほぼゼロにできる。
したがって、除振台が傾くことに起因した外乱をステー
ジに与えることはなくなる。つまり、ステージの移動場
所によらず常に安定した位置決めあるいはスキャン性能
を取得することができる。 （４）もって、生産性が向上するという効果がある。
【図１】 本発明の一実施例に係るアクティブ除振装置
の構成図である。
の構成図である。
【図２】 無定位系へのフィードフォワード入力を示す
説明図である。
説明図である。
【図３】 定位系へのフィードフォワード入力を示す説
明図である。
明図である。
【図４】 ステップアンドリピートあるいはステップア
ンドスキャンの一例を示す説明図である。
ンドスキャンの一例を示す説明図である。
【図５】 図４に示すステップアンドリピートあるいは
ステップアンドスキャン中の補正信号の一例を示す図で
ある。
ステップアンドスキャン中の補正信号の一例を示す図で
ある。
【図６】 補正信号と駆動力の関係を示す図である。
【図７】 アクティブ除振装置の機械構成の一例を示す
図である。
図である。
【図８】 微小デバイスの製造の流れを示す図である。
【図９】 図８におけるウエハプロセスの詳細な流れを
示す図である。
示す図である。
１：位置目標値出力部、２：位置信号に関する運動モー
ド抽出演算手段、３：位置に関するゲイン補償器、４：
加速度に関する運動モード抽出演算手段、５：ゲイン補
償器、６：ＰＩ補償器、７：運動モード分配演算手段、
８：圧力検出手段、９：圧力目標値出力部、１０：圧力
に関するＰＩ捕償器、１１：電圧電流変換器、１２：補
正電圧発生部、１３：露光装置本体、１４：フィードフ
ォワード入力端子、１５：無定位系、１６：除振台の機
械系、１７：定位系、１８：半導体ウエハ、１９：ショ
ット領域、２０：移動方向、２１：ＸＹステージ、２
２：除振台、２３−ｎ，２３−１，２３−２，２３−
３：能動的支持脚。
ド抽出演算手段、３：位置に関するゲイン補償器、４：
加速度に関する運動モード抽出演算手段、５：ゲイン補
償器、６：ＰＩ補償器、７：運動モード分配演算手段、
８：圧力検出手段、９：圧力目標値出力部、１０：圧力
に関するＰＩ捕償器、１１：電圧電流変換器、１２：補
正電圧発生部、１３：露光装置本体、１４：フィードフ
ォワード入力端子、１５：無定位系、１６：除振台の機
械系、１７：定位系、１８：半導体ウエハ、１９：ショ
ット領域、２０：移動方向、２１：ＸＹステージ、２
２：除振台、２３−ｎ，２３−１，２３−２，２３−
３：能動的支持脚。
Claims (5)
- 【請求項１】 移動可能なステージを支持する構造体を
搭載する除振台、 空気ばねアクチュエータと振動計測手段と位置計測手段
と該空気ばねアクチュエータの加圧力を計測する加圧力
計測手段とを備え前記除振台を支持する複数台の能動的
支持脚、および前記位置計測手段の出力に基づいて指定
された平衡位置に前記除振台を位置決めする位置フィー
ドバック系と前記振動計測手段の出力に基づいて前記除
振台にダンピングを付与する加速度フィードバック系と
前記加圧力計測手段の出力に基づいて前記空気ばねアク
チュエータの加圧力を制御する加圧力フィードバック系
とを有する制御装置を備えたアクティブ除振装置におい
て、 前記除振台の上のステージが移動することによって発生
する前記除振台の傾きを矯正する補正信号を前記ステー
ジの位置を検出する位置検出手段の計測値に基づいて作
成し、これを前記加圧力フィードバック系にフィードフ
ォワード入力することを特徴とするアクティブ除振装
置。 - 【請求項２】 前記加圧力フィードバック系の周波数帯
域で決まる固有周期は、前記ステージのステップアンド
リピートあるいはステップアンドスキャンの周期に比較
して短く設定されていることを特徴とする請求項１記載
のアクティブ除振装置。 - 【請求項３】 前記ステージに対する位置検出手段はレ
ーザ干渉計、もしくは前記ステージを駆動するリニアモ
ータのコイルの相切り替えためのエンコーダであること
を特徴とする請求項１または２記載のアクティブ除振装
置。 - 【請求項４】 マスクに形成された回路パターンを投影
光学系を介して基板ステージ上の感光基板に転写する露
光装置であって、請求項１〜３のいずれかに記載のアク
ティブ除振装置を露光装置における除振装置として備え
ていることを特徴とする露光装置。 - 【請求項５】 請求項４記載の露光装置を用いてデバイ
スを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13924298A JP4109747B2 (ja) | 1998-05-07 | 1998-05-07 | アクティブ除振装置および露光装置 |
| US09/299,557 US6213443B1 (en) | 1998-05-07 | 1999-04-27 | Anti-vibration apparatus and exposure apparatus using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13924298A JP4109747B2 (ja) | 1998-05-07 | 1998-05-07 | アクティブ除振装置および露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11327657A true JPH11327657A (ja) | 1999-11-26 |
| JP4109747B2 JP4109747B2 (ja) | 2008-07-02 |
Family
ID=15240778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13924298A Expired - Fee Related JP4109747B2 (ja) | 1998-05-07 | 1998-05-07 | アクティブ除振装置および露光装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6213443B1 (ja) |
| JP (1) | JP4109747B2 (ja) |
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| EP1359480A1 (en) * | 2001-02-07 | 2003-11-05 | Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki | Vibration suppression positioning controller |
| WO2005085671A1 (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Nikon Corporation | 防振装置、露光装置、及び防振方法 |
| JP2007315590A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-12-06 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | 能動型振動絶縁システム |
