JP2011237469A - 光学素子及びその製造方法 - Google Patents
光学素子及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011237469A JP2011237469A JP2010105945A JP2010105945A JP2011237469A JP 2011237469 A JP2011237469 A JP 2011237469A JP 2010105945 A JP2010105945 A JP 2010105945A JP 2010105945 A JP2010105945 A JP 2010105945A JP 2011237469 A JP2011237469 A JP 2011237469A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- dimensional periodic
- cylindrical convex
- periodic structure
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
【解決手段】二次元周期の細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、細孔構造を基材10の表面に転写してなり、細孔構造の逆パターンを有する複数の微細な円柱状凸部12aからなる二次元周期構造体12が基材10の表面に設けられており、円柱状凸部12aの周期が使用する光の波長以下である光学素子。
【選択図】図1
Description
[1] 二次元周期の細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、前記細孔構造を基材表面に転写してなり、前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細な円柱状凸部からなる二次元周期構造体が前記基材表面に設けられており、前記円柱状凸部の周期が使用する光の波長以下であることを特徴とする光学素子。
[2] 基材表面に樹脂層が形成された光学素子であって、二次元周期の細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、前記細孔構造を前記樹脂層表面に転写してなり、前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細な円柱状凸部からなる二次元周期構造体が前記樹脂層表面に設けられており、前記円柱状凸部の周期が使用する光の波長以下であることを特徴とする光学素子。
[3] 上記[1]又は[2] に記載の光学素子において、前記円柱状凸部の周期が50〜1000 nmであることを特徴とする光学素子。
[4] 上記[1]〜[3] のいずれかに記載の光学素子において、0°入射光の波長領域400〜700 nmにおける平均反射率が2%以下であることを特徴とする光学素子。
[5] 上記[1]〜[4] のいずれかに記載の光学素子において、前記円柱状凸部の平均太さをD(nm)とし、前記円柱状凸部の平均周期をp(nm)としたとき、前記二次元周期構造体における前記円柱状凸部の体積占有率fが下記式(1):
f=πD2/(2×√3×p2) ・・・(1)
を満たすことを特徴とする光学素子。
[6] 上記[5] に記載の光学素子において、前記基材の屈折率をnmとし、入射媒質の屈折率をn0とし、前記二次元周期構造体の実効屈折率をnとしたとき、下記式(2):
n=fnm+(1―f)n0 ・・・(2)
を満たすことを特徴とする光学素子。
[7] 上記[5] に記載の光学素子において、前記基材の屈折率をnmとし、入射媒質の屈折率をn0とし、前記二次元周期構造体の実効屈折率をnとしたとき、下記式(3):
n=(fnm 2+(1―f)n0 2)1/2 ・・・(3)
を満たすことを特徴とする光学素子。
[8] 上記[1]〜[7] のいずれかに記載の光学素子において、二次元周期構造体の実効屈折率をnとしたとき、下記式(4):
n=(n0nm)1/2 ・・・(4)
を満たすことを特徴とする光学素子。
[9] 上記[1]〜[8] のいずれかに記載の光学素子において、前記円柱状凸部の平均高さをh(nm)としたとき、使用波長λ(nm)の光に対して、下記式(5):
nh=λ/4 ・・・(5)
を満たすことを特徴とする光学素子。
[10] 上記[1]〜[8] のいずれかに記載の光学素子において、前記円柱状凸部の平均高さをh(nm)としたとき、使用波長λ1〜λ2(nm)の光において、下記式(6):
λ1/4≦nh≦λ2/4 ・・・(6)
を満たすことを特徴とする光学素子。
[11] 上記[1]〜[10] のいずれかに記載の光学素子において、前記二次元周期構造体の分光反射率特性の極小値を示す波長の少なくとも1つが使用する光の波長と一致することを特徴とする光学素子。
[12] 上記[1]〜[10] のいずれかに記載の光学素子において、前記二次元周期構造体の分光反射率特性の極小値を示す波長の少なくとも1つが約405 nmであることを特徴とする光学素子。
[13] 上記[1]〜[10] のいずれかに記載の光学素子において、前記二次元周期構造体の分光反射率特性の極小値を示す波長の少なくとも1つが約660 nmであることを特徴とする光学素子。
[14] 上記[1]〜[10] のいずれかに記載の光学素子において、前記二次元周期構造体の分光反射率特性の極小値を示す波長の少なくとも1つが約780 nmであることを特徴とする光学素子。
[15] 上記[1]〜[10] のいずれかに記載の光学素子において、使用波長λ1〜λ2(nm)の光に対して、前記二次元周期構造体の分光反射率特性の極小値を示す波長がλ1〜λ2(nm)の範囲にあることを特徴とする光学素子。
[16] 使用する光の波長以下の二次元周期の細孔構造を表面に有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、前記細孔構造を基材表面に転写し、もって前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細な円柱状凸部からなる二次元周期構造体を基材表面に設ける光学素子の製造方法。
