JP3807516B2 - 除振装置、除振方法及び露光装置 - Google Patents
除振装置、除振方法及び露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3807516B2 JP3807516B2 JP25238696A JP25238696A JP3807516B2 JP 3807516 B2 JP3807516 B2 JP 3807516B2 JP 25238696 A JP25238696 A JP 25238696A JP 25238696 A JP25238696 A JP 25238696A JP 3807516 B2 JP3807516 B2 JP 3807516B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vibration
- vibration isolation
- stage
- isolation table
- actuator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、除振装置及び露光装置に係り、更に詳しくは、除振台の振動を打ち消すようにアクチュエータにより除振台を駆動するいわゆるアクティブ方式の除振装置及びこの除振装置を備えた露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影型露光装置、即ちいわゆるステッパ等の精密機器の高精度化に伴い、設置床から定盤(除振台)に作用する微振動をマイクロGレベルで絶縁する必要が生じている。除振装置の除振台を支持する除振パッドとしてはダンピング液中に圧縮コイルバネを入れた機械式ダンパや空気式ダンパ等種々のものが使用され、除振パッド自体がある程度のセンタリング機能を備えている。特に、空気式ダンパを備えた空気バネ除振装置はバネ定数を小さく設定でき、約10Hz以上の振動を絶縁することから、精密機器の支持に広く用いられている。また、最近では従来のパッシブ除振装置の限界を打破するために、アクティブ除振装置が提案されている(例えば、本願と同一出願人に係る特願平7−83577号等参照)。これは、除振台の振動をセンサで検出し、このセンサの出力に基づいてアクチュエータを駆動することにより振動制御を行う除振装置であり、低周波制御帯域に共振ピークの無い理想的な振動絶縁効果を持たせることができるものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ステッパ等では、大きな加減速を行うXYステージ(ウエハステージ)が除振パッドに保持された定盤上に搭載されており、XYステージの移動と同時に露光装置本体の重心位置が移動する。アクティブ除振装置では、このステージ移動に伴い、本体重心位置が変化したとき、位置制御ループにより初期位置に位置決めをするが、ステージ移動量が大きくなると本体重心位置変化量も大きくなり、本体が傾斜する。かかる場合に、従来のアクティブ除振装置では、位置制御ループのゲインを高くすることにより位置制御応答性を向上させることは可能である。しかしながら、位置制御ループのゲインを高くすると床振動を本体に伝えることになり、除振性能を劣化させることになるので、位置制御ループのゲインを高くするには限界があり、結果的に本体重心位置が移動することにより、本体−アクチュエータの力のバランスが崩れ、本体が初期位置からずれてしまう等の不都合が生じるおそれがあった。
【0004】
本発明は、かかる事情の下になされたもので、その目的はステージ移動に伴う本体重心位置移動の影響を受けることなく、外乱振動の抑制(制振)効果を向上させることができる除振装置及びこれを備えた露光装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明に係る除振装置は、少なくとも3個の除振パッドを介して水平に保持された除振台と;前記除振台の上面に含まれる第1方向に移動する少なくとも一つのステージと;前記除振台を異なる箇所で前記除振台の上面と直交する方向に駆動する少なくとも3つのアクチュエータを含む複数のアクチュエータと;前記除振台の変位を検出する1又は2以上の変位センサと;前記除振台の振動を検出する1又は2以上の振動センサと;前記変位センサ及び振動センサの出力に基づいて前記除振台の振動を抑制するように前記各アクチュエータを駆動制御する振動制御系と;前記各ステージの前記第1方向の移動位置を計測する位置計測手段と;前記ステージの移動時の重心位置の移動により生じる前記除振台の傾き量を前記第1方向の移動位置を計測する前記位置計測手段の出力に基づいて予測し、この傾き量を補正するような指令値を前記振動制御系にフィードフォワード入力する振動補償系とを有する。
【0006】
これによれば、ステージが移動すると、位置計測手段によりステージの移動位置が計測される。振動補償系ではこの位置計測手段の出力に基づいてステージの移動時の重心位置の移動により生じる除振台の傾き量を予測し、この傾き量を補正するような指令値を振動制御系にフィードフォワード入力する。振動制御系では変位センサ、振動センサの出力、及びフィードフォワード入力された指令値に基づいて除振台の振動を抑制するように各アクチュエータを駆動制御する。これにより、除振台の振動と共にステージの移動時の重心位置の移動により生じる除振台の傾き量が補正される。この場合において、振動制御系のゲインを必要以上に大きくする必要がないので、除振性能を劣化させることもない。従って、ステージ移動に伴う本体重心位置移動の影響を受けることなく、外乱振動の抑制(制振)効果を向上させることができる
