JP2006120798A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系の光字句にたいし垂直に前記原版と基板を共に移動することにより前記原版のパターンを前記基板に露光する露光装置において、前記原版の面と共役な面に設けられて露光における光量を制限する遮光手段としてXブレード6C,6DおよびYブレード6A,Bと、該遮光手段を移動させる駆動手段としてXリニアモーターおよびYリニアモーターと、前記遮光手段を支持する支持部とを有し、前記駆動手段は固定子8Aを有し、該固定子を前記支持部に対してカウンタマスとして利用して前記駆動手段の駆動反力を吸収する板バネ8Eと固定子位置制御モーター8Fとを備える。
【選択図】 図3
Description
ここで、カウンタマスとは、移動体の移動方向とは反対の方向に質量体を移動することによって移動体の移動による反力の影響を相殺するような機構のことをいう。
次に、本発明の実施例3として、この露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図5は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ2(マスク作製)では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。
Claims (4)
- 原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系の光軸に対し垂直に前記原版と基板を共に移動することにより前記原版のパターンを前記基板に露光する露光装置において、
前記原版の面と共役な面に設けられて露光における光量を制限する遮光手段と、該遮光手段を移動させる駆動手段と、前記遮光手段を支持する支持部とを有し、前記駆動手段は固定子を有し、該固定子を前記支持部に対してカウンタマスとして利用して前記駆動手段の駆動反力を吸収する反力吸収手段を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記反力吸収手段は、前記駆動手段の固定子を前記遮光手段の移動方向に対して平行方向に変位可能に弾性的に支持する弾性体と、磁気的に非接触状態で支持する磁石とのうちの少なくともいずれか一方を備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記駆動手段の固定子の移動方向に対して、力を印加する手段を設けたことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の露光装置を用いて、露光対象に露光を行う工程と、露光された前記露光対象を現像する工程と、を具備することを特徴とするデバイス製造方法。
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