JP2012014083A - 光学素子及びそれを用いた撮像装置及びレンズ交換式カメラ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材10と、基材10の表面に形成された防塵層20とを有する光学素子1であって、防塵層20は、細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型としてなり、細孔構造の逆パターンを有する複数の微細凸部21aからなる防塵構造21を有することを特徴とする光学素子。
【選択図】図1
Description
(1) 基材と、前記基材の表面に形成された防塵層とを有する光学素子であって、前記防塵層は、細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型としてなり、前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細凸部からなる防塵構造を有することを特徴とする光学素子。
(2) 上記(1) に記載の光学素子において、前記微細凸部はほぼ円柱状であり、使用する光の最短波長以下の二次元周期で設けられており、もって前記防塵構造は反射防止機能を有することを特徴とする光学素子。
(3) 上記(1) 又は(2) に記載の光学素子において、前記防塵層は前記光学素子の受光面側に設けられていることを特徴とする光学素子。
(4) 上記(1)〜(3) のいずれかに記載の光学素子において、前記防塵構造の平均表面粗さは1〜100 nmであることを特徴とする光学素子。
(5) 上記(2)〜(4) のいずれかに記載の光学素子において、前記微細凸部の平均周期は50〜500 nmであることを特徴とする光学素子。
(6) 上記(1)〜(5) のいずれかに記載の光学素子において、前記微細凸部の平均高さは10〜300 nmであることを特徴とする光学素子。
(7) 上記(1)〜(6) のいずれかに記載の光学素子において、HAZEが0.5以下であることを特徴とする光学素子。
(8) 上記(1)〜(7) のいずれかに記載の光学素子において、前記防塵層は樹脂からなることを特徴とする光学素子。
(9) 上記(8) に記載の光学素子において、前記防塵層は光硬化性樹脂からなることを特徴とする光学素子。
(10) 上記(8) に記載の光学素子において、前記防塵層は熱硬化性樹脂からなることを特徴とする光学素子。
(11) 上記(1)〜(10) のいずれかに記載の光学素子において、前記防塵層は導電性フィラーを有することを特徴とする光学素子。
(12) 上記(1)〜(11) のいずれかに記載の光学素子において、前記防塵層の下地層として帯電防止層を有することを特徴とする光学素子。
(13) 上記(1)〜(12) のいずれかに記載の光学素子において、前記防塵層の上に撥水性又は撥水撥油性の膜を有することを特徴とする光学素子。
(14) 上記(1)〜(13) のいずれかに記載の光学素子において、前記基材はガラス基板であることを特徴とする光学素子。
(15) 上記(1)〜(14) のいずれかに記載の光学素子において、前記基材は水晶又はニオブ酸リチウムであることを特徴とする光学素子。
(16) 上記(1)〜(14) のいずれかに記載の光学素子において、前記基材は撮像素子のカバーガラスであることを特徴とする光学素子。
(17) 上記(1)〜(14) のいずれかに記載の光学素子において、前記基材は赤外カットガラスであることを特徴とする光学素子。
(18) 上記(1)〜(14) のいずれかに記載の光学素子において、前記基材は光学ローパスフィルタであることを特徴とする光学素子。
(19) 上記(1)〜(18) のいずれかに記載の光学素子において、前記基材はカバーガラス、赤外カットガラス又は光学ローパスフィルタと貼り合わされていることを特徴とする光学素子。
(20) 上記(1)〜(19) のいずれかに記載の光学素子を有する撮像装置。
(21) 上記(1)〜(19) のいずれかに記載の光学素子を有するレンズ交換式カメラ。
また本発明によれば、上記光学素子を有する撮像装置及びレンズ交換式カメラが得られる。
本発明の光学素子1は、図1に示すように、基材10と、基材10の表面に形成された防塵層20とを有し、防塵層20には複数の微細凸部21aが二次元周期で配置された防塵構造21が設けられている。微細凸部21aは高さ方向に径がほぼ均一な円柱構造を有する。防塵層20は基材10の両面に設けても良いが、光学素子1の受光面側に設けられているのが好ましい。なお説明のため、防塵層20は実際より厚く図示されている。
基材10は光透過性を有するのが好ましく、一般的なガラス基板や光学ローパスフィルタ、撮像素子のカバーガラス、赤外カットガラス等が挙げられる。また基材10をカバーガラス、赤外カットガラス又は光学ローパスフィルタと貼り合わしても良い。
防塵層20の防塵構造21において、微細凸部21aの面密度の指標である三次元平均表面粗さ(SRa)が大きいほど、防塵層20に付着した塵埃粒子の分子間力及び接触帯電付着力を低減する効果が高い。分子間力Fとは、分子と分子が非常に接近した際に発生する引力のことであり、下記一般式(1):
[AはHamaker定数(van der Waals 相互作用の大きさを表す量)であり、Dは塵埃粒子径であり、Zは塵埃粒子と防塵層20の表面との間の距離であり、kは防塵層20の弾性係数であり、bは防塵層20の三次元平均表面粗さSRaである。]により表すことができる。分子間力Fに影響を与えるパラメータの中で、特にSRaが支配的である。防塵層20の表面の三次元平均表面粗さSRaを大きくすることにより、分子間力Fが低減し、塵埃粒子の付着力も低減させることができる。
[ただしε0は真空の誘電率8.85×10-12(F/m)であり、Vcは塵埃粒子と防塵層20との接触電位差であり、AはHamaker定数(van der Waals 相互作用の大きさを表す量)であり、kは下記式:k=k1 + k2(ただしk1及びk2は各々k1=(1−ν1 2)/E1及びk2=(1−ν2 2)/E2であり、ν1及びν2は防塵層20及び塵埃粒子のPoisson比であり、E1及びE2はそれぞれ防塵層20及び塵埃粒子のYoung率である。)により表される係数であり、Dは塵埃粒子径であり、Z0は防塵層20と塵埃粒子との間の距離であり、bは防塵層20のSRaである。]により表され、化学的なポテンシャルの差により発生する。式(2) から明らかなように、b(防塵層20のSRa)を大きくすることにより、接触帯電付着力F1も小さくできる。
