JPH09134876A - 除振装置及び露光装置 - Google Patents
除振装置及び露光装置Info
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- JPH09134876A JPH09134876A JP8252386A JP25238696A JPH09134876A JP H09134876 A JPH09134876 A JP H09134876A JP 8252386 A JP8252386 A JP 8252386A JP 25238696 A JP25238696 A JP 25238696A JP H09134876 A JPH09134876 A JP H09134876A
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- stage
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ステージ移動に伴う本体重心位置移動の影響
を受けることなく、外乱振動の抑制（制振）効果を向上
させる。 【解決手段】 ステージが移動すると、干渉計（３０
Ｘ、３０Ｙ、３０Ｒ）によりステージの移動位置が計測
され、この干渉計の出力がＫ倍された指令値（ステージ
の移動時の重心位置の移動により生じる除振台の傾き量
を補正するような指令値）制御装置１１の振動制御系に
フィードフォワード入力する。振動制御系では変位セン
サ１０、振動センサ５の出力、及びフィードフォワード
入力された指令値に基づいて除振台の振動を抑制するよ
うにアクチュエータ７Ａ〜７Ｄ、３２Ａ〜３２Ｃを駆動
制御する。これにより、除振台の振動と共にステージの
移動時の重心位置の移動により生じる除振台の傾き量が
補正される。
を受けることなく、外乱振動の抑制（制振）効果を向上
させる。 【解決手段】 ステージが移動すると、干渉計（３０
Ｘ、３０Ｙ、３０Ｒ）によりステージの移動位置が計測
され、この干渉計の出力がＫ倍された指令値（ステージ
の移動時の重心位置の移動により生じる除振台の傾き量
を補正するような指令値）制御装置１１の振動制御系に
フィードフォワード入力する。振動制御系では変位セン
サ１０、振動センサ５の出力、及びフィードフォワード
入力された指令値に基づいて除振台の振動を抑制するよ
うにアクチュエータ７Ａ〜７Ｄ、３２Ａ〜３２Ｃを駆動
制御する。これにより、除振台の振動と共にステージの
移動時の重心位置の移動により生じる除振台の傾き量が
補正される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、除振装置及び露光
装置に係り、更に詳しくは、除振台の振動を打ち消すよ
うにアクチュエータにより除振台を駆動するいわゆるア
クティブ方式の除振装置及びこの除振装置を備えた露光
装置に関する。
装置に係り、更に詳しくは、除振台の振動を打ち消すよ
うにアクチュエータにより除振台を駆動するいわゆるア
クティブ方式の除振装置及びこの除振装置を備えた露光
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ステップ・アンド・リピート方式の縮小
投影型露光装置、即ちいわゆるステッパ等の精密機器の
高精度化に伴い、設置床から定盤（除振台）に作用する
微振動をマイクロＧレベルで絶縁する必要が生じてい
る。除振装置の除振台を支持する除振パッドとしてはダ
ンピング液中に圧縮コイルバネを入れた機械式ダンパや
空気式ダンパ等種々のものが使用され、除振パッド自体
がある程度のセンタリング機能を備えている。特に、空
気式ダンパを備えた空気バネ除振装置はバネ定数を小さ
く設定でき、約１０Ｈｚ以上の振動を絶縁することか
ら、精密機器の支持に広く用いられている。また、最近
では従来のパッシブ除振装置の限界を打破するために、
アクティブ除振装置が提案されている（例えば、本願と
同一出願人に係る特願平７−８３５７７号等参照）。こ
れは、除振台の振動をセンサで検出し、このセンサの出
力に基づいてアクチュエータを駆動することにより振動
制御を行う除振装置であり、低周波制御帯域に共振ピー
クの無い理想的な振動絶縁効果を持たせることができる
ものである。
投影型露光装置、即ちいわゆるステッパ等の精密機器の
高精度化に伴い、設置床から定盤（除振台）に作用する
微振動をマイクロＧレベルで絶縁する必要が生じてい
る。除振装置の除振台を支持する除振パッドとしてはダ
ンピング液中に圧縮コイルバネを入れた機械式ダンパや
空気式ダンパ等種々のものが使用され、除振パッド自体
がある程度のセンタリング機能を備えている。特に、空
気式ダンパを備えた空気バネ除振装置はバネ定数を小さ
く設定でき、約１０Ｈｚ以上の振動を絶縁することか
ら、精密機器の支持に広く用いられている。また、最近
では従来のパッシブ除振装置の限界を打破するために、
アクティブ除振装置が提案されている（例えば、本願と
同一出願人に係る特願平７−８３５７７号等参照）。こ
れは、除振台の振動をセンサで検出し、このセンサの出
力に基づいてアクチュエータを駆動することにより振動
制御を行う除振装置であり、低周波制御帯域に共振ピー
クの無い理想的な振動絶縁効果を持たせることができる
ものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ステッパ等では、大き
な加減速を行うＸＹステージ（ウエハステージ）が除振
パッドに保持された定盤上に搭載されており、ＸＹステ
ージの移動と同時に露光装置本体の重心位置が移動す
る。アクティブ除振装置では、このステージ移動に伴
い、本体重心位置が変化したとき、位置制御ループによ
り初期位置に位置決めをするが、ステージ移動量が大き
くなると本体重心位置変化量も大きくなり、本体が傾斜
する。かかる場合に、従来のアクティブ除振装置では、
位置制御ループのゲインを高くすることにより位置制御
応答性を向上させることは可能である。しかしながら、
位置制御ループのゲインを高くすると床振動を本体に伝
えることになり、除振性能を劣化させることになるの
で、位置制御ループのゲインを高くするには限界があ
り、結果的に本体重心位置が移動することにより、本体
−アクチュエータの力のバランスが崩れ、本体が初期位
置からずれてしまう等の不都合が生じるおそれがあっ
た。
な加減速を行うＸＹステージ（ウエハステージ）が除振
パッドに保持された定盤上に搭載されており、ＸＹステ
ージの移動と同時に露光装置本体の重心位置が移動す
る。アクティブ除振装置では、このステージ移動に伴
い、本体重心位置が変化したとき、位置制御ループによ
り初期位置に位置決めをするが、ステージ移動量が大き
くなると本体重心位置変化量も大きくなり、本体が傾斜
する。かかる場合に、従来のアクティブ除振装置では、
位置制御ループのゲインを高くすることにより位置制御
応答性を向上させることは可能である。しかしながら、
位置制御ループのゲインを高くすると床振動を本体に伝
えることになり、除振性能を劣化させることになるの
で、位置制御ループのゲインを高くするには限界があ
り、結果的に本体重心位置が移動することにより、本体
−アクチュエータの力のバランスが崩れ、本体が初期位
置からずれてしまう等の不都合が生じるおそれがあっ
た。
【０００４】本発明は、かかる事情の下になされたもの
で、その目的はステージ移動に伴う本体重心位置移動の
影響を受けることなく、外乱振動の抑制（制振）効果を
向上させることができる除振装置及びこれを備えた露光
装置を提供することにある。
で、その目的はステージ移動に伴う本体重心位置移動の
影響を受けることなく、外乱振動の抑制（制振）効果を
向上させることができる除振装置及びこれを備えた露光
装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明に
係る除振装置は、少なくとも３個の除振パッドを介して
水平に保持された除振台と；前記除振台上で移動する少
なくとも一つのステージと；前記除振台を異なる箇所で
鉛直方向に駆動する少なくとも３つのアクチュエータを
含む複数のアクチュエータと；前記除振台の変位を検出
する１又は２以上の変位センサと；前記除振台の振動を
検出する１又は２以上の振動センサと；前記変位センサ
及び振動センサの出力に基づいて前記除振台の振動を抑
制するように前記各アクチュエータを駆動制御する振動
制御系と；前記各ステージの移動位置を計測する位置計
測手段と；前記ステージの移動時の重心位置の移動によ
り生じる前記除振台の傾き量を前記位置計測手段の出力
に基づいて予測し、この傾き量を補正するような指令値
を前記振動制御系にフィードフォワード入力する振動補
償系とを有する。
係る除振装置は、少なくとも３個の除振パッドを介して
水平に保持された除振台と；前記除振台上で移動する少
なくとも一つのステージと；前記除振台を異なる箇所で
鉛直方向に駆動する少なくとも３つのアクチュエータを
含む複数のアクチュエータと；前記除振台の変位を検出
する１又は２以上の変位センサと；前記除振台の振動を
検出する１又は２以上の振動センサと；前記変位センサ
及び振動センサの出力に基づいて前記除振台の振動を抑
制するように前記各アクチュエータを駆動制御する振動
制御系と；前記各ステージの移動位置を計測する位置計
測手段と；前記ステージの移動時の重心位置の移動によ
り生じる前記除振台の傾き量を前記位置計測手段の出力
に基づいて予測し、この傾き量を補正するような指令値
を前記振動制御系にフィードフォワード入力する振動補
償系とを有する。
【０００６】これによれば、ステージが移動すると、位
