JPH08130433A - 表面弾性波装置とその保護膜形成方法 - Google Patents
表面弾性波装置とその保護膜形成方法Info
- Publication number
- JPH08130433A JPH08130433A JP28885294A JP28885294A JPH08130433A JP H08130433 A JPH08130433 A JP H08130433A JP 28885294 A JP28885294 A JP 28885294A JP 28885294 A JP28885294 A JP 28885294A JP H08130433 A JPH08130433 A JP H08130433A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- surface acoustic
- acoustic wave
- aluminum
- wave device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属の塵によるショート等を防止して、高周
波帯域で狭帯域のフィルタ等の信頼性を上げる。 【構成】 インターデジタル電極の一方のバスバーに接
続された電極の表面に、陽極酸化法等により酸化膜を形
成する。反射器を具えた共振器や多重モードフィルタ等
においても利用でき、この場合は反射器とともに陽極酸
化処理して酸化膜を形成するとよい。 【効果】 一方のみ酸化膜が形成されるので、他方をト
リミングすることができ、これによって周波数調整が可
能となる。
波帯域で狭帯域のフィルタ等の信頼性を上げる。 【構成】 インターデジタル電極の一方のバスバーに接
続された電極の表面に、陽極酸化法等により酸化膜を形
成する。反射器を具えた共振器や多重モードフィルタ等
においても利用でき、この場合は反射器とともに陽極酸
化処理して酸化膜を形成するとよい。 【効果】 一方のみ酸化膜が形成されるので、他方をト
リミングすることができ、これによって周波数調整が可
能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表面弾性波装置とその
電極の保護膜の形成方法に係るもので、高周波帯域で狭
帯域のフィルタを得る場合などに利用できる表面弾性波
装置とその保護膜形成方法に関するものである。
電極の保護膜の形成方法に係るもので、高周波帯域で狭
帯域のフィルタを得る場合などに利用できる表面弾性波
装置とその保護膜形成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】表面弾性波装置はフィルタを初めとして
各方面で用いられており、使用される周波数帯域も1GHz
を超える範囲にまで広がっている。そのため、インター
デジタル電極の間隔が狭くなり、耐圧や電極間のショー
トによる信頼性の低下等の問題が生じる。
各方面で用いられており、使用される周波数帯域も1GHz
を超える範囲にまで広がっている。そのため、インター
デジタル電極の間隔が狭くなり、耐圧や電極間のショー
トによる信頼性の低下等の問題が生じる。
【０００３】広帯域の表面弾性波フィルタでは、アルミ
ニウムのインターデジタル電極全体を保護膜で覆ってシ
ョートを防止する技術が利用できるが、狭帯域の表面弾
性波フィルタにおいてはＱを低下させることがなく、ま
た周波数調整を行うために電極をトリミングできるよう
にしておくことが望ましい。
ニウムのインターデジタル電極全体を保護膜で覆ってシ
ョートを防止する技術が利用できるが、狭帯域の表面弾
性波フィルタにおいてはＱを低下させることがなく、ま
た周波数調整を行うために電極をトリミングできるよう
にしておくことが望ましい。
【０００４】電極間のショートの発生の原因は、各種工
程で生じる金属の塵が基板表面やパッケージ内部に残
り、インターデジタル電極に接触してしまうことにあ
る。これを防ぐためには、工程管理に細心の注意を払い
金属の塵の発生や残存を最小限にするしかないのが実情
である。
程で生じる金属の塵が基板表面やパッケージ内部に残
り、インターデジタル電極に接触してしまうことにあ
る。これを防ぐためには、工程管理に細心の注意を払い
金属の塵の発生や残存を最小限にするしかないのが実情
である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、Ｑを下げる
ことなく、信頼性の高い表面弾性波装置を提供するもの
である。
ことなく、信頼性の高い表面弾性波装置を提供するもの
である。
【０００６】また、周波数の調整のために電極のトリミ
ングを可能にし、狭帯域のフィルタ等に適した表面弾性
波装置を提供するものである。
ングを可能にし、狭帯域のフィルタ等に適した表面弾性
波装置を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、インターデジ
タル電極の一方のみの表面を陽極酸化処理して表面に酸
化膜を形成することによって、上記の課題を解決するも
のである。
タル電極の一方のみの表面を陽極酸化処理して表面に酸
化膜を形成することによって、上記の課題を解決するも
のである。