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の除振装置において、前記ステージの移動開始直後及び停止直前の加速度と逆向きの反力の指令値を前記振動制御系にフィードフォワード入力するスキャンカウンタを更に有する。
【0007】
これによれば、スキャンカウンタによりステージの移動開始直後及び停止直前の加速度と逆向きの反力の指令値が振動制御系にフィードフォワード入力されていることから、振動制御系によりステージの移動開始直後及び停止直前に発生する除振台に生ずる振動を抑制するようにアクチュエータが駆動制御される。従って、求項1に記載の発明に比べてもより一層制振効果を向上させることができる。
【0008】
請求項3に記載の発明に係る露光装置は、マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板ステージ上の感光基板に転写する露光装置であって、前記請求項1又は2に記載の除振装置を露光本体部の除振装置として具備することを特徴とする。
また、請求項4に記載の発明に係る除振装置は、除振台の上面に含まれる第1方向に移動するステージと;前記除振台の上面と直交する方向に前記除振台を駆動するアクチュエータと;該アクチュエータを駆動制御する第1制御系と;前記ステージの前記第1方向の位置を計測する位置計測手段と;前記ステージの前記第1方向の位置に基づいて前記除振台の傾き量を予測し、前記予測した傾き量を補正する指令値を前記第1制御系にフィードフォワード入力する第2制御系と;を有する。
また、請求項8に記載の発明に係る除振方法は、除振台の上面に含まれる第1方向に移動するステージと、前記除振台の上面と直交する方向に前記除振台を駆動するアクチュエータとを備えた装置に用いられ、前記除振台を制御する除振方法において、前記ステージの前記第1方向の位置を計測し、前記ステージの前記第1方向の位置に基づいて前記除振台の傾き量を予測し、前記除振台の上面と直交する方向に前記除振台を駆動する前記アクチュエータに前記予測した傾き量をフィードフォワード入力することを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態について、図1ないし図3に基づいて説明する。
【0010】
図1には、一実施形態に係るステップ・アンド・スキャン型の露光装置100の概略斜視図が示されている。この図1において、設置面としての床上に長方形板状の台座2が設置され、この台座2上に除振パッド4A〜4D(但し、図1では紙面奥側の除振パッド4Dは図示せず)が設置され、これらの除振パッド4A〜4D上に除振台としての長方形状の定盤6が設置されている。ここで、後述するように本実施形態では投影光学系PLが使用されているため、投影光学系PLの光軸に平行にZ軸を取り、Z軸に直交する平面内で定盤6の長手方向にX軸を、これに直交する方向にY軸を取る。また、それぞれの軸回りの回転方向をZθ、Xθ、Yθ方向と定める。なお、以下の説明において、必要に応じ、図1中のX、Y、Z軸を示す各矢印の示す方向を+X、+Y、+Z方向、これと反対の方向を−X、−Y、−Z方向と区別して用いるものとする。
【0011】
除振パッド4A〜4Dは、それぞれ定盤6の長方形の底面の4個の頂点付近に配置されている。本実施形態では、除振パッド4A〜4Dとして空気式ダンパが使用され、空気の圧力により除振パッド4A〜4Dの高さを調整できるため、その空気式ダンパは上下動機構の役目をも兼ねている。勿論、上下動機構を別に設けてダンピング液中に圧縮コイルばねを入れた機械式ダンパ等を除振パッドとして使用してもよい。
【0012】
台座2と定盤6との間に除振パッド4Aと並列にアクチュエータ7Aが設置されている。アクチュエータ7Aは、台座2上に固定された固定子9Aと定盤6の底面に固定された可動子8Aとから構成され、制御装置11(図1では図示省略、図3参照)からの指示に応じて台座2から定盤6の底面に対するZ方向の付勢力、又は定盤6の底面から台座2に向かう吸引力を発生する。他の除振パッド4B〜4Dにおいても、除振パッド4Aと同様にそれぞれ並列にアクチュエータ7B〜7Dが設置され(但し、図1では紙面奥側のアクチュエータ7C、7Dは図示せず)、これらのアクチュエータ7B〜7Dの付勢力又は吸引力もそれぞれ制御装置11(図1では図示省略、図3参照)により設定される。アクチュエータ7A〜7Dの制御方法については、後述する。
【0013】
次に、アクチュエータ7Aの具体的構成について図2に基づいて説明する。
【0014】
図2(a)には、アクチュエータ7Aの構成の一例が示されている。この図2(a)において、固定子9Aは、N極の軸9Aaの両側にS極の軸9Ab,9Acが形成された発磁体よりなる。また、可動子8Aは、軸9Aaに遊嵌する内筒12、この内筒12の外側に巻回されたコイル13、及びこのコイル13を覆う外筒14より構成され、コイル13に流れる電流を調整することにより、固定子9Aと可動子8Aとの間に軸9Aaに平行な方向(±Z方向)の力が発生する。
【0015】
図2(b)には、アクチュエータ7Aの別の例が示されている。この図2(b)において、第1部材15に磁性体の固定子16が固定され、第2部材17に固定子16を挟むように内筒18A及び18Bが固定され、内筒18A及び18Bの外側にそれぞれコイル19A及び19Bが巻回されている。この場合も、コイル19A及び19Bに流す電流を調整することにより、第1部材15と第2部材17との間の吸引力のバランスを変化させて力を発生する。その他のアクチュエータ7B〜7Dもアクチュエータ7Aと同様に構成されている。
【0016】