(ただしXL〜XRは測定面のX座標の範囲であり、YB〜YTは測定面のY座標の範囲であり、S0は測定面がフラットであるとした場合の面積|XR−XL|×|YT−YB|であり、XはX座標であり、YはY座標であり、F(X,Y)は測定点(X,Y)における高さであり、Z0は測定面内の平均高さである。)により表される。
SR=S/S0 ・・・(4)
(ただしS0は測定面がフラットであるとした場合の面積であり、Sは防塵層20の表面積値である。)により求めれる。SRは、光の散乱が発生しない程度の大きさであるのが好ましい。
0.3以下であるのがより好ましい。HAZEは、JIS K7136に準拠して求める。HAZEが0.5以下であるば、光透過系の光学素子に対しても用いることができる。
防塵層20と基材10との間に防塵層20の下地層として帯電防止層を設けても良い。帯電防止層を設けることにより塵埃付着の原因の一つであるクーロン力を低減でき、耐塵埃付着性が一層向上する。均一に帯電した塵埃粒子と防塵層20との間の静電付着力F2は下記一般式(5):
(ただしq1及びq2はそれぞれ防塵層20及び塵埃粒子の電荷(C)であり、rは粒子半径であり、ε0は真空の誘電率8.85×10-12(F/m)である。)により表される。式(5)から明らかなように、防塵層20又は塵埃粒子の帯電量を低減することにより静電付着力F2を低減できるため、帯電防止層により除電するのは効果的である。また均一に帯電した塵埃粒子と防塵層20との間の電気映像力F3は下記一般式(6):
(ただしε0は真空の誘電率8.85×10-12(F/m)であり、εは防塵層20の誘電率であり、qは塵埃粒子の電荷であり、rは粒子半径である。)により表され、帯電していない防塵層20に電荷を有する塵埃粒子が近づくと異符号等価の電荷が誘起されることにより発生する力である。電気映像力F3はほぼ塵埃粒子の帯電率に依存するため、付着した塵埃粒子を帯電防止層により除電することにより小さくすることができる。帯電防止層による除電効果に比べて電気映像力F3を低減する効果は低いが、防塵層20を誘電率の小さいものとしてもよい。
防塵層20の表面に撥水性又は撥水撥油性の膜(以下特段の断りがない限り、「撥水/撥油性膜」と表記する。)を設けても良い。撥水/撥油性膜は通常最表面に形成する。球形の塵埃粒子と防塵層20との間の液架橋力F4は、
下記一般式(7):
F4=−2πγD ・・・(7)
(ただしγは液の表面張力であり、Dは塵埃粒子の粒径である。)により表され、防塵層20と塵埃粒子の接触部に液体が凝集することによりできる液架橋により生じる力である。よって防塵層20上に撥水/撥油性膜を形成し、水や油の付着を低減すると、液架橋力F4による塵埃粒子の付着を低減できる。
cosθγ=γcosθ ・・・(8)
(ただしθγは凹凸面での接触角であり、γは表面積倍増因子であり、θは平滑面での接触角である。)により近似される関係が有る。通常γ>1であるので、θγは、θ<90°である時にはθより小さく、θ>90°である時にはθより大きい。よって一般的に親水性表面の面積を凹凸化により大きくすると親水性が一層強まり、撥水性表面の面積を凹凸化により大きくすると撥水性が一層強くなる。そのため微細な凹凸を有する防塵層20上に、凹凸を保持するように撥水膜を形成すると、高い撥水効果が得られる。最表面に撥水/撥油性膜を形成した場合も、防塵層20の三次元平均表面粗さ(SRa)、比表面積(SR)及び微細凸部21aの平均高さはそれぞれ上記の範囲内であるのが好ましい。
CF3(CF2)a(CH2)2SiRbXc・・・(9)
(ただしRはアルキル基であり、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子であり、aは0〜7の整数であり、bは0〜2の整数であり、cは1〜3の整数であり、かつb + c = 3である。)により表される化合物が挙げられる。式(9)により表される化合物の具体例として、CF3(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CH2)2SiCl3、CF3(CF2)5(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)5(CH2)2SiCl3、CF3(CF2)7(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)7(CH2)2SiCl3、CF3(CF2)7(CH2)3SiCH3(OCH3)2、CF3(CF2)7(CH2)2SiCH3Cl2等が挙げられる。有機珪素ポリマーとして市販品を用いてもよく、例えばノベックEGC-1720(住友スリーエム株式会社製)やXC98-B2472(GE東芝シリコーン株式会社製)等が挙げられる。
防塵構造21の微細凸部21aは、高さ方向に径がほぼ均一な円柱構造を有し、使用する光の波長以下の周期で二次元配置されているのが好ましい。微細凸部21aを使用する光の波長以下の周期で二次元配置すると、防塵構造21は、入射媒質の屈折率と防塵層20の屈折率との中間的な屈折率を有する反射防止膜としても機能する。この屈折率を防塵構造21の実効屈折率と呼ぶ。防塵構造21の実効屈折率は、防塵構造21における媒質と微細凸部21aとの体積比(微細凸部21aの体積占有率f)に相関する。微細凸部21aが完全に均一な二次元周期性を持たず多少のランダム性を持っていたとしても、構造体の周期や径の分布が小さければ、二次元的に等しい体積占有率を有しているとみなすことができ、その実効屈折率も二次元的に均一であるとみなせる。このときの体積占有率は、構造体が理想的な二次元配置である六方細密に配置していること想定し、その周期は構造の平均的な周期を用いて推定すればよく、また微細凸部21aは円柱状であり構造の高さ方向の体積変化は無いことから、体積占有率は結果的に二次元上に六方細密で配置した円柱構造の断面積の比率に相関することになる。よって、微細凸部21aの体積占有率fは、微細凸部21aの平均太さをD(nm)とし、微細凸部21aの平均周期をp(nm)としたとき、下記式(10):
f=πD2/(2×√3×p2) ・・・(10)
から求められる。微細凸部21aの平均太さDと平均周期pとの比は