| KR20150082520A (ko) * | 2012-11-06 | 2015-07-15 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
| JP2020057680A (ja) * | 2018-10-01 | 2020-04-09 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム装置 |
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| US6563128B2 (en) * | 2001-03-09 | 2003-05-13 | Cymer, Inc. | Base stabilization system |
| US6523695B1 (en) * | 2000-09-15 | 2003-02-25 | Nikon Corporation | Method and apparatus for operating a vibration isolation system having electronic and pneumatic control systems |
| JP2002122179A (ja) * | 2000-10-10 | 2002-04-26 | Ebara Corp | 除振装置及びその制御方法 |
| CN1280619C (zh) * | 2001-09-12 | 2006-10-18 | 西门子公司 | 用于检测一个机械电子系统的固有振动的方法和装置 |
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| US7324213B2 (en) * | 2004-12-10 | 2008-01-29 | Honeywell International Inc. | Small angle high frequency angular displacement measurement system |
| US20080220344A1 (en) * | 2005-07-29 | 2008-09-11 | Daisuke Nakaya | Drawing Method and Apparatus |
| NL2007155A (en) | 2010-08-25 | 2012-02-28 | Asml Netherlands Bv | Stage apparatus, lithographic apparatus and method of positioning an object table. |
| WO2014082961A1 (en) * | 2012-11-27 | 2014-06-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, substrate support system, device manufacturing method and control program |
| CN109738119B (zh) * | 2019-01-24 | 2019-12-24 | 华中科技大学 | 一种重心位置测量方法及系统 |
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| US5060519A (en) * | 1988-02-18 | 1991-10-29 | Tokkyo Kiki Kabushiki Kaisha | Active control precision damping table |
| JP2522736B2 (ja) | 1991-12-13 | 1996-08-07 | 株式会社荏原製作所 | 除振装置 |
| JP3265670B2 (ja) * | 1993-01-21 | 2002-03-11 | 株式会社ニコン | ステージ装置、ステージ駆動方法、及び露光装置 |
| JP2954815B2 (ja) * | 1993-06-24 | 1999-09-27 | キヤノン株式会社 | 鉛直方向除振装置 |
| JPH0915868A (ja) * | 1995-06-27 | 1997-01-17 | Canon Inc | 能動的除振装置 |
| JP3129164B2 (ja) | 1995-09-04 | 2001-01-29 | 松下電器産業株式会社 | 音声認識方法 |
| US5812420A (en) * | 1995-09-05 | 1998-09-22 | Nikon Corporation | Vibration-preventive apparatus and exposure apparatus |
| JP3807516B2 (ja) | 1995-09-05 | 2006-08-09 | 株式会社ニコン | 除振装置、除振方法及び露光装置 |
| US5931441A (en) * | 1996-02-29 | 1999-08-03 | Nikon Corporation | Method of isolating vibration in exposure apparatus |
-
1998
- 1998-05-07 JP JP13924298A patent/JP4109747B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-04-27 US US09/299,557 patent/US6213443B1/en not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|---|
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| EP1124078A3 (en) * | 2000-02-09 | 2003-06-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Active anti-vibration apparatus and exposure apparatus |
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| KR20150082520A (ko) * | 2012-11-06 | 2015-07-15 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 |
| JP2020057680A (ja) * | 2018-10-01 | 2020-04-09 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4109747B2 (ja) | 2008-07-02 |
| US6213443B1 (en) | 2001-04-10 |
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