図1に戻り、定盤6の+Y方向側の側面には、定盤6のZ方向加速度を検出する振動センサとしての加速度センサ5Z1 、5Z2 が取り付けられている。また、定盤6上面の+Y方向端部には定盤6のY方向加速度を検出する振動センサとしての加速度センサ5Y1 、5Y2 が取り付けられ、定盤6上面の+X方向端部には定盤6のX方向加速度を検出する振動センサとしての加速度センサ5Xが取り付けられている。これらの加速度センサ5Z1 、5Z2 、5Y1 、5Y2 、5Xとしては、例えば半導体式加速度センサが使用される。これらの加速度センサ5Z1 、5Z2 、5Y1 、5Y2 、5Xの出力も制御装置11(図1では図示省略、図3参照)に供給されている。
【0017】
また、定盤6の+Y方向側の側面には、所定面積の矩形の金属板(導電性材料)231 、232 が貼り付けられている。本実施形態では、定盤6として非導電性材料であるセラミックス製の定盤が使用されており、金属板231 、232 に対向する位置に定盤のY方向変位を検出する変位センサ10Y1 、10Y2 (図1では図面の錯綜をさけるため図示省略、図3参照)が設けられている。これらの変位センサ10Y1 、10Y2 としては、例えば、渦電流変位センサが使用される。この渦電流変位センサによれば、予め絶縁体に巻いたコイルに交流電圧を加えておき、導電性材料(導電体)から成る測定対象に近づけると、コイルによって作られた交流磁界によって導電体に渦電流が発生し、この渦電流によって発生する磁界は、コイルの電流によって作られた磁界と逆方向であり、これら2つの磁界が重なり合って、コイルの出力に影響を与え、コイルに流れる電流の強さ及び位相が変化する。この変化は、対象がコイルに近いほど大きくなり、逆に遠いほど小さくなるので、コイルから電気信号を取り出すことにより、対象の位置、変位を知る事ができる。この他、変位センサとして、静電容量がセンサの電極と測定対象物間の距離に反比例することを利用して非接触でセンサと測定対象物間の距離を検出する静電容量式非接触変位センサを使用しても良い。なお、背景光の影響を阻止できる構成にすれば、変位センサとしてPSD(半導体光位置検出器)を使用することも可能である。
【0018】
また、定盤6上面の+Y方向端部には所定面積の金属版233 、234 が貼り付けられている。これらの金属板233 、234 に対向して定盤6のZ方向変位を検出する渦電流変位センサから成る変位センサ10Z1 、10Z2 (図1では図示省略、図3参照)が設けられている。さらに、定盤6上面の+X方向の側面には所定面積の金属板235 が貼り付けられ、この金属板235 に対向して定盤6のX方向変位を検出する渦電流変位センサから成る変位センサ10X(図1では図示省略、図3参照)が設けられている。変位センサ10Y1 、10Y2 、10Z1 、10Z2 、10Xの出力も制御装置11(図1では図示省略、図3参照)に供給されている。
【0019】
定盤6上には図示しない駆動手段によってXY2次元方向に駆動される基板ステージとしてのXYステージ20が載置されている。更に、このXYステージ20上にZレベリングステージ、θステージ(いずれも図示省略)及びウエハホルダ21を介して感光基板としてのウエハWが吸着保持されている。また、定盤6上でXYステージ20を囲むように第1コラム24が植設され、第1コラム24の上板の中央部に投影光学系PLが固定され、第1コラム24の上板に投影光学系PLを囲むように第2コラム26が植設され、第2コラム26の上板の中央部にレチクルステージ27を介してマスクとしてのレチクルRが載置されている。
【0020】
XYステージ20のY方向の移動位置は、位置計測手段としてのY軸用レーザ干渉計30Yによって計測され、XYステージ20のX方向の移動位置は、位置計測手段としてのX軸用レーザ干渉計30Xによって計測されるようになっており、これらのレーザ干渉計30Y、30Xの出力は制御装置11(図3参照)及び図示しない主制御装置に入力されている。Zレベリングステージは、Z軸方向の駆動及びZ軸に対する傾斜が調整可能に構成され、θステージはZ軸回りの微小回転が可能に構成されている。従って、XYステージ20、Zレベリングステージ及びθステージによって、ウエハWは3次元的に位置決めが可能となっている。
【0021】
レチクルステージ27は、レチクルRのY軸方向の微調整、及び回転角の調整が可能に構成されている。また、このレチクルステージ27は、図示しない駆動手段によってX方向に駆動されるようになっており、このレチクルステージ27のX方向位置は位置計測手段としてのレチクルレーザ干渉計30Rによって計測され、このレチクルレーザ干渉計30Rの出力も制御装置11(図3参照)及び図示しない主制御装置に入力されている。
【0022】
更に、レチクルRの上方には、図示しない照明光学系が配置され、図示しない主制御装置ではレチクルR及びウエハWの相対位置合わせ(アライメント)及び図示しない焦点検出系によるオートフォーカスを行ないつつ、照明光学系からの露光用の照明光ELの下で、レチクルRのパターンの投影光学系PLを介した像をウエハWの各ショット領域に順次露光するようになっている。本実施形態では、各ショット領域の露光に際しては主制御装置によりXYステージ20とレチクルステージ27とがそれぞれの駆動手段を介してX軸方向(走査方向)に沿って所定の速度比で相対走査される。
【0023】
第1コラム24は、4本の脚部24a〜24d(但し、図1では紙面奥側の脚部24dは図示せず)により定盤6上に接触している。脚部24bの+X方向の側面には、第1コラム24のZ方向の加速度を検出する加速度センサ5Z3 が取り付けられている。この加速度センサ5Z3 としては、例えばピエゾ抵抗効果型あるいは静電容量型の半導体式加速度センサが使用される。この加速度センサ5Z3 の出力も制御装置11(図1では図示省略、図3参照)に入力されている。また、第1コラム24の上板上面の+Y方向端部でかつ+X方向端部となるコーナーの部分には、所定面積の金属板236 が貼り付けられている。この金属板236 に対向して第1コラム24のZ方向変位を検出する渦電流変位センサから成る変位センサ10Z3 (図1では図示省略、図3参照)が設けられている。