【０００８】すなわち、圧電基板上にアルミニウムのイ
ンターデジタル電極を具えた表面弾性波装置において、
インターデジタル電極の一方のバスバーに接続された部
分のアルミニウム電極の表面に酸化膜を具えたことに特
徴を有するものである。
ンターデジタル電極を具えた表面弾性波装置において、
インターデジタル電極の一方のバスバーに接続された部
分のアルミニウム電極の表面に酸化膜を具えたことに特
徴を有するものである。
【０００９】また、圧電基板上にアルミニウムのインタ
ーデジタル電極を形成し、その表面に保護膜を形成する
表面弾性波装置の保護膜形成方法において、インターデ
ジタル電極の一方のバスバーに接続された部分を陽極酸
化処理し、その部分の表面に酸化膜を形成することに特
徴を有するものである。
ーデジタル電極を形成し、その表面に保護膜を形成する
表面弾性波装置の保護膜形成方法において、インターデ
ジタル電極の一方のバスバーに接続された部分を陽極酸
化処理し、その部分の表面に酸化膜を形成することに特
徴を有するものである。
【００１０】
【作用】酸化膜が形成されるので、金属の塵が付着して
もショートを生じることはなく、信頼性の確保の面で有
利となる。
もショートを生じることはなく、信頼性の確保の面で有
利となる。
【００１１】また、一方の電極はアルミニウム膜のまま
であるので、これをトリミングすることによって周波数
調整が可能となる。
であるので、これをトリミングすることによって周波数
調整が可能となる。
【００１２】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例につ
いて説明する。
いて説明する。
【００１３】図１は本発明の実施例を示す部分平面図で
ある。圧電基板10上に、アルミニウム膜を蒸着し、フォ
トリソグラフィーによってインターデジタル電極11を形
成したものである。インターデジタル電極11は電極指が
交互に二つのバスバーに接続され、印加される信号に応
じて表面弾性波を励振させる。ここで、バスバー13とバ
スバー14に接続された２つの電極のうち、バスバー14に
接続される電極とそのバスバー自体はその表面に酸化膜
が形成される。この酸化膜はAl2O3 であり、絶縁体であ
る。
ある。圧電基板10上に、アルミニウム膜を蒸着し、フォ
トリソグラフィーによってインターデジタル電極11を形
成したものである。インターデジタル電極11は電極指が
交互に二つのバスバーに接続され、印加される信号に応
じて表面弾性波を励振させる。ここで、バスバー13とバ
スバー14に接続された２つの電極のうち、バスバー14に
接続される電極とそのバスバー自体はその表面に酸化膜
が形成される。この酸化膜はAl2O3 であり、絶縁体であ
る。
【００１４】この酸化膜はアルミニウムを陽極酸化処理
してその表面に形成するとよい。この処理は、電解液中
で直流電界を印加して行うことができる。
してその表面に形成するとよい。この処理は、電解液中
で直流電界を印加して行うことができる。
【００１５】図２は、本発明の他の実施例を示す平面図
で、圧電基板20上に二つの共振器を近接して配置したも
ので、ＵＨＦ帯以上で使用される高周波用多重モードフ
ィルタの例である。インターデジタル電極21ａ、21ｂは
バスバー24を共用しており、バスバー23ａ、23ｂの一方
が入力側に、他方が出力側になる。通常、共通のバスバ
ー24は反射器25と接続され、アース電位に接続される。
で、圧電基板20上に二つの共振器を近接して配置したも
ので、ＵＨＦ帯以上で使用される高周波用多重モードフ
ィルタの例である。インターデジタル電極21ａ、21ｂは
バスバー24を共用しており、バスバー23ａ、23ｂの一方
が入力側に、他方が出力側になる。通常、共通のバスバ
ー24は反射器25と接続され、アース電位に接続される。
【００１６】この多重モードフィルタでは、共通のバス
バー24とこれに接続されるインターデジタル電極の電極
指の表面が陽極酸化処理されて酸化膜とされる。そし
て、共通のバスバー24に接続される反射器の表面も同様
に陽極酸化処理されて酸化膜が形成される。これらは、
共通のアース端子部26から電流を印加して処理すること
ができる。
バー24とこれに接続されるインターデジタル電極の電極
指の表面が陽極酸化処理されて酸化膜とされる。そし
て、共通のバスバー24に接続される反射器の表面も同様
に陽極酸化処理されて酸化膜が形成される。これらは、
共通のアース端子部26から電流を印加して処理すること
ができる。
【００１７】図３は、陽極酸化処理の方法を示す斜視図
である。電解液36を入れた槽内にアルミニウム電極を形
成した圧電基板30を配置し、アルミニウムの電極側が
＋、電解液36を入れた槽内に配置した電極38側が−とな
るように、直流電源と接続して陽極酸化処理を行う。
である。電解液36を入れた槽内にアルミニウム電極を形
成した圧電基板30を配置し、アルミニウムの電極側が
＋、電解液36を入れた槽内に配置した電極38側が−とな
るように、直流電源と接続して陽極酸化処理を行う。
【００１８】電解液としてはエチレングリコールに四ほ
う酸アンモニウム（飽和液）等を用いるとよく、陰極の
材料にはプラチナを用いるとよい。印加する電圧は数Ｖ
から35Ｖ程度とするとよい。通常、15分程度の処理で、
アルミニウムの表面に絶縁に十分な酸化膜が形成でき
る。
う酸アンモニウム（飽和液）等を用いるとよく、陰極の
材料にはプラチナを用いるとよい。印加する電圧は数Ｖ
から35Ｖ程度とするとよい。通常、15分程度の処理で、
アルミニウムの表面に絶縁に十分な酸化膜が形成でき
る。
【００１９】本発明は、上記の例に限られず、いかなる
タイプの表面弾性波装置にも利用できる。とくに、高周
波で用いられる電極間隔の狭い装置などで利用するとそ
の効果が発揮される。また、陽極酸化処理も条件を任意
に設定して行うことができる。
タイプの表面弾性波装置にも利用できる。とくに、高周
波で用いられる電極間隔の狭い装置などで利用するとそ
の効果が発揮される。また、陽極酸化処理も条件を任意
に設定して行うことができる。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、高周波帯域の表面弾性
波装置の電極間のショートを防止することができ、歩留
りが良好で信頼性の高い表面弾性波装置が得られる。
波装置の電極間のショートを防止することができ、歩留
りが良好で信頼性の高い表面弾性波装置が得られる。
【００２１】また、狭帯域のフィルタに用いても、Ｑが
低下することなく、しかもアルミニウム電極が露出して
いる部分があるのでトリミングして周波数調整を行うこ
とが可能である。
低下することなく、しかもアルミニウム電極が露出して
いる部分があるのでトリミングして周波数調整を行うこ
とが可能である。
【００２２】さらに、工程の管理も容易となり、コスト
削減の効果もある。
削減の効果もある。
【図１】 本発明の実施例を示す部分平面図
【図２】 本発明の他の実施例を示す平面図
【図３】 本発明の実施例を示す斜視図
10、20、30：圧電基板 11、21：インターデジタル電極 13、14、23、24：バスバー
Claims (5)
- 【請求項１】 圧電基板上にアルミニウムのインターデ
ジタル電極を具えた表面弾性波装置において、インター
デジタル電極の一方のバスバーに接続された部分のアル
ミニウム電極の表面に酸化膜を具えたことを特徴とする
表面弾性波装置。 - 【請求項２】 圧電基板上にアルミニウムのインターデ
ジタル電極とそれを挟む反射器を具えた表面弾性波装置
において、インターデジタル電極の一方のバスバーに接
続された部分のアルミニウム電極の表面と反射器のアル
ミニウム電極の表面に酸化膜を具えたことを特徴とする
表面弾性波装置。 - 【請求項３】 圧電基板上にアルミニウムの二つのイン
ターデジタル電極を表面弾性波の伝播方向に直角の方向
にに並べ、それらのバスバーの一方を共通にし、それら
のインターデジタル電極を挟む反射器を具えた表面弾性
波装置において、インターデジタル電極の共通のバスバ
ーに接続された部分のアルミニウム電極の表面と反射器
のアルミニウム電極の表面に酸化膜を具えたことを特徴
とする表面弾性波装置。 - 【請求項４】 圧電基板上にアルミニウムのインターデ
ジタル電極を形成し、その表面に保護膜を形成する表面
弾性波装置の保護膜形成方法において、インターデジタ
ル電極の一方のバスバーに接続された部分を陽極酸化処
理し、その部分の表面に酸化膜を形成することを特徴と
する表面弾性波装置の保護膜形成方法。 - 【請求項５】 圧電基板上にアルミニウムのインターデ
ジタル電極とそれを挟む反射器を形成し、それらの表面
に保護膜を形成する表面弾性波装置の保護膜形成方法に
おいて、インターデジタル電極の一方のバスバーに接続
された部分と反射器を陽極酸化処理し、その部分の表面
に酸化膜を形成することを特徴とする表面弾性波装置の
保護膜形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28885294A JPH08130433A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 表面弾性波装置とその保護膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28885294A JPH08130433A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 表面弾性波装置とその保護膜形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08130433A true JPH08130433A (ja) | 1996-05-21 |
Family
ID=17735587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28885294A Pending JPH08130433A (ja) | 1994-10-28 | 1994-10-28 | 表面弾性波装置とその保護膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08130433A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6336703B1 (en) | 1999-06-08 | 2002-01-08 | Seiko Epson Corporation | Printer, printing method, and recording medium |
| US6903402B2 (en) | 2002-03-28 | 2005-06-07 | Fujitsu Quantum Devices, Ltd. | Interdigital capacitor having a cutting target portion |
| US7459829B2 (en) | 2004-12-17 | 2008-12-02 | Seiko Epson Corporation | Surface acoustic wave device and method of manufacturing the same, IC card, and mobile electronic apparatus |
-
1994
- 1994-10-28 JP JP28885294A patent/JPH08130433A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6336703B1 (en) | 1999-06-08 | 2002-01-08 | Seiko Epson Corporation | Printer, printing method, and recording medium |
| US6903402B2 (en) | 2002-03-28 | 2005-06-07 | Fujitsu Quantum Devices, Ltd. | Interdigital capacitor having a cutting target portion |
| US7015109B2 (en) | 2002-03-28 | 2006-03-21 | Fujitsu Quantum Devices Limited | Interdigital capacitor and method for adjusting the same |
| US7459829B2 (en) | 2004-12-17 | 2008-12-02 | Seiko Epson Corporation | Surface acoustic wave device and method of manufacturing the same, IC card, and mobile electronic apparatus |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH11186866A (ja) | 弾性表面波装置及びその製造方法 | |
| US20210408999A1 (en) | Elastic wave device, splitter, and communication apparatus | |
| JPH08130433A (ja) | 表面弾性波装置とその保護膜形成方法 | |
| JPH06252688A (ja) | 圧電共振装置 | |
| KR20180129463A (ko) | 횡모드 억제를 위한 표면 탄성파 디바이스 | |
| US4258335A (en) | Gas laser | |
| KR100479287B1 (ko) | Ｓａｗ 디바이스 및 그 제조 방법 | |
| JPH08213806A (ja) | 誘電体フィルタ及びその周波数帯域幅の調整方法 | |
| JPH0347761B2 (ja) | ||
| CN1461523A (zh) | 弹性表面波装置及其制造方法和用该装置的电子部件 | |
| JP2596534B2 (ja) | 表面弾性波素子 | |
| JPS58137318A (ja) | 薄膜圧電振動子 | |
| JPH04150512A (ja) | 表面弾性波素子 | |
| JP2002076820A (ja) | Ｓａｗ共振片及びその製造方法 | |
| JPH09153758A (ja) | 弾性表面波デバイス | |
| US6268684B1 (en) | Piezoelectric resonator and a piezoelectric component including piezoelectric resonator | |
| JP3991304B2 (ja) | 圧電振動片および圧電振動子 | |
| JPH10107572A (ja) | 弾性表面波装置 | |
| JPS6087513A (ja) | 弾性表面波フイルタ | |
| JPS61230333A (ja) | 集積回路 | |
| KR100188644B1 (ko) | 오존발생기 | |
| JPH10242790A (ja) | 一方向性表面弾性波フィルタとその製造方法 | |
| JPH0637567A (ja) | 厚み系水晶振動子の電極形成方法 | |
| GB2107545A (en) | Electro-acoustic transducer | |
| JPS59123250A (ja) | 半導体装置 |