0.1〜1.0であるのが好ましい。
n=fnm+(1―f)n0 ・・・(11)
から求めることができる。また二乗平均をとって、下記式(12):
n=(fnm 2+(1―f)n0 2)1/2 ・・・(12)
から求めてもよい。
n=(n0nm)1/2 ・・・(13)
を満たすのが好ましい。防塵構造21の実効屈折率nが式(13) を満たすとき、防塵構造21と入射媒質との界面における反射光と防塵構造21と基材部30との界面における反射光との干渉により、防塵層20の表面における入射光の反射を最小にできる。材料や製造上の制約によりこの条件が満たせない場合は、必ずしも条件を満たす必要は無いが、式(13)の条件に近いほうが反射防止効果は高く、式(13)の条件に近づけることが望ましい。
0.1〜1.0であるのが好ましい。
h=λ/4n ・・・(14)
を満たすのが好ましい。また使用する光の波長がλ1(nm)からλ2(nm)の範囲内であるとき、下記式(15):
λ1/4≦nh≦λ2/4 ・・・(15)
を満たすのが好ましい。
例えば、使用する光が可視光(波長はおよそ400〜700nm)である場合、100nm≦nh≦175nmを満たすのが好ましい。
(a) 陽極酸化ポーラスアルミナの製造
図2(a) に示すように、高純度のアルミ基板、ガラス基板等の表面に真空蒸着法、スパッタリング法等により高純度のアルミ膜42を形成し、処理基板41を作製する。アルミ膜42の材料は、陽極酸化処理が可能なものであれば特に限定されないが、不純物を含むと陽極酸化処理時にポーラス構造に大きな欠陥が生じることから、できるだけ純度の高いアルミニウムを用いるのが好ましい。具体的には、純度99%以上のものを用いるのが好ましい。
基材10の表面に形成された防塵構造21を有する防塵層20を設ける方法としては、例えば図3(a)〜(d) に示すように、ポーラスアルミナ転写型40と基材10に熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等の防塵層20の材料を塗布し、その上にポーラスアルミナ転写型40を押圧した状態で、加熱、光照射等を行って樹脂を硬化させたりすることにより、基材10の表面に防塵層20を設けるとともに、防塵層20の表面に防塵構造21を転写する方法が挙げられる。
鏡面研磨した石英基板41上に真空蒸着法により純度99.99%のアルミ膜42を約1μm成膜した。石英基板41を17℃の0.3 Mシュウ酸電解質に浸漬し、陽極に電圧40Vを印加して、石英基板41の表面にポーラスアルミナを形成した。この石英基板41をクロム酸及びリン酸の混酸の剥離液に浸漬し、作製したポーラスアルミナを剥離した後、再び同じ条件で30秒間陽極酸化処理を行い、石英基板41の表面にポーラスアルミナ43を形成した。その後、30℃の5wt%リン酸に30分間浸漬して孔径拡大処理を行った。ポーラスアルミナ43が形成された石英基板41を純水により洗浄した後、乾燥させ、ポーラスアルミナ転写型40が得られた。図4(a) 及び(b) に示すように、ポーラスアルミナ43の表面には約100 nmの二次元周期で細孔が形成されていた。ポーラスアルミナ転写型40を離型剤(オプツールHD/ダイキン化成品販売株式会社)に浸漬し、一定速度で引き上げた後、乾燥させることにより、ポーラスアルミナ43の細孔に離型膜を形成した。
基板10として実施例1と同じものを使用し、樹脂層20を形成しなかった。実施例1と同様に送風テストを行ったところ、基板10の表面にけい砂の多くが残留しているの確認した。また分光反射率特性を測定したところ、400〜700 nmの可視光領域で反射率が約4%であった。
10・・・基材
20・・・樹脂層
21・・・防塵構造
21a・・・微細凸部
40・・・ポーラスアルミナ転写型
41・・・処理基板
42・・・アルミ膜
43・・・ポーラスアルミナ
Claims (21)
- 基材と、前記基材の表面に形成された防塵層とを有する光学素子であって、前記防塵層は、細孔構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナを転写型としてなり、前記細孔構造の逆パターンを有する複数の微細凸部からなる防塵構造を有することを特徴とする光学素子。
- 請求項1に記載の光学素子において、前記微細凸部はほぼ円柱状であり、使用する光の最短波長以下の二次元周期で設けられており、もって前記防塵構造は反射防止機能を有することを特徴とする光学素子。
- 請求項1又は2に記載の光学素子において、前記防塵層は前記光学素子の受光面側に設けられていることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の光学素子において、前記防塵構造の平均表面粗さは1〜100 nmであることを特徴とする光学素子。
- 請求項2〜4のいずれかに記載の光学素子において、前記微細凸部の平均周期は50〜500 nmであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の光学素子において、前記微細凸部の平均高さは10〜300 nmであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の光学素子において、HAZEが0.5以下であることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の光学素子において、前記防塵層は樹脂からなることを特徴とする光学素子。
- 請求項8に記載の光学素子において、前記防塵層は光硬化性樹脂からなることを特徴とする光学素子。