【0024】
更に、第1コラム24の−X方向の側面に可動軸35Aが埋め込まれ、可動軸35Aと床上に固定された図示しない支柱との間にアクチュエータ32Aが取り付けられている。アクチュエータ32Aは、アクチュエータ7Aと同様に、図示しない支柱に固定された発磁体よりなる固定子34Aと、可動軸35Aに取り付けられたコイルを含む可動子33Aとから構成され、制御装置11から可動子33A内のコイルに流れる電流を調整することにより、可動軸35Aに対して±Y方向に力を与えることができる。同様に、第1コラム24の+X方向の側面に可動軸35Bが埋め込まれ、可動軸35Bと床上に固定された図示しない支柱との間に、アクチュエータ32Aと同一構成のアクチュエータ32Bが取り付けられ、制御装置11からの指示により可動軸35Bに対して±Y方向に力を与えることができるようになっている。また、第1コラム24の+X方向の側面の中央部と床上の図示しない支柱との間に、アクチュエータ32Aと同一構成のアクチュエータ32Cが設置され、制御装置11からの指示によりアクチュエータ32Cを介して第1コラム24に対して±X方向に力を与えることができる。制御装置11による、アクチュエータ32A〜32Cの制御方法についても後述する。
【0025】
ここで、露光装置100の設置時の定盤6の高さ及び水平レベルの調整について簡単に説明すると、変位センサ10Z1 、10Z2 、10Z3 で計測された定盤6のZ方向変位(高さ)が図示しない除振パッド4A〜4Dの制御系(図示省略)に伝えられ、これらのデータを基に除振パッド4A〜4Dの制御系は、定盤6の高さを予め設定されている値にすると共に水平レベルを維持するための各除振パッド4A〜4Dの高さを算出する。その後、この制御系は、除振パッド4A〜4Dの高さをそれぞれその算出された高さに設定する。その後、除振パッド4A〜4Dの高さはそれぞれその設定値に維持される。これにより、定盤6に歪みが生ずることがなく、定盤6上のXYステージ20の位置決め精度等が高精度に維持される。
【0026】
本実施形態では、定盤6、XYステージ20、ウエハホルダ21、第1コラム24、投影光学系PL、第2コラム26、及びレチクルステージ27等により露光本体部40(図3参照)が構成されている。
【0027】
次に、この露光本体部40の除振のためのアクチュエータ7A〜7D、32A〜32Cの制御系について、制御装置11を中心に、図3のブロック図に基づいて説明する。
【0028】
制御装置11は、変位センサ10Z1 、10Z2 、10Z3 、10Y1 、10Y2 、10X及び加速度センサ5Z1 、5Z2 、5Z3 、5Y1 、5Y2 、5Xの出力に基づいて定盤6を含む露光本体部40の振動を抑制するようにアクチュエータ7A、7B、7C、7D、32A、32B、32Cを駆動制御する振動制御系と、XYステージ20、レチクルステージ27の移動時、例えばスキャン露光のためのXYステージ20、レチクルステージ27の走査時の重心位置の移動により生じる定盤6の傾き量を干渉計30X、30Y、30Rの出力に基づいて予測し、この傾き量を補正するような指令値を振動制御系にフィードフォワード入力する振動補償系とを有する。
【0029】
これを更に詳述すると、振動制御系は、変位センサ10Z1 、10Z2 、10Z3 、10Y1 、10Y2 、10Xの出力を図示しないA/Dコンバータをそれぞれ介して入力し、露光本体部40の重心Gの6自由度方向(X、Y、Z、Xθ、Yθ、Zθ:図1参照)の変位量(x、y、z、θx 、θy 、θz )に変換する第1の座標変換部42と、この第1の座標変換部42で変換後の重心の6自由度方向の変位量(x、y、z、θx 、θy 、θz )を目標値出力部44から入力される6自由度方向の重心位置の目標値(x0 、y0 、z0 、θx0 、θy0 、θz0)からそれぞれ減じて6自由度のそれぞれの方向の位置偏差(Δx=x0 −x、Δy=y0 −y、Δz=z0 −z、Δθx =θx0−θx 、Δθy =θy0−θy 、Δθz =θz0−θz )をそれぞれ算出する6つの減算器46a〜46fと、6自由度のそれぞれの方向の位置偏差Δx、Δy、Δz、Δθx 、Δθy 、Δθz を動作信号として制御動作を行なうPIコントローラから成る6自由度のそれぞれの方向の位置コントローラXPI、YPI、ZPI、XθPI、YθPI、ZθPIと、加速度センサ5Z1 、5Z2 、5Z3 、5Y1 、5Y2 、5Xの出力を図示しないA/Dコンバータをそれぞれ介して入力し、重心Gの6自由度方向の加速度(x”、y”、z”、θx ”、θy ”、θz ”)に変換する第2の座標変換部48と、この第2の座標変換部48で変換後の重心Gの6自由度方向の加速度x”、y”、z”、θx ”、θy ”、θz ”をそれぞれ積分してそれぞれの方向の重心Gの速度x’、y’、z’、θx ’、θy ’、θz ’に変換する6つの積分器50a〜50fと、位置コントローラXPI、YPI、ZPI、XθPI、YθPI、ZθPIの出力を速度指令値x0 ’、y0 ’、z0 ’、θx0’、θy0’、θz0’にそれぞれ変換する速度変換ゲイン52a〜52fと、この変換後の速度指令値x0 ’、y0 ’、z0 ’、θx0’、θy0’、θz0’から積分器50a〜50fの出力x’、y’、z’、θx ’、θy ’、θz ’をそれぞれ減じて6自由度方向のそれぞれの方向の速度偏差(Δx’=x0 ’−x’、Δy’=y0 ’−y’、Δz’=z0 ’−z’、Δθx ’=θx0’−θx ’、Δθy ’=θy0’−θy ’、Δθz ’=θz0’−θz ’)を算出する6つの減算器54a〜54fと、6自由度のそれぞれの方向の速度偏差Δx’、Δy’、Δz’、Δθx ’、Δθy ’、Δθz ’を動作信号として制御動作を行なうPIコントローラから成る6自由度のそれぞれの方向の速度コントローラVXPI、VYPI、VZPI、VXθPI、VYθPI、VZθPIと、これらのコントローラで演算された6自由度のそれぞれの方向の速度制御量を各アクチュエータの位置で発生すべき速度指令値に変換するための非干渉化演算を行なう非干渉化計算部56と、この非干渉化計算部56で変換後の各アクチュエータの位置で発生すべき速度指令値を各アクチュエータで発生すべき推力にそれぞれ変換する推力ゲイン58a〜58gとを有する。
