JP2006201371A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 光源手段と、前記光源手段から出射した光束を偏向手段に入射させる入射光学系と、前記偏向手段の偏向面で偏向された光束を被走査面上に結像させる結像光学系と、を有する光走査装置において、
   前記入射光学系又は／及び前記結像光学系は、光学面上に入射する光束に対して反射防止作用を有する０次格子である微細構造体が２次元的に設けられた光学素子を有しており、
   前記２次元的に設けられた微細構造体は、前記光学面の頂点の接線を含む面内で互いに直交する方向に第１方向と第２方向をとったとき、少なくとも１つの方向において、前記微細構造体間の距離が一定でなく、かつ、前記２次元的に設けられた微細構造体の任意の微細構造体は、隣接する最も近い微細構造体までの距離が前記微細構造体に入射する入射光束の平均波長の１／２よりも短い状態で配置されており、
   前記任意の微細構造体から距離の短い順に選択したｎ個の微細構造体までの距離をＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、前記入射光束の最小波長をλ、前記光学面の入射側の媒質の屈折率をＮｉ、前記光学面の出射側の媒質の屈折率をＮｓ、前記光学面へ入射する光束の入射角度をθｉ、前記距離Ｌｉ（ｉ＝１〜ｎ）に対する標準偏差をＬσとし、
   とおいたとき、
   Ｌａｖｅ＜λ／（Ｎｓ＋Ｎｉ・sinθｉ）
   Ｌσ≦８０（ｎｍ）
   なる条件を満足することを特徴とする光走査装置。
2. 前記微細構造体の形状は凸形状又は凹形状であることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
3. 光源手段と、前記光源手段から出射した光束を偏向手段に入射させる入射光学系と、前記偏向手段の偏向面で偏向された光束を被走査面上に結像させる結像光学系と、を有する光走査装置において、
   前記入射光学系又は／及び前記結像光学系は、光学面上に入射する光束に対して反射防止作用を有する０次格子である微細構造体が２次元的に設けられた光学素子を有しており、
   前記２次元的に設けられた微細構造体は、前記光学面の頂点の接線を含む面内で互いに直交する方向に第１方向と第２方向をとったとき、少なくとも１つの方向において、前記微細構造体間の距離が一定でなく、かつ、前記２次元的に設けられた微細構造体の任意の微細構造体は、隣接する最も近い微細構造体までの距離が前記微細構造体に入射する入射光束の平均波長の１／２よりも短い状態で配置されており、
   前記任意の微細構造体から距離の短い順に選択したｎ個の微細構造体までの距離をＬｉ（ｉ＝１〜ｎ）、前記光学面の面頂点の接線を含む面に平行な任意の切断面での該任意の微細構造体の断面積をＳ0、前記ｎ個の微細構造体の断面積をＳｉ（ｉ＝１〜ｎ）、前記距離Ｌｉ（ｉ＝１〜ｎ）に対する標準偏差をＬσとし、
   とおいたとき、
   ０．１６≦Ｓａｖｅ／（Ｋ×（Ｌａｖｅ）^２）≦０．８１
   Ｌσ≦８０（ｎｍ）
   ただし、Ｋは常数で
   ０．８７≦Ｋ≦１．０
   なる条件を満足することを特徴とする光走査装置。
4. 前記微細構造体の形状は凸形状又は凹形状であり、前記任意の切断面は、前記凸形状又は前記凹形状の頂面と底面との中間位置での切断面であることを特徴とする請求項３に記載の光走査装置。
5. 前記任意の微細構造体は、前記光学面の面頂点における法線を含み前記第１方向で切った切断面の断面形状と、前記光学面の面頂点における法線を含み前記第２方向で切った切断面の断面形状が一致することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の光走査装置。
6. 前記微細構造体は、前記光学面の面頂点の接線を含む面に平行な切断面での各微細構造体の断面積が一致しないものを含むことを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の光走査装置。
7. 前記光学素子の光学面に入射する光束の偏光の偏波方向は、前記第１方向もしくは第２の方向と一致することを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の光走査装置。
8. 請求項１乃至７の何れか一項に記載の光走査装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記光走査装置で走査された光ビームによって前記感光体の上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写手段と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴とする画像形成装置。
9. 外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記光走査装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴とする請求項８の画像形成装置。