- 請求項8に記載の光学素子において、前記防塵層は熱硬化性樹脂からなることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の光学素子において、前記防塵層は導電性フィラーを有することを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜11のいずれかに記載の光学素子において、前記防塵層の下地層として帯電防止層を有することを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜12のいずれかに記載の光学素子において、前記防塵層の上に撥水性又は撥水撥油性の膜を有することを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜13のいずれかに記載の光学素子において、ガラス基板であることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜13のいずれかに記載の光学素子において、前記基材は水晶又はニオブ酸リチウムであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜13のいずれかに記載の光学素子において、前記基材は撮像素子のカバーガラスであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜13のいずれかに記載の光学素子において、前記基材は赤外カットガラスであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜13のいずれかに記載の光学素子において、前記基材は光学ローパスフィルタであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜18のいずれかに記載の光学素子において、前記基材はカバーガラス、赤外カットガラス又は光学ローパスフィルタと貼り合わされていることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜19のいずれかに記載の光学素子を有する撮像装置。
- 請求項1〜19のいずれかに記載の光学素子を有するレンズ交換式カメラ。
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Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014021377A1 (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型 |
WO2014021376A1 (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法 |
JP2014052432A (ja) * | 2012-09-05 | 2014-03-20 | Dexerials Corp | 防汚体、表示装置、入力装置および電子機器 |
WO2014051082A1 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品 |
JP2014153525A (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止物品及び画像表示装置 |
JP2014153524A (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止物品及び画像表示装置 |
JP2014178662A (ja) * | 2012-07-31 | 2014-09-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型 |
JP2014209235A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、及び画像表示装置 |
JP2014209234A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法 |
JP2014209232A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法 |
JP2014209230A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型 |
JP2014209231A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型 |
JP2014209233A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法 |
WO2014208278A1 (en) * | 2013-06-28 | 2014-12-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical member and image pickup apparatus |
JP2015004747A (ja) * | 2013-06-19 | 2015-01-08 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルムの製造方法および光学フィルム |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001264520A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、偏光素子、および表示装置、ならびに反射防止フィルムの製造方法 |
JP2005316393A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Canon Inc | 光学素子及びその製造方法及びそれを用いた光学機器 |
JP2006124827A (ja) * | 2004-10-01 | 2006-05-18 | Canon Inc | ナノ構造体の製造方法 |
JP2007183366A (ja) * | 2006-01-05 | 2007-07-19 | Pentax Corp | 防塵性光透過性部材及びその用途、並びにその部材を具備する撮像装置 |
JP2008197217A (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 成形体とその製造方法 |
JP2009015076A (ja) * | 2007-07-05 | 2009-01-22 | Hoya Corp | 光学ローパスフィルタ及びそれを具備する撮像装置 |
WO2009054513A1 (ja) * | 2007-10-25 | 2009-04-30 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | スタンパとその製造方法、成形体の製造方法、およびスタンパ用のアルミニウム原型 |
-
2010