【0030】
即ち、本実施形態の振動制御系は、変位センサ、位置コントローラ等を含んで構成される位置制御ループの内側に、その内部ループとして加速度センサ、積分器、速度コントローラ等を含んで構成される速度制御ループを有する多重ループ制御系となっている。
【0031】
また、振動補償系は、Xθ方向の速度コントローラVXθPI、Yθ方向の速度コントローラVYθPIの出力段にそれぞれ設けられた加算器60、62と、レーザ干渉計30X、30Rの計測値をそれぞれK1 、K2 倍して加算器62に出力するアンプ64a、64bと、レーザ干渉計30Yの出力をK3 倍して加算器60に出力するアンプ64cとから構成されている。ここで、アンプ64a、64b、64cのそれぞれのゲインK1 、K2 、K3 について、その意義を簡単に説明する。但し、以下における説明では、説明の便宜上、後述するスキャンカウンタ66からの出力は零であるものとして説明する。
【0032】
例えば、XYステージ20がX軸方向に距離x1 だけ移動すると、定盤6を含む露光本体部40の重心が初期の位置よりずれ、定盤6がY軸回りにθ=ax1 だけ傾く。ここで、係数aは、除振パッドのバネ剛性により定まる。そこで、予めこの係数aを求めておき、傾きθ1 =ax1 を補正するための制御量がK1 x1 となるように、ゲインK1 を定めている。従って、X軸用レーザ干渉計30Xの計測値であるXYステージ20のX軸方向の位置x1 がアンプ64aによりK1 倍されて加算器62に入力(フィードフォワード入力)されると、加算器62により傾きθ1 を考慮して定盤6のY軸回りの傾斜を補正するためのYθ方向の速度の制御量が演算され、非干渉化計算部56に入力されるようになっている。
【0033】
また、レチクルステージ27は、通常はXYステージ20のステッピングの際等には停止しているが、走査露光時には、XYステージ20と逆向きにX軸方向に投影光学系PLの投影倍率の逆数倍の距離移動するため、このレチクルステージ27の移動により定盤6を含む露光本体部40の重心位置の変動(ずれ)を招き、その結果、定盤6がY軸回りにθ2 =bx2 だけ傾く。そこで、予めこの係数bを求めておき、傾きθ2 =ax2 を補正するための制御量がK2 x2 となるように、ゲインK2 を定めている。従って、レチクルレーザ干渉計30Rの計測値であるレチクルステージ27のX軸方向の位置x2 がアンプ64bによりK2 倍され、アンプ64aの出力とともに加算器62に入力(フィードフォワード入力)されると、加算器62により傾き(θ1 +θ2 )を考慮して定盤6のY軸回りの傾斜を補正するためのYθ方向の速度の制御量が演算され、非干渉化計算部56に入力されるようになっている。ここで、XYステージ20の移動により生じる定盤6の傾きθ1 とレチクルステージ27の移動により生じる傾きθ2 とを加算するのは、前述したようにレチクルステージ27とXYステージ20は相互に逆向きに移動する場合には、x1 とx2 の符号が異なり、その結果上記の傾きθ1 とθ2 の符号が異なるので、それぞれのステージが単独で移動した場合の傾きを加算するものとしても何の問題もないからである。なお、走査露光の際には、レチクルステージ27とXYステージ20は相互に逆向きに移動するが、それらの重量に差があり、また、後述するように移動距離も異なるので、現実的にも(θ1 +θ2 )が零になることは殆どなく、定盤6は傾く。
【0034】
一方、XYステージ20がX軸方向に沿って走査される際には、レーザ干渉計30Yの出力はほぼ変動しない(すなわち、XYステージ20のY座標は変化しない)ために、通常、アンプ64cからの振動制御系に対するフィードフォワード入力は必要でない。但し、XYステージ20のX軸方向の重心位置は、構造上、露光本体部40のX軸方向の重心位置と一致しない場合がある。かかる場合には、XYステージ20がX軸方向に沿って走査されると、レーザ干渉計30Yの出力は僅かながら変動する。また、XYステージ20のY軸方向へのステッピングの際には、レーザ干渉計30Yの出力はXYステージ20の移動位置に応じて当然に変動する。この場合も、上述したK1 、K2 と同様、レーザ干渉計30Yの出力がyであるとすると、このときの傾きθ=cyを補正するための制御量がK3 yとなるように、ゲインK3 が定められている。
【0035】
なお、本実施形態では、レーザ干渉計30X、30Y、30Rとしては、図示しないカウンタのカウント値を位置情報として出力するタイプのものが使用されている。従って、レーザ干渉計30X、30Y、30Rの出力は、絶対的な座標位置ではなくそれぞれのステージの停止位置からの変位である。
【0036】