[17] 基材表面に樹脂層を形成し、使用する光の波長以下の二次元周期の細孔構造を表面に有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、前記樹脂層に前記細孔構造を転写し、もって前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細な円柱状凸部からなる二次元周期構造体を前記樹脂層表面に設ける光学素子の製造方法。
[18] 上記[16]又は[17] に記載の光学素子の製造方法において、前記陽極酸化ポーラスアルミナの細孔周期及び細孔径を制御することにより、前記円柱状凸部の周期、及び太さを制御し、もって二次元周期構造体の屈折率を制御することを特徴とする方法。
[19] 上記[16]〜[18] のいずれかに記載の光学素子の製造方法において、前記陽極酸化ポーラスアルミナの細孔周期、細孔深さ及び細孔径を制御することにより、前記円柱状凸部の周期、高さ及び太さを制御し、もって前記基材表面の分光反射率特性を制御することを特徴とする方法。
本発明の第一の実施態様による光学素子1は、図1及び図2に示すように、基材部11と複数の微細な円柱状凸部12aが二次元周期で配置された二次元周期構造体12とを有する基材10からなる。円柱状凸部12aは、高さ方向に径がほぼ均一な円柱構造を有し、使用する光の波長以下の周期で配置されている。二次元周期構造体12は基材10の両面に設けても良い。
f=πD2/(2×√3×p2) ・・・(1)
から求められる。
n=fnm+(1―f)n0 ・・・(2)
から求めることができる。また二乗平均をとって、下記式(3):
n=(fnm 2+(1―f)n0 2)1/2 ・・・(3)
から求めてもよい。
n=(n0nm)1/2 ・・・(4)
を満たすのが好ましい。二次元周期構造体12の実効屈折率nが式(4) を満たすとき、二次元周期構造体12と入射媒質との界面における反射光と二次元周期構造体12と基材部11との界面における反射光との干渉により、光学素子1の表面における入射光の分光反射率の極小値(ピーク反射率)を0にすることができる。二次元周期構造体12の実効屈折率nは必ずしも式(4) を満たす必要はないが、式(4)で規定される値に近いほど良好な反射防止効果を得られることができるため、できるだけ(n0nm)1/2に近い実効屈折率nを得られるように二次元周期構造体12の構造を制御することが望ましい。
h=λ/4n ・・・(5)
を満たすのが好ましい。また使用する光の波長がλ1(nm)からλ2(nm)の範囲内であるとき、下記式(6):
λ1/4≦nh≦λ2/4 ・・・(6)
を満たすのが好ましい。例えば、光学素子が使用する光が可視光(波長はおよそ400〜700 nm)である場合、100nm≦nh≦175nmを満たすのが好ましい。このように光学素子が使用する光の波長もしくは波長範囲に応じて、式(5)、式(6)を満たすように二次元周期構造体12の実効屈折率nおよび円柱状凸部12aの平均高さhを調整するのが好ましい。
使用する波長が幅を持つ場合、使用波長λ1〜λ2(nm)の光に対して、ピーク反射率を示す波長ををλ1〜λ2(nm)の範囲内に入るように調整するのが好ましい。
(a) 陽極酸化ポーラスアルミナの製造
図4(a) に示すように、ガラス基板等の表面に真空蒸着法、スパッタリング法等により高純度のアルミ膜42を形成し、処理基板41を作製する。アルミ膜42の材料は、陽極酸化処理が可能なものであれば特に限定されないが、不純物を含むと陽極酸化処理時にポーラス構造に大きな欠陥が生じることから、できるだけ純度の高いアルミニウムを用いるのが好ましい。具体的には、純度99%以上のものを用いるのが好ましい。なお、処理基板41とアルミ膜42が共に高純度のアルミで構成されるような基板を作製しても構わない。
光学素子1の基材10に二次元周期構造体12を形成する方法としては、図4(c)〜(f) に示すように、ポーラスアルミナ転写型40に光学素子1の基材10を接触させ、基材10が軟化する温度まで加熱しつつ押圧することにより、基材10にポーラスアルミナ43の二次元周期の細孔構造を転写する方法(熱転写法、ホットエンボス法、熱インプリント法等)が挙げられる。また他の転写方法としては、射出成形用の金型にポーラスアルミナ転写型40を形成し、金型中に溶融した樹脂を射出して硬化させることにより、光学素子1を成型すると同時に表面に二次元周期の細孔構造の転写を行なう方法(射出成形法)、表面にポーラスアルミナ転写型40を形成した金型の中に熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂等の流動性の高い樹脂を注入し加熱や光照射を行なって硬化させることにより、光学素子1の成型と同時に転写する方法(キャスティング法)、ポーラスアルミナ転写型40と基材10とを接触させ、その隙間に流動性の高い熱硬化性樹脂を挿入し加熱を行なって硬化させたり、光硬化性樹脂を挿入し光照射を行なって硬化させたりすることにより、光学素子1の表面に構造を転写する方法(特に紫外線硬化型の樹脂を用いた手法をUVインプリント法と呼ぶ)等が挙げられる。
直径30 mmのガラス平面基板41上に純度99.99%のアルミ膜42を約1μm成膜した。このガラス平面基板41を17℃の0.3 Mシュウ酸電解質に浸漬し、陽極に電圧60Vを31秒間印加し、ガラス平面基板41の表面にポーラスアルミナを形成した。このガラス平面基板41をクロム酸及びリン酸の混酸の剥離液に浸漬しポーラスアルミナを剥離した。再び同じ条件でガラス平面基板41の表面にポーラスアルミナ43を形成した。その後、30℃の5wt%リン酸に30分間浸漬して孔径拡大処理を行ないポーラスアルミナ43の細孔径を拡大した。ポーラスアルミナ43が形成されたガラス平面基板41を純水により洗浄した後、乾燥させ、ポーラスアルミナ転写型40を作製した。図6(a) 及び(b) に示すように、ポーラスアルミナ43の表面には約150 nmの二次元周期で細孔が形成されていた。
陽極酸化の印加電圧及び処理時間とガラス平面基板41の孔径拡大のためのリン酸への浸漬時間を表1に示す値に変更した以外は、実施例1と同じ方法で光学素子1を作製した。ポーラスアルミナ転写型40及び光学素子1の特性を表1に示す。
