JP2012014084A - 光学素子及びその製造方法、及びそれを用いた光学系、光学機器、撮像装置及びレンズ交換式カメラ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材10と、基材10の表面に形成され、低表面エネルギー材料からなる撥水性の低表面エネルギー層20とを有する光学素子1であって、低表面エネルギー層20は、光学素子1が使用する波長よりも短い周期で配列された複数の微細凸部21aからなる微細凹凸構造21を有することを特徴とする光学素子。
【選択図】図1
Description
(1) 基材と、前記基材の表面に形成され、低表面エネルギー材料からなる低表面エネルギー層とを有する光学素子であって、前記低表面エネルギー層は、該光学素子が使用する波長よりも短い周期で配列された複数の微細凸部からなる微細凹凸構造を有することを特徴とする光学素子。
(2) 上記(1) に記載の光学素子において、前記低表面エネルギー材料は撥水性材料からなることを特徴とする光学素子。
(3) 上記(1)または(2) に記載の光学素子において、前記低表面エネルギー材料は撥油性材料からなることを特徴とする光学素子。
(4) 上記(1)〜(3) に記載の光学素子において、前記低表面エネルギー層の表面の水の接触角は110°以上であることを特徴とする光学素子。
(5) 上記(1)〜(4) のいずれかに記載の光学素子において、前記低表面エネルギー層は樹脂からなることを特徴とする光学素子。
(6) 上記(5) に記載の光学素子において、前記樹脂は含フッ素樹脂であることを特徴とする光学素子。
(7) 上記(5) に記載の光学素子において、前記樹脂は紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする光学素子。
(8) 上記(1)〜(7) のいずれかに記載の光学素子において、前記低表面エネルギー層は使用する光の波長帯域において透明性を有することを特徴とする光学素子。
(9) 上記(1)〜(8) のいずれかに記載の光学素子において、前記微細凸部はほぼ円柱状であることを特徴とする光学素子。
(10) 上記(1)〜(9) のいずれかに記載の光学素子において、前記微細凸部の平均周期は50〜500 nmであることを特徴とする光学素子。
(11) 上記(1)〜(10) のいずれかに記載の光学素子において、前記微細凸部の平均高さは10〜300 nmであることを特徴とする光学素子。
(12) 上記(1)〜(11) のいずれかに記載の光学素子において、前記微細凹凸構造の平均表面粗さは1〜100 nmであることを特徴とする光学素子。
(13) 上記(1)〜(12) のいずれかに記載の光学素子において、HAZE値が0.5以下であることを特徴とする光学素子。
(14) 上記(1)〜(13) のいずれかに記載の光学素子の製造方法であって、細孔構造を有する転写型を使用し、前記基材に前記低表面エネルギー層を形成するとともに、前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細凸部を転写して前記微細凹凸構造を形成することを特徴とする光学素子の製造方法。
(15) 上記(1)〜(13) のいずれかに記載の光学素子の製造方法であって、細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、前記基材に前記低表面エネルギー層を形成するとともに、前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細凸部を転写して前記微細凹凸構造を形成することを特徴とする光学素子の製造方法。
(16) 上記(1)〜(13) のいずれかに記載の光学素子を有する光学系。
(17) 上記(1)〜(13) のいずれかに記載の光学素子を有する光学機器。
(18) 上記(1)〜(13) のいずれかに記載の光学素子を有する撮像装置。
(19) 上記(1)〜(13) のいずれかに記載の光学素子を有するレンズ交換式カメラ。
本発明の光学素子1は、図1及び2に示すように、基材10と、基材10の表面に形成された低表面エネルギー層20とを有し、低表面エネルギー層20には複数の微細凸部21aが二次元周期で配置された微細凹凸構造21が設けられている。微細凸部21aは高さ方向に径がほぼ均一な円柱構造を有する。低表面エネルギー層20は基材10の光学素子の受光面側に設けられているのが好ましいが、両面に設けられていても良い。なお説明のため、低表面エネルギー層20を実際より厚く図示している。
基材10は光透過性を有する光学物品であるのが好ましく、表面が微細凹凸構造を有しない平滑面であるのが好ましい。基材10の具体例としては、平面基板、光学レンズ、光学フィルタ、プリズム、光学ローパスフィルタ等が挙げられる。
低表面エネルギー層20は、撥水性又は撥水撥油性(以下、「撥水/撥油性」とする。)を有する低表面エネルギー材料からなり、複数の微細凸部からなる微細凹凸構造を有する。これにより、微細凹凸構造の全体で均一な撥水/撥油性の効果が得られるとともに、撥水/撥油性の膜をさらに形成する必要がないため、成膜による形状変化や膜の剥離等の問題が生じない。