さらに、本実施形態では、スキャンカウンタ66の出力が各軸の速度コントローラVXPI〜VZθPIの出力段に設けられた加算器60、62、68-1、68-2、68-3、68-4を介して振動制御系にフィードフォワード入力されている。本実施形態の露光装置100では、ウエハW上のショットを露光する際には、レチクルステージ27とXYステージ20とが走査方向、すなわち、X軸方向に互いに逆向きに同期走査されるが、この際にレチクルステージ27は、1ショットにつき1回、当該レチクルステージ27の可動範囲を端から端までXYステージ20の速度の投影光学系PLの縮小倍率の逆数倍(例えば、4倍又は5倍)の速度で移動し、しかも露光は定速域でのみ行なわれることから、レチクルステージ27は▲1▼停止状態から目標速度まで加速、▲2▼目標速度を維持、▲3▼目標速度から停止状態まで減速の3つの状態遷移を行なうことになり、ステージ27の移動開始直後▲1▼及び停止直前▲3▼には大きな反力が第2コラム26を介して定盤6に作用し、定盤6を含む露光本体部40に振動が生ずる。また、XYステージ20の移動によっても露光本体部40に振動が生じる。そこで、スキャンカウンタ66により、XYステージ20、レチクルステージ27の加速度と逆向きの反力の指令値を振動制御系にフィードフォワード入力し、上記のステージ27の移動開始直後及び停止直前の振動を抑制する。かかる加速度と逆向きの反力の指令値は、X軸方向のみでなく、XYステージ20、レチクルステージ27の移動によって生じるθy ,θz 方向の指令値も入力する。また、XYステージ20のY軸方向へのステッピングの際には、スキャンカウンタ66により、Y軸方向の指令値、θx 方向の指令値を振動制御系に入力する。
【0037】
以上のようにして構成された本実施形態の露光装置によれば、例えば、スキャン露光の際に、XYステージ20、レチクルステージ27がX軸方向に沿って走査されると、制御装置11により、レーザ干渉計30X、30Rで計測されたそれぞれのステージの変位量に対応した定盤6の傾きを補正するようにアクチュエータ7A〜7Dが駆動制御され、しかも傾きの補正量の指令値はフィードフォワード入力されているので、実際に定盤6が傾斜するのを阻止することができる。従って、定盤6を含む露光本体部40の振動は、ステージ20,27の移動による露光本体部40の重心移動による影響を受けることなく、変位センサ10Z1 、10Z2 、10Z3 、10Y1 、10Y2 、10X、加速度センサ5Z1 、5Z2 、5Z3 、5Y1 、5Y2 、5Xの出力に基づいて制御装置11によりアクチュエータ7A、7B、7C、7D、32A、32B、32Cが駆動制御され、効果的に抑制される。さらに、スキャン露光の際のXYステージ20、レチクルステージ27の移動開始直後及び停止直前の振動もスキャンカウンタ66からの指令値のフィードフォワード入力により抑制される。
【0038】
また、XYステージ20のX軸方向の重心位置が露光本体部40のX軸方向の重心位置と一致しない場合や、XYステージ20のY軸方向へのステッピングの際には、レーザ干渉計30Yの出力に基づく定盤6の傾きは制御装置11によって上記と同様にして抑制される。
【0039】
以上説明したように、本実施形態によると、位置制御ループのゲインを高くすることなく、XYステージ20、レチクルステージ27の移動による露光本体部40の重心移動に起因する定盤6の傾斜を抑制するようにアクチュエータ7A〜7Dをフィードフォワード制御することができるので、床振動を本体に伝えるという不都合を回避することができる。従って、除振性能を損なうことなく、ステージ移動に伴う露光本体部の重心位置移動の影響を受けることなく、外乱振動の抑制(制振)効果を向上させることができる。
【0040】
なお、上記実施形態では本発明に係る除振装置がステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の投影露光装置に適用される場合を例示したが、本発明の除振装置はステッパ方式の投影露光装置であっても定盤上をステージが移動するものであるから好適に適用できるものである。ステッパ方式の投影露光装置の場合には、一括露光型であるので露光時にはステージは停止しているからスキャンカウンタは不要である。
【0041】
また、上記実施形態では、7つのアクチュエータを用いて露光本体部の6自由度方向の揺れを抑制する場合について例示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、定盤(除振台)の傾斜を補正できれば良いので、アクチュエータとしては、Z方向のアクチュエータが少なくとも3つあれば良い。
【0042】
さらに、ステージの移動により露光本体部(装置本体)の重心の移動による除振台の傾斜を予測し、これを補正するような指令値を用いてこの影響を相殺するようにアクチュエータをフィードフォワード制御するという本発明の解決原理は、装置本体の6自由度方向の揺れを阻止する場合にのみ適用されるものではない。例えば、ステージが装置本体の重心位置上を移動するように構成されている場合には、ステージが移動しても装置本体は必ずしも6自由度方向に揺動しないが、かかる場合であっても本発明の解決原理は、有効に機能することは明らかだからである。かかる意味から、変位センサ、加速度センサ(振動センサ)の数も6つに限られるものではない。
【0043】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、除振効果を損なうことなく、ステージ移動に伴う本体重心位置移動の影響を受けることなく、外乱振動の抑制(制振)効果を向上させることができるという従来にない優れた効果がある。
【0044】
特に、請求項2に記載の発明にあっては、スキャンカウンタからフィードフォワード入力された指令値に応じて振動制御系によりアクチュエータが制御され、ステージの移動開始直後及び停止直前に発生する除振台に生ずる振動が抑制されることから、請求項1に記載の発明に比べてもより一層制振効果を向上させることができる。