実施例1と同じガラス平面基板41を用いて、二次元周期構造体12を形成せずに反射率を測定したところ、4.27%だった。比較例1の光学素子1の分光反射率特性を図16に示す。
10・・・基材
11・・・基材部
12・・・二次元周期構造体
12a・・・円柱状凸部
20・・・樹脂層
40・・・ポーラスアルミナ転写型
41・・・処理基板
42・・・アルミ膜
43・・・ポーラスアルミナ
Claims (19)
- 二次元周期の細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、前記細孔構造を基材表面に転写してなり、前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細な円柱状凸部からなる二次元周期構造体が前記基材表面に設けられており、前記円柱状凸部の周期が使用する光の波長以下であることを特徴とする光学素子。
- 基材表面に樹脂層が形成された光学素子であって、二次元周期の細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、前記細孔構造を前記樹脂層表面に転写してなり、前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細な円柱状凸部からなる二次元周期構造体が前記樹脂層表面に設けられており、前記円柱状凸部の周期が使用する光の波長以下であることを特徴とする光学素子。
- 請求項1又は2に記載の光学素子において、前記円柱状凸部の周期が50〜1000 nmであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の光学素子において、0°入射光の波長領域400〜700 nmにおける平均反射率が2%以下であることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の光学素子において、前記円柱状凸部の平均太さをD(nm)とし、前記円柱状凸部の平均周期をp(nm)としたとき、前記二次元周期構造体における前記円柱状凸部の体積占有率fが下記式(1):
f=πD2/(2×√3×p2) ・・・(1)
を満たすことを特徴とする光学素子。 - 請求項5に記載の光学素子において、前記基材の屈折率をnmとし、入射媒質の屈折率をn0とし、前記二次元周期構造体の実効屈折率をnとしたとき、下記式(2):
n=fnm+(1―f)n0 ・・・(2)
を満たすことを特徴とする光学素子。 - 請求項5に記載の光学素子において、前記基材の屈折率をnmとし、入射媒質の屈折率をn0とし、前記二次元周期構造体の実効屈折率をnとしたとき、下記式(3):
n=(fnm 2+(1―f)n0 2)1/2 ・・・(3)
を満たすことを特徴とする光学素子。 - 請求項1〜7のいずれかに記載の光学素子において、二次元周期構造体の実効屈折率をnとしたとき、下記式(4):
n=(n0nm)1/2 ・・・(4)
を満たすことを特徴とする光学素子。 - 請求項1〜8のいずれかに記載の光学素子において、前記円柱状凸部の平均高さをh(nm)としたとき、使用波長λ(nm)の光に対して、下記式(5):
nh=λ/4 ・・・(5)
を満たすことを特徴とする光学素子。 - 請求項1〜8のいずれかに記載の光学素子において、前記円柱状凸部の平均高さをh(nm)としたとき、使用波長λ1〜λ2(nm)の光において、下記式(6):
λ1/4≦nh≦λ2/4 ・・・(6)
を満たすことを特徴とする光学素子。 - 請求項1〜10のいずれかに記載の光学素子において、前記二次元周期構造体の分光反射率特性の極小値を示す波長の少なくとも1つが使用する光の波長と一致することを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の光学素子において、前記二次元周期構造体の分光反射率特性の極小値を示す波長の少なくとも1つが約405 nmであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の光学素子において、前記二次元周期構造体の分光反射率特性の極小値を示す波長の少なくとも1つが約660 nmであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の光学素子において、前記二次元周期構造体の分光反射率特性の極小値を示す波長の少なくとも1つが約780 nmであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の光学素子において、使用波長λ1〜λ2(nm)の光に対して、前記二次元周期構造体の分光反射率特性の極小値を示す波長がλ1〜λ2(nm)の範囲にあることを特徴とする光学素子。
- 使用する光の波長以下の二次元周期の細孔構造を表面に有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、前記細孔構造を基材表面に転写し、もって前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細な円柱状凸部からなる二次元周期構造体を基材表面に設ける光学素子の製造方法。
- 基材表面に樹脂層を形成し、使用する光の波長以下の二次元周期の細孔構造を表面に有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、前記樹脂層に前記細孔構造を転写し、もって前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細な円柱状凸部からなる二次元周期構造体を前記樹脂層表面に設ける光学素子の製造方法。
- 請求項16又は17に記載の光学素子の製造方法において、前記陽極酸化ポーラスアルミナの細孔周期及び細孔径を制御することにより、前記円柱状凸部の周期、及び太さを制御し、もって二次元周期構造体の屈折率を制御することを特徴とする方法。
- 請求項16〜18のいずれかに記載の光学素子の製造方法において、前記陽極酸化ポーラスアルミナの細孔周期、細孔深さ及び細孔径を制御することにより、前記円柱状凸部の周期、高さ及び太さを制御し、もって前記基材表面の分光反射率特性を制御することを特徴とする方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010105945A JP2011237469A (ja) | 2010-04-30 | 2010-04-30 | 光学素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010105945A JP2011237469A (ja) | 2010-04-30 | 2010-04-30 | 光学素子及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015040055A Division JP2015146023A (ja) | 2015-03-02 | 2015-03-02 | 光学素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011237469A true JP2011237469A (ja) | 2011-11-24 |
Family
ID=45325548
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010105945A Pending JP2011237469A (ja) | 2010-04-30 | 2010-04-30 | 光学素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011237469A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014021377A1 (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型 |
JP2014178662A (ja) * | 2012-07-31 | 2014-09-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型 |
JP2014209235A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、及び画像表示装置 |
JP2014209233A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法 |
JP2014209234A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法 |
US9678248B2 (en) | 2012-07-31 | 2017-06-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Antireflective article, image display device, production mold for antireflective article and production method for antireflective article production mold |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006133722A (ja) * | 2004-10-07 | 2006-05-25 | Canon Inc | 光学素子の製造方法 |
JP2006201371A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Canon Inc | 光学素子及びそれを用いた光走査装置 |
JP2007076242A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | 保護フィルム |
JP2007279633A (ja) * | 2006-04-12 | 2007-10-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学部品とその製造方法およびそれを用いた電子機器 |
JP2009104103A (ja) * | 2007-10-01 | 2009-05-14 | Omron Corp | 反射防止シート、表示素子及びディスプレイ装置 |
-
2010
- 2010-04-30 JP JP2010105945A patent/JP2011237469A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006133722A (ja) * | 2004-10-07 | 2006-05-25 | Canon Inc | 光学素子の製造方法 |
JP2006201371A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Canon Inc | 光学素子及びそれを用いた光走査装置 |
JP2007076242A (ja) * | 2005-09-15 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | 保護フィルム |
JP2007279633A (ja) * | 2006-04-12 | 2007-10-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学部品とその製造方法およびそれを用いた電子機器 |
JP2009104103A (ja) * | 2007-10-01 | 2009-05-14 | Omron Corp | 反射防止シート、表示素子及びディスプレイ装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014021377A1 (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型 |
JP2014178662A (ja) * | 2012-07-31 | 2014-09-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型 |
US9442222B2 (en) | 2012-07-31 | 2016-09-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Antireflective article, image display device, and production mold for antireflective article |
US9678248B2 (en) | 2012-07-31 | 2017-06-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Antireflective article, image display device, production mold for antireflective article and production method for antireflective article production mold |
JP2014209235A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、及び画像表示装置 |
JP2014209234A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法 |
JP2014209233A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7713768B2 (en) | Anti-reflective film and production method thereof, and stamper for producing anti-reflective film and production method thereof | |
JP4583506B2 (ja) | 反射防止膜、および反射防止膜を備える光学素子、ならびに、スタンパ、およびスタンパの製造方法、ならびに反射防止膜の製造方法 | |
JP2011237469A (ja) | 光学素子及びその製造方法 | |
US20070116934A1 (en) | Antireflective surfaces, methods of manufacture thereof and articles comprising the same | |
JP2005156695A (ja) | 反射防止膜及びその製造方法、並びに反射防止膜作製用スタンパ及びその製造方法 | |
JP2012014084A (ja) | 光学素子及びその製造方法、及びそれを用いた光学系、光学機器、撮像装置及びレンズ交換式カメラ | |
JP2000071290A (ja) | 反射防止物品の製造方法 | |
KR101656978B1 (ko) | 몰드의 제조 방법 및 미세 요철 구조를 표면에 갖는 성형체의 제조 방법 | |
JP2009031764A (ja) | 反射防止物品、およびこれより得られる成形品、ならびにこれらを備えた自動車用部品 | |
JP5940662B2 (ja) | 反射防止フィルムの製造方法 | |
Wu et al. | Fabrication of a nano/micro hybrid lens using gas-assisted hot embossing with an anodic aluminum oxide (AAO) template | |
JP5027347B2 (ja) | 型および型の製造方法 | |
KR101433090B1 (ko) | 식각 정지층을 이용하여 표면에 나노구조가 형성된 무반사렌즈용 금속 주형 및 그 제조방법 | |
WO2008082421A1 (en) | Antireflective surfaces, methods of manufacture thereof and articles comprising the same | |
JP5856286B2 (ja) | 離型処理方法および反射防止膜の製造方法 | |
JP2009287123A (ja) | 陽極酸化ポーラスアルミナからなる鋳型及びその製造方法 | |
JP2011026648A (ja) | スタンパの製造方法、および成形体の製造方法 | |
JP2013007078A (ja) | アルミニウム基材、ロール金型、複数の突起を表面に有する部材および反射防止機能を有する物品 | |
JP2008209448A (ja) | 反射防止構造体 | |
JP2012008419A (ja) | 光学素子の成形用金型、及び光学素子及びその製造方法 | |
TWI536036B (zh) | 光學膜的製備方法 | |
JP2015146023A (ja) | 光学素子 | |
JP5832066B2 (ja) | 成形体とその製造方法 | |
JP2002321227A (ja) | 光学素子成形用母型の製造方法、及び該母型を用いた光学素子の製造方法、該製造方法による光学素子 | |
JP2011206938A (ja) | 熱インプリント用モールドおよびその製造方法並びにそのモールドを用いた樹脂材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20111209 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130111 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131021 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131112 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140114 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140422 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140620 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20141202 |