cosθγ=γcosθ ・・・(1)
(ただしθγは凹凸面での接触角であり、γは表面積倍増因子であり、θは平滑面での接触角である。)により近似される関係が有る。通常γ>1であるので、θγは、θ<90°である時にはθより小さく、θ>90°である時にはθより大きい。よって一般的に親水性表面の面積を凹凸化により大きくすると親水性が一層強まり、撥水性表面の面積を凹凸化により大きくすると撥水性が一層強くなる。そのため撥水性の低表面エネルギー層20上に微細凹凸構造を設けることにより、高い撥水効果が得られる。低表面エネルギー層の表面の水の接触角は110°以上であるのが好ましく、120°以上であるのがより好ましい。このような表面の凹凸化により、親油性及び撥油性についても同様の効果が得られる。
CF3(CF2)a(CH2)2SiRbXc・・・(2)
(ただしRはアルキル基であり、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子であり、aは0〜7の整数であり、bは0〜2の整数であり、cは1〜3の整数であり、かつb + c = 3である。)により表される化合物が挙げられる。式(2)により表される化合物の具体例として、CF3(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CH2)2SiCl3、CF3(CF2)5(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)5(CH2)2SiCl3、CF3(CF2)7(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)7(CH2)2SiCl3、CF3(CF2)7(CH2)3SiCH3(OCH3)2、CF3(CF2)7(CH2)2SiCH3Cl2等が挙げられる。有機珪素ポリマーとして市販品を用いてもよく、例えばノベックEGC-1720(住友スリーエム株式会社製)やXC98-B2472(GE東芝シリコーン株式会社製)等が挙げられる。
微細凹凸構造21の微細凸部21aは、高さ方向に径がほぼ均一な円柱構造を有し、使用する光の波長以下の周期で二次元配置されているのが好ましい。微細凸部21aを使用する光の波長以下の周期で二次元配置すると、微細凹凸構造21は、入射媒質の屈折率と低表面エネルギー層20の屈折率との中間的な屈折率を有する反射防止膜としても機能する。この屈折率を微細凹凸構造21の実効屈折率と呼ぶ。微細凹凸構造21の実効屈折率は、微細凹凸構造21における媒質と微細凸部21aとの体積比(微細凸部21aの体積占有率f)に相関する。微細凸部21aが完全に均一な二次元周期性を持たず多少のランダム性を持っていたとしても、構造体の周期や径の分布が小さければ、二次元的に等しい体積占有率を有しているとみなすことができ、その実効屈折率も二次元的に均一であるとみなせる。このときの体積占有率は、構造体が理想的な二次元配置である六方細密に配置していること想定し、その周期は構造の平均的な周期を用いて推定すればよく、また微細凸部21aは円柱状であり構造の高さ方向の体積変化は無いことから、体積占有率は結果的に二次元上に六方細密で配置した円柱構造の断面積の比率に相関することになる。よって、微細凸部21aの体積占有率fは、微細凸部21aの平均太さをD(nm)とし、微細凸部21aの平均周期をp(nm)としたとき、下記式(3):
f=πD2/(2×√3×p2) ・・・(3)
から求められる。
n=fnm+(1―f)n0 ・・・(4)
から求めることができる。また二乗平均をとって、下記式(5):
n=(fnm 2+(1―f)n0 2)1/2 ・・・(5)
から求めることもできる。
n=(n0nm)1/2 ・・・(6)
を満たすのが好ましい。微細凹凸構造21の実効屈折率nが式(6) を満たすとき、微細凹凸構造21と入射媒質との界面における反射光と微細凹凸構造21と基材部30との界面における反射光との干渉により、低表面エネルギー層20の表面における入射光の反射を最小にできる。材料や製造上の制約によりこの条件が満たせない場合は、必ずしも条件を満たす必要は無いが、式(6)の条件に近いほうが反射防止効果は高くなるため、式(6)の条件に近づけることが望ましい。
h=λ/4n ・・・(7)
を満たすのが好ましい。また使用する光の波長がλ1(nm)からλ2(nm)の範囲内であるとき、下記式(8):
λ1/4≦nh≦λ2/4 ・・・(8)
を満たすのが好ましい。例えば、使用する光が可視光(波長はおよそ400〜700nm)である場合、100nm≦nh≦175nmを満たすのが好ましい。
微細凸部の平均高さhは、使用する光の波長および微細凹凸構造21の実効屈折率nを考慮して、式(7)、式(8)を満たすように調整すれば良く、特に限定されないが、10〜300 nmであるのが好ましい。
微細凹凸構造21により、光学素子1の表面の表面粗さが増大し、表面に付着した塵埃粒子の分子間力及び接触帯電付着力が低減され、防塵効果が得られる。表面粗さの指標の1つである三次元平均表面粗さSRaは、原子間力顕微鏡(AFM)を用いてJIS B0601により求められる中心線平均粗さ(Ra:算術平均粗さ)を三次元に拡張したものであって、下記式(9):
(ただしXL〜XRは測定面のX座標の範囲であり、YB〜YTは測定面のY座標の範囲であり、S0は測定面がフラットであるとした場合の面積|XR−XL|×|YT−YB|であり、XはX座標であり、YはY座標であり、F(X,Y)は測定点(X,Y)における高さであり、Z0は測定面内の平均高さである。)により表される。
また、低表面エネルギー層20の撥水/撥油性により、表面に付着した塵埃粒子の液架橋力が低減され、防塵効果が得られる。
球形の塵埃粒子と低表面エネルギー層20との間の液架橋力Fは、
下記一般式(7):
F=−2πγD ・・・(7)
(ただしγは液の表面張力であり、Dは塵埃粒子の粒径である。)により表され、低表面エネルギー層20と塵埃粒子の接触部に液体が凝集することによりできる液架橋により生じる力である。よって低表面エネルギー層20を設けることにより撥水/撥油性を付与すると、液架橋力Fによる塵埃粒子の付着を低減できる。
以上詳述した光学素子は本発明の光学系、光学機器、撮像装置及びレンズ交換式カメラに好適に用いられる。光学系としては一般的な撮像用レンズや光ピックアップレンズ等の光学レンズが挙げられる。撮像装置としては、例えばデジタル一眼レフカメラ等のデジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラが挙げられる。
(a) 陽極酸化ポーラスアルミナの製造
図3(a) に示すように、高純度のアルミニウム板41を用いる。アルミニウム板41の材料は、陽極酸化処理が可能なものであれば特に限定されないが、不純物を含むと陽極酸化処理時にポーラス構造に大きな欠陥が生じることから、できるだけ純度の高いアルミニウムを用いるのが好ましい。具体的には、純度99%以上のものを用いるのが好ましい。
基材10の表面に形成された微細凹凸構造21を有する低表面エネルギー層20を設ける方法としては、例えば図4(a)〜(d) に示すように、ポーラスアルミナ転写型40と基材10に熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等の低表面エネルギー層20の材料を塗布し、その上にポーラスアルミナ転写型40を押圧した状態で、加熱、光照射等を行って樹脂を硬化させたりすることにより、基材10の表面に低表面エネルギー層20を設けるとともに、低表面エネルギー層20の表面に微細凹凸構造21を転写する方法が挙げられる。本発明の光学素子の製造方法はこれに限らず、種々の方法を用いることができる。
鏡面研磨した20 mm×20 mmの高純度アルミニウム板(純度99.99%)41を転写型用基板として用いた。アルミニウム板41を17℃の0.3 Mシュウ酸に浸漬し、陽極に直流電流を接続して電圧60Vを2分間印加し、アルミニウム板41の表面にポーラスアルミナを形成した。このアルミニウム板41をクロム酸及びリン酸の混酸の剥離液に浸漬し、作製したポーラスアルミナを剥離した後、再び同じ条件で30秒間陽極酸化処理を行い、再度ポーラスアルミナを形成した。その後、30℃の5wt%リン酸に35分間浸漬して孔径拡大処理を行った。アルミニウム板41の表面にポーラスアルミナ42が形成された。ポーラスアルミナ42が形成されたアルミニウム板41を純水により洗浄した後、乾燥させ、ポーラスアルミナ転写型40を得た。
鏡面研磨したガラス基板上に紫外線硬化型の含フッ素系樹脂(NIF−A−A−1, 旭硝子株式会社製)を塗布し、その上に実施例1と同じポリカーボネート基板を載置し、ポリカーボネート基板の上から圧力を加えて両者を良く密着させた後、UV光源をポリカーボネート基板側から照射し、樹脂を硬化させた。樹脂の硬化後、ガラス基板を離型させ、平面基板状の光学素子を得た。その表面の水の接触角を実施例1と同様に測定したところ、接触角は約95°であった。
実施例1と同じ条件で作製したポーラスアルミナ転写型40を使用し、ポーラスアルミナ転写型40の表面に一般的なアクリル系のナノインプリント用紫外線硬化型樹脂(PAK-01,東洋合成工業株式会社製)を塗布し、その上に実施例1と同じポリカーボネート基板を載置し、ポリカーボネート基板の上から圧力を加えて両者を良く密着させた後、UV光源をポリカーボネート基板側から照射し、樹脂を硬化させた。樹脂の硬化後、ポーラスアルミナ転写型40を離型させたが、離型するのに実施例1よりも大きな力を要した。またポーラスアルミナ転写型40の細孔の一部に離型しきれなかった樹脂が残留していた。
実施例1と同じ条件で作製したポーラスアルミナ転写型40を使用し、ポーラスアルミナ転写型40の表面に、ポーラスアルミナ転写型40を離型剤(DURASURF HD-1101, 株式会社ハーベス製)に浸漬し、一定速度で引き上げた後、乾燥させることにより、ポーラスアルミナ43の細孔に離型膜を塗布した。ポーラスアルミナ転写型40の表面に比較例2と同じ樹脂(PAK-01,東洋合成工業株式会社製)を塗布し、その上に実施例1と同じポリカーボネート基板を載置し、ポリカーボネート基板の上から圧力を加えて両者を良く密着させた後、UV光源をポリカーボネート基板側から照射し、樹脂を硬化させた。樹脂の硬化後、ポーラスアルミナ転写型40を離型させたところ、問題なく離型され、ポーラスアルミナ転写型40の形状が良く転写されていた。
鏡面研磨したガラス基板上に比較例2と同じ樹脂(PAK-01,東洋合成工業株式会社製)を塗布し、その上に実施例1と同じポリカーボネート基板を載置し、ポリカーボネート基板の上から軽く圧力を加えて両者を良く密着させた後、UV光源をポリカーボネート基板側から照射し、樹脂を硬化させた。樹脂の硬化後、ガラス基板を離型させたが、離型するのに実施例1よりも大きな力を要したが、問題なく離型され、平面基板状の光学素子を得た。その表面の水の接触角を実施例1と同様に測定したところ、接触角は約55°であった。
実施例1と同じポリカーボネート基板の水との接触角を、実施例1と同様に測定したところ、接触角は約81°であった。分光反射率特性を測定したところ、図6に示すように、400〜700 nmの可視光領域で反射率が5〜6%程度であった。
10・・・基材
20・・・低表面エネルギー層
21・・・微細凹凸構造
21a・・・微細凸部
40・・・ポーラスアルミナ転写型
41・・・アルミニウム板
42・・・ポーラスアルミナ
Claims (19)
- 基材と、前記基材の表面に形成され、低表面エネルギー材料からなる低表面エネルギー層とを有する光学素子であって、前記低表面エネルギー層は、該光学素子が使用する波長よりも短い周期で配列された複数の微細凸部からなる微細凹凸構造を有することを特徴とする光学素子。
- 請求項1に記載の光学素子において、前記低表面エネルギー材料は撥水性材料からなることを特徴とする光学素子。
- 請求項1または2に記載の光学素子において、前記低表面エネルギー材料は撥油性材料からなることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜3に記載の光学素子において、前記低表面エネルギー層の表面の水の接触角は110°以上であることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の光学素子において、前記低表面エネルギー層は樹脂からなることを特徴とする光学素子。
- 請求項5に記載の光学素子において、前記樹脂は含フッ素樹脂であることを特徴とする光学素子。
- 請求項5に記載の光学素子において、前記樹脂は紫外線硬化性樹脂であることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の光学素子において、前記低表面エネルギー層は使用する光の波長帯域において透明性を有することを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜8のいずれかに記載の光学素子において、前記微細凸部はほぼ円柱状であることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の光学素子において、前記微細凸部の平均周期は50〜500 nmであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の光学素子において、前記微細凸部の平均高さは10〜300 nmであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜11のいずれかに記載の光学素子において、前記微細凹凸構造の平均表面粗さは1〜100 nmであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜12のいずれかに記載の光学素子において、HAZE値が0.5以下であることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜13のいずれかに記載の光学素子の製造方法であって、細孔構造を有する転写型を使用し、前記基材に前記低表面エネルギー層を形成するとともに、前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細凸部を転写して前記微細凹凸構造を形成することを特徴とする光学素子の製造方法。
- 請求項1〜13のいずれかに記載の光学素子の製造方法であって、細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型とし、前記基材に前記低表面エネルギー層を形成するとともに、前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細凸部を転写して前記微細凹凸構造を形成することを特徴とする光学素子の製造方法。
- 請求項1〜13のいずれかに記載の光学素子を有する光学系。
- 請求項1〜13のいずれかに記載の光学素子を有する光学機器。
- 請求項1〜13のいずれかに記載の光学素子を有する撮像装置。
- 請求項1〜13のいずれかに記載の光学素子を有するレンズ交換式カメラ。
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