また、請求項4及び請求項8に記載の各発明にあっては、ステージの第1方向の位置計測に基づいて、第1方向と直交する方向に除振台を駆動するアクチュエータを制御しているので、ステージの傾きを速やかに補正することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】一実施形態に係る投影露光装置を示す斜視図である。
【図2】(a)はアクチュエータ7Aの一例を示す拡大断面図、(b)はアクチュエータ7Aの他の例を示す拡大断面図である。
【図3】アクチュエータの制御系の構成を示す制御ブロック図である。
【符号の説明】
4A〜4C 除振パッド
5Z1 〜5Z3 ,5Y1 ,5Y2 ,5X 加速度センサ(振動センサ)
6 定盤(除振台)
7A〜7D,32A〜32C アクチュエータ
10Z1 〜10Z3 ,10Y1 ,10Y2 ,10X 変位センサ
11 制御装置(振動制御系、振動補償系)
20 XYステージ(基板ステージ)
27 レチクルステージ
30X、30Y、30R レーザ干渉計(位置計測手段)
40 露光本体部
66 スキャンカウンタ
100 露光装置
R レチクル(マスク)
PL 投影光学系
W ウエハ(感光基板)
Claims (9)
- 少なくとも3個の除振パッドを介して水平に保持された除振台と;
前記除振台の上面に含まれる第1方向に移動する少なくとも一つのステージと;
前記除振台を異なる箇所で前記除振台の上面と直交する方向に駆動する少なくとも3つのアクチュエータを含む複数のアクチュエータと;
前記除振台の変位を検出する1又は2以上の変位センサと;
前記除振台の振動を検出する1又は2以上の振動センサと;
前記変位センサ及び振動センサの出力に基づいて前記除振台の振動を抑制するように前記各アクチュエータを駆動制御する振動制御系と;
前記各ステージの前記第1方向の移動位置を計測する位置計測手段と;
前記ステージの移動時の重心位置の移動により生じる前記除振台の傾き量を前記第1方向の移動位置を計測する前記位置計測手段の出力に基づいて予測し、この傾き量を補正するような指令値を前記振動制御系にフィードフォワード入力する振動補償系とを有する除振装置。 - 前記ステージの移動開始直後及び停止直前の加速度と逆向きの反力の指令値を前記振動制御系にフィードフォワード入力するスキャンカウンタを更に有する請求項1に記載の除振装置。
- マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板ステージ上の感光基板に転写する露光装置であって、
前記請求項1又は2に記載の除振装置を露光本体部の除振装置として具備することを特徴とする露光装置。 - 除振台の上面に含まれる第1方向に移動するステージと;
前記除振台の上面と直交する方向に前記除振台を駆動するアクチュエータと;
該アクチュエータを駆動制御する第1制御系と;
前記ステージの前記第1方向の位置を計測する位置計測手段と;
前記ステージの前記第1方向の位置に基づいて前記除振台の傾き量を予測し、前記予測した傾き量を補正する指令値を前記第1制御系にフィードフォワード入力する第2制御系と;を有する除振装置。 - 前記除振台の変位を検出する変位センサと前記除振台の振動を検出する振動センサとの少なくとも一方を備え、
前記第1制御系は、前記変位センサと前記振動センサとの少なくとも一方の出力に基づいて前記アクチュエータを駆動制御することを特徴とする請求項4に記載の除振装置。 - パターンを有したマスクを載置するマスクステージを備え、前記パターンを基板に露光する露光装置において、
請求項4又は5に記載の除振装置を備えたことを特徴とする露光装置。 - 基板ステージに載置された基板にパターンを露光する露光装置において、
請求項4又は5に記載の除振装置を備えたことを特徴とする露光装置。 - 除振台の上面に含まれる第1方向に移動するステージと、前記除振台の上面と直交する方向に前記除振台を駆動するアクチュエータとを備えた装置に用いられ、前記除振台を制御する除振方法において、
前記ステージの前記第1方向の位置を計測し、
前記ステージの前記第1方向の位置に基づいて前記除振台の傾き量を予測し、前記除振台の上面と直交する方向に前記除振台を駆動する前記アクチュエータに前記予測した傾き量をフィードフォワード入力することを特徴とする除振方法。 - 前記除振台の変位と前記除振台の振動との少なくとも一方に基づいて、前記アクチュエータを駆動制御することを特徴とする請求項8に記載の除振方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25238696A JP3807516B2 (ja) | 1995-09-05 | 1996-09-03 | 除振装置、除振方法及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7-251887 | 1995-09-05 | ||
JP25188795 | 1995-09-05 | ||
JP25238696A JP3807516B2 (ja) | 1995-09-05 | 1996-09-03 | 除振装置、除振方法及び露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09134876A JPH09134876A (ja) | 1997-05-20 |
JP3807516B2 true JP3807516B2 (ja) | 2006-08-09 |
Family
ID=26540411