- 2010-07-02 JP JP2010152443A patent/JP2012014083A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001264520A (ja) * | 2000-03-16 | 2001-09-26 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止フィルム、偏光素子、および表示装置、ならびに反射防止フィルムの製造方法 |
JP2005316393A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Canon Inc | 光学素子及びその製造方法及びそれを用いた光学機器 |
JP2006124827A (ja) * | 2004-10-01 | 2006-05-18 | Canon Inc | ナノ構造体の製造方法 |
JP2007183366A (ja) * | 2006-01-05 | 2007-07-19 | Pentax Corp | 防塵性光透過性部材及びその用途、並びにその部材を具備する撮像装置 |
JP2008197217A (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 成形体とその製造方法 |
JP2009015076A (ja) * | 2007-07-05 | 2009-01-22 | Hoya Corp | 光学ローパスフィルタ及びそれを具備する撮像装置 |
WO2009054513A1 (ja) * | 2007-10-25 | 2009-04-30 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | スタンパとその製造方法、成形体の製造方法、およびスタンパ用のアルミニウム原型 |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014021376A1 (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法 |
JP2014178662A (ja) * | 2012-07-31 | 2014-09-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型 |
US9678248B2 (en) | 2012-07-31 | 2017-06-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Antireflective article, image display device, production mold for antireflective article and production method for antireflective article production mold |
WO2014021377A1 (ja) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型 |
US9442222B2 (en) | 2012-07-31 | 2016-09-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Antireflective article, image display device, and production mold for antireflective article |
JP2014052432A (ja) * | 2012-09-05 | 2014-03-20 | Dexerials Corp | 防汚体、表示装置、入力装置および電子機器 |
US9158040B2 (en) | 2012-09-28 | 2015-10-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Anti-reflection article |
WO2014051082A1 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品 |
JP2014153525A (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止物品及び画像表示装置 |
JP2014153524A (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 反射防止物品及び画像表示装置 |
JP2014209234A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法 |
JP2014209232A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法 |
JP2014209235A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、及び画像表示装置 |
JP2014209231A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型 |
JP2014209233A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型及び反射防止物品の製造用金型の製造方法 |
JP2014209230A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-11-06 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品、画像表示装置及び反射防止物品の製造用金型 |
JP2015004747A (ja) * | 2013-06-19 | 2015-01-08 | 大日本印刷株式会社 | 光学フィルムの製造方法および光学フィルム |
WO2014208278A1 (en) * | 2013-06-28 | 2014-12-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical member and image pickup apparatus |
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