置計測手段によりステージの移動位置が計測される。振
動補償系ではこの位置計測手段の出力に基づいてステー
ジの移動時の重心位置の移動により生じる除振台の傾き
量を予測し、この傾き量を補正するような指令値を振動
制御系にフィードフォワード入力する。振動制御系では
変位センサ、振動センサの出力、及びフィードフォワー
ド入力された指令値に基づいて除振台の振動を抑制する
ように各アクチュエータを駆動制御する。これにより、
除振台の振動と共にステージの移動時の重心位置の移動
により生じる除振台の傾き量が補正される。この場合に
おいて、振動制御系のゲインを必要以上に大きくする必
要がないので、除振性能を劣化させることもない。従っ
て、ステージ移動に伴う本体重心位置移動の影響を受け
ることなく、外乱振動の抑制（制振）効果を向上させる
ことができる請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の除振装置において、前記ステージの移動開始直後及び
停止直前の加速度と逆向きの反力の指令値を前記振動制
御系にフィードフォワード入力するスキャンカウンタを
更に有する。
置計測手段によりステージの移動位置が計測される。振
動補償系ではこの位置計測手段の出力に基づいてステー
ジの移動時の重心位置の移動により生じる除振台の傾き
量を予測し、この傾き量を補正するような指令値を振動
制御系にフィードフォワード入力する。振動制御系では
変位センサ、振動センサの出力、及びフィードフォワー
ド入力された指令値に基づいて除振台の振動を抑制する
ように各アクチュエータを駆動制御する。これにより、
除振台の振動と共にステージの移動時の重心位置の移動
により生じる除振台の傾き量が補正される。この場合に
おいて、振動制御系のゲインを必要以上に大きくする必
要がないので、除振性能を劣化させることもない。従っ
て、ステージ移動に伴う本体重心位置移動の影響を受け
ることなく、外乱振動の抑制（制振）効果を向上させる
ことができる請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の除振装置において、前記ステージの移動開始直後及び
停止直前の加速度と逆向きの反力の指令値を前記振動制
御系にフィードフォワード入力するスキャンカウンタを
更に有する。
【０００７】これによれば、スキャンカウンタによりス
テージの移動開始直後及び停止直前の加速度と逆向きの
反力の指令値が振動制御系にフィードフォワード入力さ
れていることから、振動制御系によりステージの移動開
始直後及び停止直前に発生する除振台に生ずる振動を抑
制するようにアクチュエータが駆動制御される。従っ
て、求項１に記載の発明に比べてもより一層制振効果を
向上させることができる。
テージの移動開始直後及び停止直前の加速度と逆向きの
反力の指令値が振動制御系にフィードフォワード入力さ
れていることから、振動制御系によりステージの移動開
始直後及び停止直前に発生する除振台に生ずる振動を抑
制するようにアクチュエータが駆動制御される。従っ
て、求項１に記載の発明に比べてもより一層制振効果を
向上させることができる。
【０００８】請求項３に記載の発明に係る露光装置は、
マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板
ステージ上の感光基板に転写する露光装置であって、前
記請求項１又は２に記載の除振装置を露光本体部の除振
装置として具備することを特徴とする。
マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板
ステージ上の感光基板に転写する露光装置であって、前
記請求項１又は２に記載の除振装置を露光本体部の除振
装置として具備することを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態につい
て、図１ないし図３に基づいて説明する。
て、図１ないし図３に基づいて説明する。
【００１０】図１には、一実施形態に係るステップ・ア
ンド・スキャン型の露光装置１００の概略斜視図が示さ
れている。この図１において、設置面としての床上に長
方形板状の台座２が設置され、この台座２上に除振パッ
ド４Ａ〜４Ｄ（但し、図１では紙面奥側の除振パッド４
Ｄは図示せず）が設置され、これらの除振パッド４Ａ〜
４Ｄ上に除振台としての長方形状の定盤６が設置されて
いる。ここで、後述するように本実施形態では投影光学
系ＰＬが使用されているため、投影光学系ＰＬの光軸に
平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に直交する平面内で定盤６の長
手方向にＸ軸を、これに直交する方向にＹ軸を取る。ま
た、それぞれの軸回りの回転方向をＺθ、Ｘθ、Ｙθ方
向と定める。なお、以下の説明において、必要に応じ、
図１中のＸ、Ｙ、Ｚ軸を示す各矢印の示す方向を＋Ｘ、
＋Ｙ、＋Ｚ方向、これと反対の方向を−Ｘ、−Ｙ、−Ｚ
方向と区別して用いるものとする。
ンド・スキャン型の露光装置１００の概略斜視図が示さ
れている。この図１において、設置面としての床上に長
方形板状の台座２が設置され、この台座２上に除振パッ
ド４Ａ〜４Ｄ（但し、図１では紙面奥側の除振パッド４
Ｄは図示せず）が設置され、これらの除振パッド４Ａ〜
４Ｄ上に除振台としての長方形状の定盤６が設置されて
いる。ここで、後述するように本実施形態では投影光学
系ＰＬが使用されているため、投影光学系ＰＬの光軸に
平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に直交する平面内で定盤６の長
手方向にＸ軸を、これに直交する方向にＹ軸を取る。ま
た、それぞれの軸回りの回転方向をＺθ、Ｘθ、Ｙθ方
向と定める。なお、以下の説明において、必要に応じ、
図１中のＸ、Ｙ、Ｚ軸を示す各矢印の示す方向を＋Ｘ、
＋Ｙ、＋Ｚ方向、これと反対の方向を−Ｘ、−Ｙ、−Ｚ
方向と区別して用いるものとする。
【００１１】除振パッド４Ａ〜４Ｄは、それぞれ定盤６
の長方形の底面の４個の頂点付近に配置されている。本
実施形態では、除振パッド４Ａ〜４Ｄとして空気式ダン
パが使用され、空気の圧力により除振パッド４Ａ〜４Ｄ
の高さを調整できるため、その空気式ダンパは上下動機
構の役目をも兼ねている。勿論、上下動機構を別に設け
てダンピング液中に圧縮コイルばねを入れた機械式ダン
パ等を除振パッドとして使用してもよい。
の長方形の底面の４個の頂点付近に配置されている。本
実施形態では、除振パッド４Ａ〜４Ｄとして空気式ダン
パが使用され、空気の圧力により除振パッド４Ａ〜４Ｄ
の高さを調整できるため、その空気式ダンパは上下動機
構の役目をも兼ねている。勿論、上下動機構を別に設け
てダンピング液中に圧縮コイルばねを入れた機械式ダン
パ等を除振パッドとして使用してもよい。
【００１２】台座２と定盤６との間に除振パッド４Ａと
並列にアクチュエータ７Ａが設置されている。アクチュ
エータ７Ａは、台座２上に固定された固定子９Ａと定盤
６の底面に固定された可動子８Ａとから構成され、制御
装置１１（図１では図示省略、図３参照）からの指示に
応じて台座２から定盤６の底面に対するＺ方向の付勢
力、又は定盤６の底面から台座２に向かう吸引力を発生
する。他の除振パッド４Ｂ〜４Ｄにおいても、除振パッ
ド４Ａと同様にそれぞれ並列にアクチュエータ７Ｂ〜７
Ｄが設置され（但し、図１では紙面奥側のアクチュエー
タ７Ｃ、７Ｄは図示せず）、これらのアクチュエータ７
Ｂ〜７Ｄの付勢力又は吸引力もそれぞれ制御装置１１
（図１では図示省略、図３参照）により設定される。ア
クチュエータ７Ａ〜７Ｄの制御方法については、後述す
る。
並列にアクチュエータ７Ａが設置されている。アクチュ
エータ７Ａは、台座２上に固定された固定子９Ａと定盤
６の底面に固定された可動子８Ａとから構成され、制御
装置１１（図１では図示省略、図３参照）からの指示に
応じて台座２から定盤６の底面に対するＺ方向の付勢
力、又は定盤６の底面から台座２に向かう吸引力を発生
する。他の除振パッド４Ｂ〜４Ｄにおいても、除振パッ
ド４Ａと同様にそれぞれ並列にアクチュエータ７Ｂ〜７
Ｄが設置され（但し、図１では紙面奥側のアクチュエー
タ７Ｃ、７Ｄは図示せず）、これらのアクチュエータ７
Ｂ〜７Ｄの付勢力又は吸引力もそれぞれ制御装置１１
（図１では図示省略、図３参照）により設定される。ア
クチュエータ７Ａ〜７Ｄの制御方法については、後述す
る。
【００１３】次に、アクチュエータ７Ａの具体的構成に
ついて図２に基づいて説明する。
ついて図２に基づいて説明する。
【００１４】図２（ａ）には、アクチュエータ７Ａの構
成の一例が示されている。この図２（ａ）において、固
定子９Ａは、Ｎ極の軸９Ａａの両側にＳ極の軸９Ａｂ，
９Ａｃが形成された発磁体よりなる。また、可動子８Ａ
は、軸９Ａａに遊嵌する内筒１２、この内筒１２の外側
に巻回されたコイル１３、及びこのコイル１３を覆う外
筒１４より構成され、コイル１３に流れる電流を調整す
ることにより、固定子９Ａと可動子８Ａとの間に軸９Ａ
ａに平行な方向（±Ｚ方向）の力が発生する。
成の一例が示されている。この図２（ａ）において、固
定子９Ａは、Ｎ極の軸９Ａａの両側にＳ極の軸９Ａｂ，
９Ａｃが形成された発磁体よりなる。また、可動子８Ａ
は、軸９Ａａに遊嵌する内筒１２、この内筒１２の外側
に巻回されたコイル１３、及びこのコイル１３を覆う外
筒１４より構成され、コイル１３に流れる電流を調整す
ることにより、固定子９Ａと可動子８Ａとの間に軸９Ａ
ａに平行な方向（±Ｚ方向）の力が発生する。
【００１５】図２（ｂ）には、アクチュエータ７Ａの別
の例が示されている。この図２（ｂ）において、第１部
材１５に磁性体の固定子１６が固定され、第２部材１７
に固定子１６を挟むように内筒１８Ａ及び１８Ｂが固定
され、内筒１８Ａ及び１８Ｂの外側にそれぞれコイル１
９Ａ及び１９Ｂが巻回されている。この場合も、コイル
１９Ａ及び１９Ｂに流す電流を調整することにより、第
１部材１５と第２部材１７との間の吸引力のバランスを
変化させて力を発生する。その他のアクチュエータ７Ｂ
〜７Ｄもアクチュエータ７Ａと同様に構成されている。
の例が示されている。この図２（ｂ）において、第１部
材１５に磁性体の固定子１６が固定され、第２部材１７
に固定子１６を挟むように内筒１８Ａ及び１８Ｂが固定
され、内筒１８Ａ及び１８Ｂの外側にそれぞれコイル１
９Ａ及び１９Ｂが巻回されている。この場合も、コイル
１９Ａ及び１９Ｂに流す電流を調整することにより、第
１部材１５と第２部材１７との間の吸引力のバランスを
変化させて力を発生する。その他のアクチュエータ７Ｂ
〜７Ｄもアクチュエータ７Ａと同様に構成されている。
【００１６】図１に戻り、定盤６の＋Ｙ方向側の側面に
は、定盤６のＺ方向加速度を検出する振動センサとして
の加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 が取り付けられている。
また、定盤６上面の＋Ｙ方向端部には定盤６のＹ方向加
速度を検出する振動センサとしての加速度センサ５
Ｙ1 、５Ｙ2 が取り付けられ、定盤６上面の＋Ｘ方向端
部には定盤６のＸ方向加速度を検出する振動センサとし
ての加速度センサ５Ｘが取り付けられている。これらの
加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘと
しては、例えば半導体式加速度センサが使用される。こ
れらの加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、
５Ｘの出力も制御装置１１（図１では図示省略、図３参
照）に供給されている。
は、定盤６のＺ方向加速度を検出する振動センサとして
の加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 が取り付けられている。
また、定盤６上面の＋Ｙ方向端部には定盤６のＹ方向加
速度を検出する振動センサとしての加速度センサ５
Ｙ1 、５Ｙ2 が取り付けられ、定盤６上面の＋Ｘ方向端
部には定盤６のＸ方向加速度を検出する振動センサとし
ての加速度センサ５Ｘが取り付けられている。これらの
加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘと
しては、例えば半導体式加速度センサが使用される。こ
れらの加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、
５Ｘの出力も制御装置１１（図１では図示省略、図３参
照）に供給されている。
【００１７】また、定盤６の＋Ｙ方向側の側面には、所
定面積の矩形の金属板（導電性材料）２３1 、２３2 が
貼り付けられている。本実施形態では、定盤６として非
導電性材料であるセラミックス製の定盤が使用されてお
り、金属板２３1 、２３2 に対向する位置に定盤のＹ方
向変位を検出する変位センサ１０Ｙ1 、１０Ｙ2 （図１
では図面の錯綜をさけるため図示省略、図３参照）が設
けられている。これらの変位センサ１０Ｙ1 、１０Ｙ2
としては、例えば、渦電流変位センサが使用される。こ
の渦電流変位センサによれば、予め絶縁体に巻いたコイ
ルに交流電圧を加えておき、導電性材料（導電体）から
成る測定対象に近づけると、コイルによって作られた交
流磁界によって導電体に渦電流が発生し、この渦電流に
よって発生する磁界は、コイルの電流によって作られた
磁界と逆方向であり、これら２つの磁界が重なり合っ
て、コイルの出力に影響を与え、コイルに流れる電流の
強さ及び位相が変化する。この変化は、対象がコイルに
近いほど大きくなり、逆に遠いほど小さくなるので、コ
イルから電気信号を取り出すことにより、対象の位置、
変位を知る事ができる。この他、変位センサとして、静
電容量がセンサの電極と測定対象物間の距離に反比例す
ることを利用して非接触でセンサと測定対象物間の距離
を検出する静電容量式非接触変位センサを使用しても良
い。なお、背景光の影響を阻止できる構成にすれば、変
位センサとしてＰＳＤ（半導体光位置検出器）を使用す
ることも可能である。
定面積の矩形の金属板（導電性材料）２３1 、２３2 が
貼り付けられている。本実施形態では、定盤６として非
導電性材料であるセラミックス製の定盤が使用されてお
り、金属板２３1 、２３2 に対向する位置に定盤のＹ方
向変位を検出する変位センサ１０Ｙ1 、１０Ｙ2 （図１
では図面の錯綜をさけるため図示省略、図３参照）が設
けられている。これらの変位センサ１０Ｙ1 、１０Ｙ2
としては、例えば、渦電流変位センサが使用される。こ
の渦電流変位センサによれば、予め絶縁体に巻いたコイ
ルに交流電圧を加えておき、導電性材料（導電体）から
成る測定対象に近づけると、コイルによって作られた交
流磁界によって導電体に渦電流が発生し、この渦電流に
よって発生する磁界は、コイルの電流によって作られた
磁界と逆方向であり、これら２つの磁界が重なり合っ
て、コイルの出力に影響を与え、コイルに流れる電流の
強さ及び位相が変化する。この変化は、対象がコイルに
近いほど大きくなり、逆に遠いほど小さくなるので、コ
イルから電気信号を取り出すことにより、対象の位置、
変位を知る事ができる。この他、変位センサとして、静
電容量がセンサの電極と測定対象物間の距離に反比例す
ることを利用して非接触でセンサと測定対象物間の距離
を検出する静電容量式非接触変位センサを使用しても良
い。なお、背景光の影響を阻止できる構成にすれば、変
位センサとしてＰＳＤ（半導体光位置検出器）を使用す
ることも可能である。
【００１８】また、定盤６上面の＋Ｙ方向端部には所定
面積の金属版２３3 、２３4 が貼り付けられている。こ
れらの金属板２３3 、２３4 に対向して定盤６のＺ方向
変位を検出する渦電流変位センサから成る変位センサ１
０Ｚ1 、１０Ｚ2 （図１では図示省略、図３参照）が設
けられている。さらに、定盤６上面の＋Ｘ方向の側面に
は所定面積の金属板２３5 が貼り付けられ、この金属板
２３5 に対向して定盤６のＸ方向変位を検出する渦電流
変位センサから成る変位センサ１０Ｘ（図１では図示省
略、図３参照）が設けられている。変位センサ１０
Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｘの出力も
制御装置１１（図１では図示省略、図３参照）に供給さ
れている。
面積の金属版２３3 、２３4 が貼り付けられている。こ
れらの金属板２３3 、２３4 に対向して定盤６のＺ方向
変位を検出する渦電流変位センサから成る変位センサ１
０Ｚ1 、１０Ｚ2 （図１では図示省略、図３参照）が設
けられている。さらに、定盤６上面の＋Ｘ方向の側面に
は所定面積の金属板２３5 が貼り付けられ、この金属板
２３5 に対向して定盤６のＸ方向変位を検出する渦電流
変位センサから成る変位センサ１０Ｘ（図１では図示省
略、図３参照）が設けられている。変位センサ１０
Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｘの出力も
制御装置１１（図１では図示省略、図３参照）に供給さ
れている。
【００１９】定盤６上には図示しない駆動手段によって
ＸＹ２次元方向に駆動される基板ステージとしてのＸＹ
ステージ２０が載置されている。更に、このＸＹステー
ジ２０上にＺレベリングステージ、θステージ（いずれ
も図示省略）及びウエハホルダ２１を介して感光基板と
してのウエハＷが吸着保持されている。また、定盤６上
でＸＹステージ２０を囲むように第１コラム２４が植設
され、第１コラム２４の上板の中央部に投影光学系ＰＬ
が固定され、第１コラム２４の上板に投影光学系ＰＬを
囲むように第２コラム２６が植設され、第２コラム２６
の上板の中央部にレチクルステージ２７を介してマスク
としてのレチクルＲが載置されている。
ＸＹ２次元方向に駆動される基板ステージとしてのＸＹ
ステージ２０が載置されている。更に、このＸＹステー
ジ２０上にＺレベリングステージ、θステージ（いずれ
も図示省略）及びウエハホルダ２１を介して感光基板と
してのウエハＷが吸着保持されている。また、定盤６上
でＸＹステージ２０を囲むように第１コラム２４が植設
され、第１コラム２４の上板の中央部に投影光学系ＰＬ
が固定され、第１コラム２４の上板に投影光学系ＰＬを
囲むように第２コラム２６が植設され、第２コラム２６
の上板の中央部にレチクルステージ２７を介してマスク
としてのレチクルＲが載置されている。
【００２０】ＸＹステージ２０のＹ方向の移動位置は、
位置計測手段としてのＹ軸用レーザ干渉計３０Ｙによっ
て計測され、ＸＹステージ２０のＸ方向の移動位置は、
位置計測手段としてのＸ軸用レーザ干渉計３０Ｘによっ
て計測されるようになっており、これらのレーザ干渉計
３０Ｙ、３０Ｘの出力は制御装置１１（図３参照）及び
図示しない主制御装置に入力されている。Ｚレベリング
ステージは、Ｚ軸方向の駆動及びＺ軸に対する傾斜が調
整可能に構成され、θステージはＺ軸回りの微小回転が
可能に構成されている。従って、ＸＹステージ２０、Ｚ
レベリングステージ及びθステージによって、ウエハＷ
は３次元的に位置決めが可能となっている。
位置計測手段としてのＹ軸用レーザ干渉計３０Ｙによっ
て計測され、ＸＹステージ２０のＸ方向の移動位置は、
位置計測手段としてのＸ軸用レーザ干渉計３０Ｘによっ
て計測されるようになっており、これらのレーザ干渉計
３０Ｙ、３０Ｘの出力は制御装置１１（図３参照）及び
図示しない主制御装置に入力されている。Ｚレベリング
ステージは、Ｚ軸方向の駆動及びＺ軸に対する傾斜が調
整可能に構成され、θステージはＺ軸回りの微小回転が
可能に構成されている。従って、ＸＹステージ２０、Ｚ
レベリングステージ及びθステージによって、ウエハＷ
は３次元的に位置決めが可能となっている。
【００２１】レチクルステージ２７は、レチクルＲのＹ
軸方向の微調整、及び回転角の調整が可能に構成されて
いる。また、このレチクルステージ２７は、図示しない
駆動手段によってＸ方向に駆動されるようになってお
り、このレチクルステージ２７のＸ方向位置は位置計測
手段としてのレチクルレーザ干渉計３０Ｒによって計測
され、このレチクルレーザ干渉計３０Ｒの出力も制御装
置１１（図３参照）及び図示しない主制御装置に入力さ
れている。
軸方向の微調整、及び回転角の調整が可能に構成されて
いる。また、このレチクルステージ２７は、図示しない
駆動手段によってＸ方向に駆動されるようになってお
り、このレチクルステージ２７のＸ方向位置は位置計測
手段としてのレチクルレーザ干渉計３０Ｒによって計測
され、このレチクルレーザ干渉計３０Ｒの出力も制御装
置１１（図３参照）及び図示しない主制御装置に入力さ
れている。
【００２２】更に、レチクルＲの上方には、図示しない
照明光学系が配置され、図示しない主制御装置ではレチ
クルＲ及びウエハＷの相対位置合わせ（アライメント）
及び図示しない焦点検出系によるオートフォーカスを行
ないつつ、照明光学系からの露光用の照明光ＥＬの下
で、レチクルＲのパターンの投影光学系ＰＬを介した像
をウエハＷの各ショット領域に順次露光するようになっ
ている。本実施形態では、各ショット領域の露光に際し
ては主制御装置によりＸＹステージ２０とレチクルステ
ージ２７とがそれぞれの駆動手段を介してＸ軸方向（走
査方向）に沿って所定の速度比で相対走査される。
照明光学系が配置され、図示しない主制御装置ではレチ
クルＲ及びウエハＷの相対位置合わせ（アライメント）
及び図示しない焦点検出系によるオートフォーカスを行
ないつつ、照明光学系からの露光用の照明光ＥＬの下
で、レチクルＲのパターンの投影光学系ＰＬを介した像
をウエハＷの各ショット領域に順次露光するようになっ
ている。本実施形態では、各ショット領域の露光に際し
ては主制御装置によりＸＹステージ２０とレチクルステ
ージ２７とがそれぞれの駆動手段を介してＸ軸方向（走
査方向）に沿って所定の速度比で相対走査される。
【００２３】第１コラム２４は、４本の脚部２４ａ〜２
４ｄ（但し、図１では紙面奥側の脚部２４ｄは図示せ
ず）により定盤６上に接触している。脚部２４ｂの＋Ｘ
方向の側面には、第１コラム２４のＺ方向の加速度を検
出する加速度センサ５Ｚ3 が取り付けられている。この
加速度センサ５Ｚ3 としては、例えばピエゾ抵抗効果型
あるいは静電容量型の半導体式加速度センサが使用され
る。この加速度センサ５Ｚ3 の出力も制御装置１１（図
１では図示省略、図３参照）に入力されている。また、
第１コラム２４の上板上面の＋Ｙ方向端部でかつ＋Ｘ方
向端部となるコーナーの部分には、所定面積の金属板２
３6 が貼り付けられている。この金属板２３6 に対向し
て第１コラム２４のＺ方向変位を検出する渦電流変位セ
ンサから成る変位センサ１０Ｚ3 （図１では図示省略、
図３参照）が設けられている。
４ｄ（但し、図１では紙面奥側の脚部２４ｄは図示せ
ず）により定盤６上に接触している。脚部２４ｂの＋Ｘ
方向の側面には、第１コラム２４のＺ方向の加速度を検
出する加速度センサ５Ｚ3 が取り付けられている。この
加速度センサ５Ｚ3 としては、例えばピエゾ抵抗効果型
あるいは静電容量型の半導体式加速度センサが使用され
る。この加速度センサ５Ｚ3 の出力も制御装置１１（図
１では図示省略、図３参照）に入力されている。また、
第１コラム２４の上板上面の＋Ｙ方向端部でかつ＋Ｘ方
向端部となるコーナーの部分には、所定面積の金属板２
３6 が貼り付けられている。この金属板２３6 に対向し
て第１コラム２４のＺ方向変位を検出する渦電流変位セ
ンサから成る変位センサ１０Ｚ3 （図１では図示省略、
図３参照）が設けられている。
【００２４】更に、第１コラム２４の−Ｘ方向の側面に
可動軸３５Ａが埋め込まれ、可動軸３５Ａと床上に固定
された図示しない支柱との間にアクチュエータ３２Ａが
取り付けられている。アクチュエータ３２Ａは、アクチ
ュエータ７Ａと同様に、図示しない支柱に固定された発
磁体よりなる固定子３４Ａと、可動軸３５Ａに取り付け
られたコイルを含む可動子３３Ａとから構成され、制御
装置１１から可動子３３Ａ内のコイルに流れる電流を調
整することにより、可動軸３５Ａに対して±Ｙ方向に力
を与えることができる。同様に、第１コラム２４の＋Ｘ
方向の側面に可動軸３５Ｂが埋め込まれ、可動軸３５Ｂ
と床上に固定された図示しない支柱との間に、アクチュ
エータ３２Ａと同一構成のアクチュエータ３２Ｂが取り
付けられ、制御装置１１からの指示により可動軸３５Ｂ
に対して±Ｙ方向に力を与えることができるようになっ
ている。また、第１コラム２４の＋Ｘ方向の側面の中央
部と床上の図示しない支柱との間に、アクチュエータ３
２Ａと同一構成のアクチュエータ３２Ｃが設置され、制
御装置１１からの指示によりアクチュエータ３２Ｃを介
して第１コラム２４に対して±Ｘ方向に力を与えること
ができる。制御装置１１による、アクチュエータ３２Ａ
〜３２Ｃの制御方法についても後述する。
可動軸３５Ａが埋め込まれ、可動軸３５Ａと床上に固定
された図示しない支柱との間にアクチュエータ３２Ａが
取り付けられている。アクチュエータ３２Ａは、アクチ
ュエータ７Ａと同様に、図示しない支柱に固定された発
磁体よりなる固定子３４Ａと、可動軸３５Ａに取り付け
られたコイルを含む可動子３３Ａとから構成され、制御
装置１１から可動子３３Ａ内のコイルに流れる電流を調
整することにより、可動軸３５Ａに対して±Ｙ方向に力
を与えることができる。同様に、第１コラム２４の＋Ｘ
方向の側面に可動軸３５Ｂが埋め込まれ、可動軸３５Ｂ
と床上に固定された図示しない支柱との間に、アクチュ
エータ３２Ａと同一構成のアクチュエータ３２Ｂが取り
付けられ、制御装置１１からの指示により可動軸３５Ｂ
に対して±Ｙ方向に力を与えることができるようになっ
ている。また、第１コラム２４の＋Ｘ方向の側面の中央
部と床上の図示しない支柱との間に、アクチュエータ３
２Ａと同一構成のアクチュエータ３２Ｃが設置され、制
御装置１１からの指示によりアクチュエータ３２Ｃを介
して第１コラム２４に対して±Ｘ方向に力を与えること
ができる。制御装置１１による、アクチュエータ３２Ａ
〜３２Ｃの制御方法についても後述する。
【００２５】ここで、露光装置１００の設置時の定盤６
の高さ及び水平レベルの調整について簡単に説明する
と、変位センサ１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｚ3 で計測さ
れた定盤６のＺ方向変位（高さ）が図示しない除振パッ
ド４Ａ〜４Ｄの制御系（図示省略）に伝えられ、これら
のデータを基に除振パッド４Ａ〜４Ｄの制御系は、定盤
６の高さを予め設定されている値にすると共に水平レベ
ルを維持するための各除振パッド４Ａ〜４Ｄの高さを算
出する。その後、この制御系は、除振パッド４Ａ〜４Ｄ
の高さをそれぞれその算出された高さに設定する。その
後、除振パッド４Ａ〜４Ｄの高さはそれぞれその設定値
に維持される。これにより、定盤６に歪みが生ずること
がなく、定盤６上のＸＹステージ２０の位置決め精度等
が高精度に維持される。
の高さ及び水平レベルの調整について簡単に説明する
と、変位センサ１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｚ3 で計測さ
れた定盤６のＺ方向変位（高さ）が図示しない除振パッ
ド４Ａ〜４Ｄの制御系（図示省略）に伝えられ、これら
のデータを基に除振パッド４Ａ〜４Ｄの制御系は、定盤
６の高さを予め設定されている値にすると共に水平レベ
ルを維持するための各除振パッド４Ａ〜４Ｄの高さを算
出する。その後、この制御系は、除振パッド４Ａ〜４Ｄ
の高さをそれぞれその算出された高さに設定する。その
後、除振パッド４Ａ〜４Ｄの高さはそれぞれその設定値
に維持される。これにより、定盤６に歪みが生ずること
がなく、定盤６上のＸＹステージ２０の位置決め精度等
が高精度に維持される。
【００２６】本実施形態では、定盤６、ＸＹステージ２
０、ウエハホルダ２１、第１コラム２４、投影光学系Ｐ
Ｌ、第２コラム２６、及びレチクルステージ２７等によ
り露光本体部４０（図３参照）が構成されている。
０、ウエハホルダ２１、第１コラム２４、投影光学系Ｐ
Ｌ、第２コラム２６、及びレチクルステージ２７等によ
り露光本体部４０（図３参照）が構成されている。
【００２７】次に、この露光本体部４０の除振のための
アクチュエータ７Ａ〜７Ｄ、３２Ａ〜３２Ｃの制御系に
ついて、制御装置１１を中心に、図３のブロック図に基
づいて説明する。
アクチュエータ７Ａ〜７Ｄ、３２Ａ〜３２Ｃの制御系に
ついて、制御装置１１を中心に、図３のブロック図に基
づいて説明する。
【００２８】制御装置１１は、変位センサ１０Ｚ1 、１
０Ｚ2 、１０Ｚ3 、１０Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｘ及び加
速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｚ3 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、
５Ｘの出力に基づいて定盤６を含む露光本体部４０の振
動を抑制するようにアクチュエータ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、
７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃを駆動制御する振動制御
系と、ＸＹステージ２０、レチクルステージ２７の移動
時、例えばスキャン露光のためのＸＹステージ２０、レ
チクルステージ２７の走査時の重心位置の移動により生
じる定盤６の傾き量を干渉計３０Ｘ、３０Ｙ、３０Ｒの
出力に基づいて予測し、この傾き量を補正するような指
令値を振動制御系にフィードフォワード入力する振動補
償系とを有する。
０Ｚ2 、１０Ｚ3 、１０Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｘ及び加
速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｚ3 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、
５Ｘの出力に基づいて定盤６を含む露光本体部４０の振
動を抑制するようにアクチュエータ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ、
７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃを駆動制御する振動制御
系と、ＸＹステージ２０、レチクルステージ２７の移動
時、例えばスキャン露光のためのＸＹステージ２０、レ
チクルステージ２７の走査時の重心位置の移動により生
じる定盤６の傾き量を干渉計３０Ｘ、３０Ｙ、３０Ｒの
出力に基づいて予測し、この傾き量を補正するような指
令値を振動制御系にフィードフォワード入力する振動補
償系とを有する。
【００２９】これを更に詳述すると、振動制御系は、変
位センサ１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｚ3 、１０Ｙ1 、１
０Ｙ2 、１０Ｘの出力を図示しないＡ／Ｄコンバータを
それぞれ介して入力し、露光本体部４０の重心Ｇの６自
由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｘθ、Ｙθ、Ｚθ：図１参照）
の変位量（ｘ、ｙ、ｚ、θx 、θy 、θz ）に変換する
第１の座標変換部４２と、この第１の座標変換部４２で
変換後の重心の６自由度方向の変位量（ｘ、ｙ、ｚ、θ
x 、θy 、θz ）を目標値出力部４４から入力される６
自由度方向の重心位置の目標値（ｘ0 、ｙ0 、ｚ0 、θ
x0 、θy0 、θ z0）からそれぞれ減じて６自由度のそれ
ぞれの方向の位置偏差（Δｘ＝ｘ0 −ｘ、Δｙ＝ｙ0 −
ｙ、Δｚ＝ｚ0 −ｚ、Δθx ＝θx0−θx 、Δθy ＝θ
y0−θy、Δθz ＝θz0−θz ）をそれぞれ算出する６
つの減算器４６ａ〜４６ｆと、６自由度のそれぞれの方
向の位置偏差Δｘ、Δｙ、Δｚ、Δθx 、Δθy 、Δθ
zを動作信号として制御動作を行なうＰＩコントローラ
から成る６自由度のそれぞれの方向の位置コントローラ
ＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰ
Ｉと、加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｚ3 、５Ｙ1 、
５Ｙ2 、５Ｘの出力を図示しないＡ／Ｄコンバータをそ
れぞれ介して入力し、重心Ｇの６自由度方向の加速度
（ｘ”、ｙ”、ｚ”、θx ”、θy ”、θz ”）に変換
する第２の座標変換部４８と、この第２の座標変換部４
８で変換後の重心Ｇの６自由度方向の加速度ｘ”、
ｙ”、ｚ”、θx ”、θy ”、θz ”をそれぞれ積分し
てそれぞれの方向の重心Ｇの速度ｘ’、ｙ’、ｚ’、θ
x ’、θy ’、θz ’に変換する６つの積分器５０ａ〜
５０ｆと、位置コントローラＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、
ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰＩの出力を速度指令値
ｘ0 ’、ｙ0 ’、ｚ0 ’、θx0’、θy0’、θz0’にそ
れぞれ変換する速度変換ゲイン５２ａ〜５２ｆと、この
変換後の速度指令値ｘ0 ’、ｙ0 ’、ｚ0 ’、θx0’、
θy0’、θz0’から積分器５０ａ〜５０ｆの出力ｘ’、
ｙ’、ｚ’、θx ’、θy ’、θz ’をそれぞれ減じて
６自由度方向のそれぞれの方向の速度偏差（Δｘ’＝ｘ
0 ’−ｘ’、Δｙ’＝ｙ0 ’−ｙ’、Δｚ’＝ｚ0 ’−
ｚ’、Δθx ’＝θx0’−θx ’、Δθy ’＝θy0’−
θy ’、Δθz ’＝θz0’−θz ’）を算出する６つの
減算器５４ａ〜５４ｆと、６自由度のそれぞれの方向の
速度偏差Δｘ’、Δｙ’、Δｚ’、Δθx ’、Δ
θy ’、Δθz ’を動作信号として制御動作を行なうＰ
Ｉコントローラから成る６自由度のそれぞれの方向の速
度コントローラＶＸＰＩ、ＶＹＰＩ、ＶＺＰＩ、ＶＸθ
ＰＩ、ＶＹθＰＩ、ＶＺθＰＩと、これらのコントロー
ラで演算された６自由度のそれぞれの方向の速度制御量
を各アクチュエータの位置で発生すべき速度指令値に変
換するための非干渉化演算を行なう非干渉化計算部５６
と、この非干渉化計算部５６で変換後の各アクチュエー
タの位置で発生すべき速度指令値を各アクチュエータで
発生すべき推力にそれぞれ変換する推力ゲイン５８ａ〜
５８ｇとを有する。
位センサ１０Ｚ1 、１０Ｚ2 、１０Ｚ3 、１０Ｙ1 、１
０Ｙ2 、１０Ｘの出力を図示しないＡ／Ｄコンバータを
それぞれ介して入力し、露光本体部４０の重心Ｇの６自
由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｘθ、Ｙθ、Ｚθ：図１参照）
の変位量（ｘ、ｙ、ｚ、θx 、θy 、θz ）に変換する
第１の座標変換部４２と、この第１の座標変換部４２で
変換後の重心の６自由度方向の変位量（ｘ、ｙ、ｚ、θ
x 、θy 、θz ）を目標値出力部４４から入力される６
自由度方向の重心位置の目標値（ｘ0 、ｙ0 、ｚ0 、θ
x0 、θy0 、θ z0）からそれぞれ減じて６自由度のそれ
ぞれの方向の位置偏差（Δｘ＝ｘ0 −ｘ、Δｙ＝ｙ0 −
ｙ、Δｚ＝ｚ0 −ｚ、Δθx ＝θx0−θx 、Δθy ＝θ
y0−θy、Δθz ＝θz0−θz ）をそれぞれ算出する６
つの減算器４６ａ〜４６ｆと、６自由度のそれぞれの方
向の位置偏差Δｘ、Δｙ、Δｚ、Δθx 、Δθy 、Δθ
zを動作信号として制御動作を行なうＰＩコントローラ
から成る６自由度のそれぞれの方向の位置コントローラ
ＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰ
Ｉと、加速度センサ５Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｚ3 、５Ｙ1 、
５Ｙ2 、５Ｘの出力を図示しないＡ／Ｄコンバータをそ
れぞれ介して入力し、重心Ｇの６自由度方向の加速度
（ｘ”、ｙ”、ｚ”、θx ”、θy ”、θz ”）に変換
する第２の座標変換部４８と、この第２の座標変換部４
８で変換後の重心Ｇの６自由度方向の加速度ｘ”、
ｙ”、ｚ”、θx ”、θy ”、θz ”をそれぞれ積分し
てそれぞれの方向の重心Ｇの速度ｘ’、ｙ’、ｚ’、θ
x ’、θy ’、θz ’に変換する６つの積分器５０ａ〜
５０ｆと、位置コントローラＸＰＩ、ＹＰＩ、ＺＰＩ、
ＸθＰＩ、ＹθＰＩ、ＺθＰＩの出力を速度指令値
ｘ0 ’、ｙ0 ’、ｚ0 ’、θx0’、θy0’、θz0’にそ
れぞれ変換する速度変換ゲイン５２ａ〜５２ｆと、この
変換後の速度指令値ｘ0 ’、ｙ0 ’、ｚ0 ’、θx0’、
θy0’、θz0’から積分器５０ａ〜５０ｆの出力ｘ’、
ｙ’、ｚ’、θx ’、θy ’、θz ’をそれぞれ減じて
６自由度方向のそれぞれの方向の速度偏差（Δｘ’＝ｘ
0 ’−ｘ’、Δｙ’＝ｙ0 ’−ｙ’、Δｚ’＝ｚ0 ’−
ｚ’、Δθx ’＝θx0’−θx ’、Δθy ’＝θy0’−
θy ’、Δθz ’＝θz0’−θz ’）を算出する６つの
減算器５４ａ〜５４ｆと、６自由度のそれぞれの方向の
速度偏差Δｘ’、Δｙ’、Δｚ’、Δθx ’、Δ
θy ’、Δθz ’を動作信号として制御動作を行なうＰ
Ｉコントローラから成る６自由度のそれぞれの方向の速
度コントローラＶＸＰＩ、ＶＹＰＩ、ＶＺＰＩ、ＶＸθ
ＰＩ、ＶＹθＰＩ、ＶＺθＰＩと、これらのコントロー
ラで演算された６自由度のそれぞれの方向の速度制御量
を各アクチュエータの位置で発生すべき速度指令値に変
換するための非干渉化演算を行なう非干渉化計算部５６
と、この非干渉化計算部５６で変換後の各アクチュエー
タの位置で発生すべき速度指令値を各アクチュエータで
発生すべき推力にそれぞれ変換する推力ゲイン５８ａ〜
５８ｇとを有する。
【００３０】即ち、本実施形態の振動制御系は、変位セ
ンサ、位置コントローラ等を含んで構成される位置制御
ループの内側に、その内部ループとして加速度センサ、
積分器、速度コントローラ等を含んで構成される速度制
御ループを有する多重ループ制御系となっている。
ンサ、位置コントローラ等を含んで構成される位置制御
ループの内側に、その内部ループとして加速度センサ、
積分器、速度コントローラ等を含んで構成される速度制
御ループを有する多重ループ制御系となっている。
【００３１】また、振動補償系は、Ｘθ方向の速度コン
トローラＶＸθＰＩ、Ｙθ方向の速度コントローラＶＹ
θＰＩの出力段にそれぞれ設けられた加算器６０、６２
と、レーザ干渉計３０Ｘ、３０Ｒの計測値をそれぞれＫ
1 、Ｋ2 倍して加算器６２に出力するアンプ６４ａ、６
４ｂと、レーザ干渉計３０Ｙの出力をＫ3 倍して加算器
６０に出力するアンプ６４ｃとから構成されている。こ
こで、アンプ６４ａ、６４ｂ、６４ｃのそれぞれのゲイ
ンＫ1 、Ｋ2 、Ｋ3 について、その意義を簡単に説明す
る。但し、以下における説明では、説明の便宜上、後述
するスキャンカウンタ６６からの出力は零であるものと
して説明する。
トローラＶＸθＰＩ、Ｙθ方向の速度コントローラＶＹ
θＰＩの出力段にそれぞれ設けられた加算器６０、６２
と、レーザ干渉計３０Ｘ、３０Ｒの計測値をそれぞれＫ
1 、Ｋ2 倍して加算器６２に出力するアンプ６４ａ、６
４ｂと、レーザ干渉計３０Ｙの出力をＫ3 倍して加算器
６０に出力するアンプ６４ｃとから構成されている。こ
こで、アンプ６４ａ、６４ｂ、６４ｃのそれぞれのゲイ
ンＫ1 、Ｋ2 、Ｋ3 について、その意義を簡単に説明す
る。但し、以下における説明では、説明の便宜上、後述
するスキャンカウンタ６６からの出力は零であるものと
して説明する。
【００３２】例えば、ＸＹステージ２０がＸ軸方向に距
離ｘ1 だけ移動すると、定盤６を含む露光本体部４０の
重心が初期の位置よりずれ、定盤６がＹ軸回りにθ＝ａ
ｘ1だけ傾く。ここで、係数ａは、除振パッドのバネ剛
性により定まる。そこで、予めこの係数ａを求めてお
き、傾きθ1 ＝ａｘ1 を補正するための制御量がＫ1 ｘ
1 となるように、ゲインＫ1 を定めている。従って、Ｘ
軸用レーザ干渉計３０Ｘの計測値であるＸＹステージ２
０のＸ軸方向の位置ｘ1 がアンプ６４ａによりＫ1 倍さ
れて加算器６２に入力（フィードフォワード入力）され
ると、加算器６２により傾きθ1 を考慮して定盤６のＹ
軸回りの傾斜を補正するためのＹθ方向の速度の制御量
が演算され、非干渉化計算部５６に入力されるようにな
っている。
離ｘ1 だけ移動すると、定盤６を含む露光本体部４０の
重心が初期の位置よりずれ、定盤６がＹ軸回りにθ＝ａ
ｘ1だけ傾く。ここで、係数ａは、除振パッドのバネ剛
性により定まる。そこで、予めこの係数ａを求めてお
き、傾きθ1 ＝ａｘ1 を補正するための制御量がＫ1 ｘ
1 となるように、ゲインＫ1 を定めている。従って、Ｘ
軸用レーザ干渉計３０Ｘの計測値であるＸＹステージ２
０のＸ軸方向の位置ｘ1 がアンプ６４ａによりＫ1 倍さ
れて加算器６２に入力（フィードフォワード入力）され
ると、加算器６２により傾きθ1 を考慮して定盤６のＹ
軸回りの傾斜を補正するためのＹθ方向の速度の制御量
が演算され、非干渉化計算部５６に入力されるようにな
っている。
【００３３】また、レチクルステージ２７は、通常はＸ
Ｙステージ２０のステッピングの際等には停止している
が、走査露光時には、ＸＹステージ２０と逆向きにＸ軸
方向に投影光学系ＰＬの投影倍率の逆数倍の距離移動す
るため、このレチクルステージ２７の移動により定盤６
を含む露光本体部４０の重心位置の変動（ずれ）を招
き、その結果、定盤６がＹ軸回りにθ2 ＝ｂｘ2 だけ傾
く。そこで、予めこの係数ｂを求めておき、傾きθ2 ＝
ａｘ2 を補正するための制御量がＫ2 ｘ2 となるよう
に、ゲインＫ2 を定めている。従って、レチクルレーザ
干渉計３０Ｒの計測値であるレチクルステージ２７のＸ
軸方向の位置ｘ2 がアンプ６４ｂによりＫ2倍され、ア
ンプ６４ａの出力とともに加算器６２に入力（フィード
フォワード入力）されると、加算器６２により傾き（θ
1 ＋θ2 ）を考慮して定盤６のＹ軸回りの傾斜を補正す
るためのＹθ方向の速度の制御量が演算され、非干渉化
計算部５６に入力されるようになっている。ここで、Ｘ
Ｙステージ２０の移動により生じる定盤６の傾きθ1 と
レチクルステージ２７の移動により生じる傾きθ2 とを
加算するのは、前述したようにレチクルステージ２７と
ＸＹステージ２０は相互に逆向きに移動する場合には、
ｘ1 とｘ2 の符号が異なり、その結果上記の傾きθ1 と
θ2 の符号が異なるので、それぞれのステージが単独で
移動した場合の傾きを加算するものとしても何の問題も
ないからである。なお、走査露光の際には、レチクルス
テージ２７とＸＹステージ２０は相互に逆向きに移動す
るが、それらの重量に差があり、また、後述するように
移動距離も異なるので、現実的にも（θ1 ＋θ2 ）が零
になることは殆どなく、定盤６は傾く。
Ｙステージ２０のステッピングの際等には停止している
が、走査露光時には、ＸＹステージ２０と逆向きにＸ軸
方向に投影光学系ＰＬの投影倍率の逆数倍の距離移動す
るため、このレチクルステージ２７の移動により定盤６
を含む露光本体部４０の重心位置の変動（ずれ）を招
き、その結果、定盤６がＹ軸回りにθ2 ＝ｂｘ2 だけ傾
く。そこで、予めこの係数ｂを求めておき、傾きθ2 ＝
ａｘ2 を補正するための制御量がＫ2 ｘ2 となるよう
に、ゲインＫ2 を定めている。従って、レチクルレーザ
干渉計３０Ｒの計測値であるレチクルステージ２７のＸ
軸方向の位置ｘ2 がアンプ６４ｂによりＫ2倍され、ア
ンプ６４ａの出力とともに加算器６２に入力（フィード
フォワード入力）されると、加算器６２により傾き（θ
1 ＋θ2 ）を考慮して定盤６のＹ軸回りの傾斜を補正す
るためのＹθ方向の速度の制御量が演算され、非干渉化
計算部５６に入力されるようになっている。ここで、Ｘ
Ｙステージ２０の移動により生じる定盤６の傾きθ1 と
レチクルステージ２７の移動により生じる傾きθ2 とを
加算するのは、前述したようにレチクルステージ２７と
ＸＹステージ２０は相互に逆向きに移動する場合には、
ｘ1 とｘ2 の符号が異なり、その結果上記の傾きθ1 と
θ2 の符号が異なるので、それぞれのステージが単独で
移動した場合の傾きを加算するものとしても何の問題も
ないからである。なお、走査露光の際には、レチクルス
テージ２７とＸＹステージ２０は相互に逆向きに移動す
るが、それらの重量に差があり、また、後述するように
移動距離も異なるので、現実的にも（θ1 ＋θ2 ）が零
になることは殆どなく、定盤６は傾く。
【００３４】一方、ＸＹステージ２０がＸ軸方向に沿っ
て走査される際には、レーザ干渉計３０Ｙの出力はほぼ
変動しない（すなわち、ＸＹステージ２０のＹ座標は変
化しない）ために、通常、アンプ６４ｃからの振動制御
系に対するフィードフォワード入力は必要でない。但
し、ＸＹステージ２０のＸ軸方向の重心位置は、構造
上、露光本体部４０のＸ軸方向の重心位置と一致しない
場合がある。かかる場合には、ＸＹステージ２０がＸ軸
方向に沿って走査されると、レーザ干渉計３０Ｙの出力
は僅かながら変動する。また、ＸＹステージ２０のＹ軸
方向へのステッピングの際には、レーザ干渉計３０Ｙの
出力はＸＹステージ２０の移動位置に応じて当然に変動
する。この場合も、上述したＫ1 、Ｋ2 と同様、レーザ
干渉計３０Ｙの出力がｙであるとすると、このときの傾
きθ＝ｃｙを補正するための制御量がＫ3 ｙとなるよう
に、ゲインＫ3 が定められている。
て走査される際には、レーザ干渉計３０Ｙの出力はほぼ
変動しない（すなわち、ＸＹステージ２０のＹ座標は変
化しない）ために、通常、アンプ６４ｃからの振動制御
系に対するフィードフォワード入力は必要でない。但
し、ＸＹステージ２０のＸ軸方向の重心位置は、構造
上、露光本体部４０のＸ軸方向の重心位置と一致しない
場合がある。かかる場合には、ＸＹステージ２０がＸ軸
方向に沿って走査されると、レーザ干渉計３０Ｙの出力
は僅かながら変動する。また、ＸＹステージ２０のＹ軸
方向へのステッピングの際には、レーザ干渉計３０Ｙの
出力はＸＹステージ２０の移動位置に応じて当然に変動
する。この場合も、上述したＫ1 、Ｋ2 と同様、レーザ
干渉計３０Ｙの出力がｙであるとすると、このときの傾
きθ＝ｃｙを補正するための制御量がＫ3 ｙとなるよう
に、ゲインＫ3 が定められている。
【００３５】なお、本実施形態では、レーザ干渉計３０
Ｘ、３０Ｙ、３０Ｒとしては、図示しないカウンタのカ
ウント値を位置情報として出力するタイプのものが使用
されている。従って、レーザ干渉計３０Ｘ、３０Ｙ、３
０Ｒの出力は、絶対的な座標位置ではなくそれぞれのス
テージの停止位置からの変位である。
Ｘ、３０Ｙ、３０Ｒとしては、図示しないカウンタのカ
ウント値を位置情報として出力するタイプのものが使用
されている。従って、レーザ干渉計３０Ｘ、３０Ｙ、３
０Ｒの出力は、絶対的な座標位置ではなくそれぞれのス
テージの停止位置からの変位である。
【００３６】さらに、本実施形態では、スキャンカウン
タ６６の出力が各軸の速度コントローラＶＸＰＩ〜ＶＺ
θＰＩの出力段に設けられた加算器６０、６２、６８-
1、６８-2、６８-3、６８-4を介して振動制御系にフィ
ードフォワード入力されている。本実施形態の露光装置
１００では、ウエハＷ上のショットを露光する際には、
レチクルステージ２７とＸＹステージ２０とが走査方
向、すなわち、Ｘ軸方向に互いに逆向きに同期走査され
るが、この際にレチクルステージ２７は、１ショットに
つき１回、当該レチクルステージ２７の可動範囲を端か
ら端までＸＹステージ２０の速度の投影光学系ＰＬの縮
小倍率の逆数倍（例えば、４倍又は５倍）の速度で移動
し、しかも露光は定速域でのみ行なわれることから、レ
チクルステージ２７は停止状態から目標速度まで加
速、目標速度を維持、目標速度から停止状態まで減
速の３つの状態遷移を行なうことになり、ステージ２７
の移動開始直後及び停止直前には大きな反力が第２
コラム２６を介して定盤６に作用し、定盤６を含む露光
本体部４０に振動が生ずる。また、ＸＹステージ２０の
移動によっても露光本体部４０に振動が生じる。そこ
で、スキャンカウンタ６６により、ＸＹステージ２０、
レチクルステージ２７の加速度と逆向きの反力の指令値
を振動制御系にフィードフォワード入力し、上記のステ
ージ２７の移動開始直後及び停止直前の振動を抑制す
る。かかる加速度と逆向きの反力の指令値は、Ｘ軸方向
のみでなく、ＸＹステージ２０、レチクルステージ２７
の移動によって生じるθy ，θz 方向の指令値も入力す
る。また、ＸＹステージ２０のＹ軸方向へのステッピン
グの際には、スキャンカウンタ６６により、Ｙ軸方向の
指令値、θx 方向の指令値を振動制御系に入力する。
タ６６の出力が各軸の速度コントローラＶＸＰＩ〜ＶＺ
θＰＩの出力段に設けられた加算器６０、６２、６８-
1、６８-2、６８-3、６８-4を介して振動制御系にフィ
ードフォワード入力されている。本実施形態の露光装置
１００では、ウエハＷ上のショットを露光する際には、
レチクルステージ２７とＸＹステージ２０とが走査方
向、すなわち、Ｘ軸方向に互いに逆向きに同期走査され
るが、この際にレチクルステージ２７は、１ショットに
つき１回、当該レチクルステージ２７の可動範囲を端か
ら端までＸＹステージ２０の速度の投影光学系ＰＬの縮
小倍率の逆数倍（例えば、４倍又は５倍）の速度で移動
し、しかも露光は定速域でのみ行なわれることから、レ
チクルステージ２７は停止状態から目標速度まで加
速、目標速度を維持、目標速度から停止状態まで減
速の３つの状態遷移を行なうことになり、ステージ２７
の移動開始直後及び停止直前には大きな反力が第２
コラム２６を介して定盤６に作用し、定盤６を含む露光
本体部４０に振動が生ずる。また、ＸＹステージ２０の
移動によっても露光本体部４０に振動が生じる。そこ
で、スキャンカウンタ６６により、ＸＹステージ２０、
レチクルステージ２７の加速度と逆向きの反力の指令値
を振動制御系にフィードフォワード入力し、上記のステ
ージ２７の移動開始直後及び停止直前の振動を抑制す
る。かかる加速度と逆向きの反力の指令値は、Ｘ軸方向
のみでなく、ＸＹステージ２０、レチクルステージ２７
の移動によって生じるθy ，θz 方向の指令値も入力す
る。また、ＸＹステージ２０のＹ軸方向へのステッピン
グの際には、スキャンカウンタ６６により、Ｙ軸方向の
指令値、θx 方向の指令値を振動制御系に入力する。
【００３７】以上のようにして構成された本実施形態の
露光装置によれば、例えば、スキャン露光の際に、ＸＹ
ステージ２０、レチクルステージ２７がＸ軸方向に沿っ
て走査されると、制御装置１１により、レーザ干渉計３
０Ｘ、３０Ｒで計測されたそれぞれのステージの変位量
に対応した定盤６の傾きを補正するようにアクチュエー
タ７Ａ〜７Ｄが駆動制御され、しかも傾きの補正量の指
令値はフィードフォワード入力されているので、実際に
定盤６が傾斜するのを阻止することができる。従って、
定盤６を含む露光本体部４０の振動は、ステージ２０，
２７の移動による露光本体部４０の重心移動による影響
を受けることなく、変位センサ１０Ｚ1、１０Ｚ2 、１
０Ｚ3 、１０Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｘ、加速度センサ５
Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｚ3 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘの出力に
基づいて制御装置１１によりアクチュエータ７Ａ、７
Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃが駆動制御さ
れ、効果的に抑制される。さらに、スキャン露光の際の
ＸＹステージ２０、レチクルステージ２７の移動開始直
後及び停止直前の振動もスキャンカウンタ６６からの指
令値のフィードフォワード入力により抑制される。
露光装置によれば、例えば、スキャン露光の際に、ＸＹ
ステージ２０、レチクルステージ２７がＸ軸方向に沿っ
て走査されると、制御装置１１により、レーザ干渉計３
０Ｘ、３０Ｒで計測されたそれぞれのステージの変位量
に対応した定盤６の傾きを補正するようにアクチュエー
タ７Ａ〜７Ｄが駆動制御され、しかも傾きの補正量の指
令値はフィードフォワード入力されているので、実際に
定盤６が傾斜するのを阻止することができる。従って、
定盤６を含む露光本体部４０の振動は、ステージ２０，
２７の移動による露光本体部４０の重心移動による影響
を受けることなく、変位センサ１０Ｚ1、１０Ｚ2 、１
０Ｚ3 、１０Ｙ1 、１０Ｙ2 、１０Ｘ、加速度センサ５
Ｚ1 、５Ｚ2 、５Ｚ3 、５Ｙ1 、５Ｙ2 、５Ｘの出力に
基づいて制御装置１１によりアクチュエータ７Ａ、７
Ｂ、７Ｃ、７Ｄ、３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃが駆動制御さ
れ、効果的に抑制される。さらに、スキャン露光の際の
ＸＹステージ２０、レチクルステージ２７の移動開始直
後及び停止直前の振動もスキャンカウンタ６６からの指
令値のフィードフォワード入力により抑制される。
【００３８】また、ＸＹステージ２０のＸ軸方向の重心
位置が露光本体部４０のＸ軸方向の重心位置と一致しな
い場合や、ＸＹステージ２０のＹ軸方向へのステッピン
グの際には、レーザ干渉計３０Ｙの出力に基づく定盤６
の傾きは制御装置１１によって上記と同様にして抑制さ
れる。
位置が露光本体部４０のＸ軸方向の重心位置と一致しな
い場合や、ＸＹステージ２０のＹ軸方向へのステッピン
グの際には、レーザ干渉計３０Ｙの出力に基づく定盤６
の傾きは制御装置１１によって上記と同様にして抑制さ
れる。
【００３９】以上説明したように、本実施形態による
と、位置制御ループのゲインを高くすることなく、ＸＹ
ステージ２０、レチクルステージ２７の移動による露光
本体部４０の重心移動に起因する定盤６の傾斜を抑制す
るようにアクチュエータ７Ａ〜７Ｄをフィードフォワー
ド制御することができるので、床振動を本体に伝えると
いう不都合を回避することができる。従って、除振性能
を損なうことなく、ステージ移動に伴う露光本体部の重
心位置移動の影響を受けることなく、外乱振動の抑制
（制振）効果を向上させることができる。
と、位置制御ループのゲインを高くすることなく、ＸＹ
ステージ２０、レチクルステージ２７の移動による露光
本体部４０の重心移動に起因する定盤６の傾斜を抑制す
るようにアクチュエータ７Ａ〜７Ｄをフィードフォワー
ド制御することができるので、床振動を本体に伝えると
いう不都合を回避することができる。従って、除振性能
を損なうことなく、ステージ移動に伴う露光本体部の重
心位置移動の影響を受けることなく、外乱振動の抑制
（制振）効果を向上させることができる。
【００４０】なお、上記実施形態では本発明に係る除振
装置がステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の
投影露光装置に適用される場合を例示したが、本発明の
除振装置はステッパ方式の投影露光装置であっても定盤
上をステージが移動するものであるから好適に適用でき
るものである。ステッパ方式の投影露光装置の場合に
は、一括露光型であるので露光時にはステージは停止し
ているからスキャンカウンタは不要である。
装置がステップ・アンド・スキャン方式の走査露光型の
投影露光装置に適用される場合を例示したが、本発明の
除振装置はステッパ方式の投影露光装置であっても定盤
上をステージが移動するものであるから好適に適用でき
るものである。ステッパ方式の投影露光装置の場合に
は、一括露光型であるので露光時にはステージは停止し
ているからスキャンカウンタは不要である。
【００４１】また、上記実施形態では、７つのアクチュ
エータを用いて露光本体部の６自由度方向の揺れを抑制
する場合について例示したが、本発明はこれに限定され
るものではなく、定盤（除振台）の傾斜を補正できれば
良いので、アクチュエータとしては、Ｚ方向のアクチュ
エータが少なくとも３つあれば良い。
エータを用いて露光本体部の６自由度方向の揺れを抑制
する場合について例示したが、本発明はこれに限定され
るものではなく、定盤（除振台）の傾斜を補正できれば
良いので、アクチュエータとしては、Ｚ方向のアクチュ
エータが少なくとも３つあれば良い。
【００４２】さらに、ステージの移動により露光本体部
（装置本体）の重心の移動による除振台の傾斜を予測
し、これを補正するような指令値を用いてこの影響を相
殺するようにアクチュエータをフィードフォワード制御
するという本発明の解決原理は、装置本体の６自由度方
向の揺れを阻止する場合にのみ適用されるものではな
い。例えば、ステージが装置本体の重心位置上を移動す
るように構成されている場合には、ステージが移動して
も装置本体は必ずしも６自由度方向に揺動しないが、か
かる場合であっても本発明の解決原理は、有効に機能す
ることは明らかだからである。かかる意味から、変位セ
ンサ、加速度センサ（振動センサ）の数も６つに限られ
るものではない。
（装置本体）の重心の移動による除振台の傾斜を予測
し、これを補正するような指令値を用いてこの影響を相
殺するようにアクチュエータをフィードフォワード制御
するという本発明の解決原理は、装置本体の６自由度方
向の揺れを阻止する場合にのみ適用されるものではな
い。例えば、ステージが装置本体の重心位置上を移動す
るように構成されている場合には、ステージが移動して
も装置本体は必ずしも６自由度方向に揺動しないが、か
かる場合であっても本発明の解決原理は、有効に機能す
ることは明らかだからである。かかる意味から、変位セ
ンサ、加速度センサ（振動センサ）の数も６つに限られ
るものではない。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
除振効果を損なうことなく、ステージ移動に伴う本体重
心位置移動の影響を受けることなく、外乱振動の抑制
（制振）効果を向上させることができるという従来にな
い優れた効果がある。
除振効果を損なうことなく、ステージ移動に伴う本体重
心位置移動の影響を受けることなく、外乱振動の抑制
（制振）効果を向上させることができるという従来にな
い優れた効果がある。
【００４４】特に、請求項２に記載の発明にあっては、
スキャンカウンタからフィードフォワード入力された指
令値に応じて振動制御系によりアクチュエータが制御さ
れ、ステージの移動開始直後及び停止直前に発生する除
振台に生ずる振動が抑制されることから、請求項１に記
載の発明に比べてもより一層制振効果を向上させること
ができる。
スキャンカウンタからフィードフォワード入力された指
令値に応じて振動制御系によりアクチュエータが制御さ
れ、ステージの移動開始直後及び停止直前に発生する除
振台に生ずる振動が抑制されることから、請求項１に記
載の発明に比べてもより一層制振効果を向上させること
ができる。
【図１】一実施形態に係る投影露光装置を示す斜視図で
ある。
ある。
【図２】（ａ）はアクチュエータ７Ａの一例を示す拡大
断面図、（ｂ）はアクチュエータ７Ａの他の例を示す拡
大断面図である。
断面図、（ｂ）はアクチュエータ７Ａの他の例を示す拡
大断面図である。
【図３】アクチュエータの制御系の構成を示す制御ブロ
ック図である。
ック図である。
４Ａ〜４Ｃ 除振パッド ５Ｚ1 〜５Ｚ3 ，５Ｙ1 ，５Ｙ2 ，５Ｘ 加速度セン
サ（振動センサ） ６ 定盤（除振台） ７Ａ〜７Ｄ，３２Ａ〜３２Ｃ アクチュエータ １０Ｚ1 〜１０Ｚ3 ，１０Ｙ1 ，１０Ｙ2 ，１０Ｘ
変位センサ １１ 制御装置（振動制御系、振動補償系） ２０ ＸＹステージ（基板ステージ） ２７ レチクルステージ ３０Ｘ、３０Ｙ、３０Ｒ レーザ干渉計（位置計測手
段） ４０ 露光本体部 ６６ スキャンカウンタ １００ 露光装置 Ｒ レチクル（マスク） ＰＬ 投影光学系 Ｗ ウエハ（感光基板）
サ（振動センサ） ６ 定盤（除振台） ７Ａ〜７Ｄ，３２Ａ〜３２Ｃ アクチュエータ １０Ｚ1 〜１０Ｚ3 ，１０Ｙ1 ，１０Ｙ2 ，１０Ｘ
変位センサ １１ 制御装置（振動制御系、振動補償系） ２０ ＸＹステージ（基板ステージ） ２７ レチクルステージ ３０Ｘ、３０Ｙ、３０Ｒ レーザ干渉計（位置計測手
段） ４０ 露光本体部 ６６ スキャンカウンタ １００ 露光装置 Ｒ レチクル（マスク） ＰＬ 投影光学系 Ｗ ウエハ（感光基板）
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも３個の除振パッドを介して水
平に保持された除振台と；前記除振台上で移動する少な
くとも一つのステージと；前記除振台を異なる箇所で鉛
直方向に駆動する少なくとも３つのアクチュエータを含
む複数のアクチュエータと；前記除振台の変位を検出す
る１又は２以上の変位センサと；前記除振台の振動を検
出する１又は２以上の振動センサと；前記変位センサ及
び振動センサの出力に基づいて前記除振台の振動を抑制
するように前記各アクチュエータを駆動制御する振動制
御系と；前記各ステージの移動位置を計測する位置計測
手段と；前記ステージの移動時の重心位置の移動により
生じる前記除振台の傾き量を前記位置計測手段の出力に
基づいて予測し、この傾き量を補正するような指令値を
前記振動制御系にフィードフォワード入力する振動補償
系とを有する除振装置。 - 【請求項２】 前記ステージの移動開始直後及び停止直
前の加速度と逆向きの反力の指令値を前記振動制御系に
フィードフォワード入力するスキャンカウンタを更に有
する請求項１に記載の除振装置。 - 【請求項３】 マスクに形成されたパターンを投影光学
系を介して基板ステージ上の感光基板に転写する露光装
置であって、 前記請求項１又は２に記載の除振装置を露光本体部の除
振装置として具備することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25238696A JP3807516B2 (ja) | 1995-09-05 | 1996-09-03 | 除振装置、除振方法及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-251887 | 1995-09-05 | ||
| JP25188795 | 1995-09-05 | ||
| JP25238696A JP3807516B2 (ja) | 1995-09-05 | 1996-09-03 | 除振装置、除振方法及び露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09134876A true JPH09134876A (ja) | 1997-05-20 |
| JP3807516B2 JP3807516B2 (ja) | 2006-08-09 |
Family
ID=26540411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25238696A Expired - Lifetime JP3807516B2 (ja) | 1995-09-05 | 1996-09-03 | 除振装置、除振方法及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3807516B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6213443B1 (en) | 1998-05-07 | 2001-04-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Anti-vibration apparatus and exposure apparatus using the same |
| EP1124078A2 (en) | 2000-02-09 | 2001-08-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Active anti-vibration apparatus and exposure apparatus |
| JP2014052077A (ja) * | 2012-09-10 | 2014-03-20 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | 低周波振動構造用アクティブ・ダンパ |
-
1996
- 1996-09-03 JP JP25238696A patent/JP3807516B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6213443B1 (en) | 1998-05-07 | 2001-04-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Anti-vibration apparatus and exposure apparatus using the same |
| EP1124078A2 (en) | 2000-02-09 | 2001-08-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Active anti-vibration apparatus and exposure apparatus |
| EP1124078A3 (en) * | 2000-02-09 | 2003-06-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Active anti-vibration apparatus and exposure apparatus |
| US6684132B2 (en) | 2000-02-09 | 2004-01-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Active anti-vibration apparatus and exposure apparatus |
| JP2014052077A (ja) * | 2012-09-10 | 2014-03-20 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | 低周波振動構造用アクティブ・ダンパ |
| US9683621B2 (en) | 2012-09-10 | 2017-06-20 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Active absorber for low-frequency vibrating structures |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3807516B2 (ja) | 2006-08-09 |
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