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25238696A Expired - Lifetime JP3807516B2 (ja) | 1995-09-05 | 1996-09-03 | 除振装置、除振方法及び露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3807516B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4109747B2 (ja) | 1998-05-07 | 2008-07-02 | キヤノン株式会社 | アクティブ除振装置および露光装置 |
JP4416250B2 (ja) | 2000-02-09 | 2010-02-17 | キヤノン株式会社 | アクティブ除振装置及び露光装置 |
EP2706034B1 (de) | 2012-09-10 | 2015-11-04 | Integrated Dynamics Engineering GmbH | Aktiver Tilger für tieffrequent schwingende Strukturen |
-
1996
- 1996-09-03 JP JP25238696A patent/JP3807516B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09134876A (ja) | 1997-05-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5812420A (en) | Vibration-preventive apparatus and exposure apparatus | |
US6388733B1 (en) | Exposure apparatus with an anti-vibration structure | |
US6038013A (en) | Vibration isolator and exposure apparatus | |
US6473159B1 (en) | Anti-vibration system in exposure apparatus | |
JPH11294520A (ja) | 除振装置、これを用いた露光装置およびデバイス製造方法、ならびに除振方法 | |
US6202492B1 (en) | Anti-vibration apparatus and exposure apparatus | |
US20060092394A1 (en) | Lithographic tool with dual isolation system and method for configuring the same | |
JPH1089403A (ja) | 防振装置 | |
US6392741B1 (en) | Projection exposure apparatus having active vibration isolator and method of controlling vibration by the active vibration isolator | |
JP2001297960A (ja) | ステージ装置および露光装置 | |
KR101788898B1 (ko) | 위치 계측 장치 및 패턴 형성 장치 | |
WO1999026120A1 (fr) | Eliminateur de vibrations, dispositif d'alignement et procede d'exposition par projection | |
JPH11150062A (ja) | 除振装置及び露光装置並びに除振台の除振方法 | |
JP3629772B2 (ja) | 除振装置、ステージ装置、露光装置及び走査型露光装置 | |
JP2007240396A (ja) | 振動検出センサ、防振装置、及び露光装置 | |
JP3807516B2 (ja) | 除振装置、除振方法及び露光装置 | |
KR100483982B1 (ko) | 진동절연장치및노광장치 | |
JP2000216082A (ja) | ステ―ジ装置および露光装置 | |
JP3707575B2 (ja) | 除振装置及び露光装置 | |
JP3750263B2 (ja) | 除振装置及び露光装置 | |
JP3636337B2 (ja) | 除振装置及び露光装置 | |
JPH094677A (ja) | 防振方法 | |
JP2000012435A (ja) | 除振装置および露光装置 | |
JPH10270308A (ja) | 除振装置及び露光装置 | |
JP6016432B2 (ja) | 位置決め装置、露光装置、デバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050328 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050406 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050603 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060427 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060510 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20170526 Year of fee payment: 11 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |