JP2006197554A - 弾性表面波デバイス及びその製造方法、icカード、携帯用電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 SAWデバイス1は、圧電基板4にIDT電極5、それから引き出した取出電極8、及び圧電基板の全周辺に沿って金属接合部9を設けたSAWチップ2と、ガラス基板10に取出電極8に対応する貫通孔11、ガラス基板下面の全周辺に沿って金属接合部13及び貫通孔の開口周辺に接続電極12を設けたカバー3とを備える。SAWチップの金属接合部及び取出電極とカバーの金属接合部及び接続電極とをそれぞれ熱圧着で接合し、SAWチップとカバー間の空隙にIDT電極を気密に封止する。貫通孔内に形成した金属膜14及び封止材16でガラス基板上面の外部電極15とIDT電極とを電気的に接続する。カバー上面には、外部電極と重なる位置に凹部18を形成する。
【選択図】 図1
Description
図1(A)、(B)は、本発明を適用したSAW共振子の第1実施例の構成を示している。このSAW共振子1は、SAWチップ2とカバー3とを直接接合した構造を有する。SAWチップ2は、図1(B)及び図2に示すように矩形の圧電基板4からなり、その上面中央に1対の交差指電極からなるIDT5が形成され、その長手方向両側に反射器6,6が形成されている。前記交差指電極は、そのバスバーから圧電基板4の長手方向辺縁に沿ってそれぞれ逆向きにリード線7,7が引き出され、該圧電基板の対角方向の隅部付近に形成した取出電極8,8に接続されている。圧電基板4の周辺部には、全周に亘って金属接合部9が設けられている。
Claims (18)
- 圧電基板の主面に設けたIDT電極と、前記IDT電極から引き出した取出電極と、前記圧電基板主面の周辺全体に沿って設けた金属接合部とを有する弾性表面波(SAW)チップと、
絶縁性基板に前記SAWチップの前記取出電極に対応する位置に設けた貫通孔と、前記絶縁性基板の下面にその周辺全体に沿って設けた金属接合部と、前記絶縁性基板下面に前記貫通孔の開口周辺に設けた接続電極と、前記絶縁性基板の上面に前記貫通孔の開口周辺に設けた外部電極とを有するカバーとを備え、
前記SAWチップと前記カバーとが、前記SAWチップの前記金属接合部と前記カバーの前記金属接合部とを接合しかつ前記SAWチップの前記取出電極と前記カバーの前記接続電極とを接合することにより、前記SAWチップと前記カバー間に画定される空間内に前記IDT電極を気密に封止するように一体的に接合され、
前記IDT電極と前記外部電極とが、前記貫通孔内に形成した導電材料により電気的に接続されていることを特徴とする弾性表面波デバイス。 - 接合した前記SAWチップと前記カバーとの間隙が前記IDT電極の厚さより大きいことを特徴とする請求項1に記載の弾性表面波デバイス。
- 接合した前記SAWチップと前記カバーとの間隙が前記IDT電極の厚さに等しいことを特徴とする請求項1に記載の弾性表面波デバイス。
- 前記カバーがその上面に、少なくとも部分的に前記外部電極と重なる位置に設けられた凹部を更に有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の弾性表面波デバイス。
- 前記凹部が前記カバーの外周縁に設けられていることを特徴とする請求項4に記載の弾性表面波デバイス。
- 前記凹部が金属膜で被覆されていることを特徴とする請求項4又は5に記載の弾性表面波デバイス。
- 前記貫通孔の内周面が前記導電材料の金属膜で被覆され、それにより前記IDT電極と前記外部電極とが電気的に接続されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の弾性表面波デバイス。
- 前記SAWチップの前記金属接合部及び前記取出電極がCr/Au膜で形成され、かつ前記カバーの前記金属接合部及び前記接続電極がCr/Au膜で形成されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の弾性表面波デバイス。
- 前記カバーの前記金属接合部及び前記接続電極が前記Cr/Au膜の上に設けられたAuSn合金膜を有することを特徴とする請求項8に記載の弾性表面波デバイス。
- 圧電基板の主面に設けたIDT電極と、前記IDT電極から引き出した取出電極と、前記圧電基板主面の周辺全体に沿って設けた金属接合部とを有するSAWチップを形成する工程と、
絶縁性基板に前記SAWチップの前記取出電極に対応する位置に設けた貫通孔と、前記絶縁性基板の下面にその周辺全体に沿って設けた金属接合部と、前記絶縁性基板下面に前記貫通孔の開口周辺に設けた接続電極とを有するカバーを形成する工程と、
前記SAWチップの前記金属接合部と前記カバーの前記金属接合部とを接合しかつ前記SAWチップの前記取出電極と前記カバーの前記接続電極とを接合することにより、前記SAWチップと前記カバー間に画定される空間内に前記IDT電極を気密に封止するように、前記SAWチップと前記カバーとを一体的に接合する工程と、
前記カバーの上面に前記貫通孔の開口周辺に外部電極を形成する工程と、
前記貫通孔内に導電材料を形成して、前記IDT電極と前記外部電極とを電気的に接続する工程とを備えることを特徴とする弾性表面波デバイスの製造方法。 - 前記カバーの上面に凹部を少なくとも部分的に前記外部電極と重なる位置に設ける工程を更に有することを特徴とする請求項10に記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
- 前記貫通孔の内周面に前記導電材料の金属膜を形成することにより、前記IDT電極と前記外部電極とを電気的に接続することを特徴とする請求項10又は11に記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
- 前記SAWチップと前記カバーとを一体的に接合した後に、前記SAWチップ及び/又は前記カバーの表面を研磨する工程を更に有することを特徴とする請求項10乃至12のいずれかに記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
- 前記SAWチップの前記金属接合部及び前記取出電極をCr/Au膜で形成し、前記カバーの前記金属接合部及び前記接続電極をCr/Au膜で形成し、前記SAWチップの前記金属接合部及び前記取出電極と前記カバーの前記金属接合部及び前記接続電極とをそれぞれ熱圧着で接合することを特徴とする請求項10乃至13のいずれかに記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
- 前記SAWチップの前記金属接合部及び前記取出電極をCr/Au膜で形成し、前記カバーの前記金属接合部及び前記接続電極をCr/Au膜及びその上のAuSn合金膜で形成し、前記SAWチップの前記金属接合部及び前記取出電極と前記カバーの前記金属接合部及び前記接続電極とをそれぞれ熱圧着又は共晶接合で接合することを特徴とする請求項10乃至13のいずれかに記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
- 前記SAWチップを形成する工程において複数の前記SAWチップを連続して配置したSAWチップ用ウエハを形成し、前記カバーを形成する工程において複数の前記カバーを連続して配置したカバー用ウエハを形成し、前記SAWチップと前記カバーとを一体的に接合する工程において前記SAWチップ用ウエハの前記各SAWチップの前記金属接合部と前記カバー用ウエハの前記各カバーの前記金属接合部とを接合しかつ前記各SAWチップの前記取出電極と前記各カバーの前記接続電極とを接合することにより、前記SAWチップ用ウエハと前記カバー用ウエハとを一体的に接合してウエハ積層体を形成し、更に前記ウエハ積層体を個々のSAWデバイスに切断する工程を有することを特徴とする請求項10乃至15のいずれかに弾性表面波デバイスの製造方法。
- 請求項1乃至9のいずれかに記載の弾性表面波デバイスを搭載したことを特徴とするICカード。
- 請求項1乃至9のいずれかに記載の弾性表面波デバイスを搭載したことを特徴とする携帯用電子機器。
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