JP2006100413A - フィルム貼付方法およびフィルム貼付装置 - Google Patents

フィルム貼付方法およびフィルム貼付装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006100413A
JP2006100413A JP2004282403A JP2004282403A JP2006100413A JP 2006100413 A JP2006100413 A JP 2006100413A JP 2004282403 A JP2004282403 A JP 2004282403A JP 2004282403 A JP2004282403 A JP 2004282403A JP 2006100413 A JP2006100413 A JP 2006100413A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
film
forming surface
pattern forming
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004282403A
Other languages
English (en)
Inventor
Minoru Ametani
稔 雨谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority to JP2004282403A priority Critical patent/JP2006100413A/ja
Priority to US11/185,578 priority patent/US20060068566A1/en
Priority to MYPI20053342A priority patent/MY146228A/en
Priority to EP05254944A priority patent/EP1641025A3/en
Priority to SG200505535A priority patent/SG121085A1/en
Priority to TW094129971A priority patent/TWI280619B/zh
Priority to KR1020050080981A priority patent/KR100675961B1/ko
Publication of JP2006100413A publication Critical patent/JP2006100413A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape

Abstract

【課題】 表面保護フィルム貼付時にオリフラの破損および気泡の混入を防止する。
【解決手段】 回路パターン(C)がパターン形成面(21)に形成されたウェーハ(20)のパターン形成面にフィルム(3)を貼り付ける際に、パターン形成面において所定の貼付方向(X1)に移動することによりフィルムをウェーハのパターン形成面に貼り付けるフィルム貼付手段(46)の貼付方向と回路パターンの角部の二等分線とが概ね平行になる第一の向きに、ウェーハを位置決めし、ウェーハのパターン形成面においてフィルム貼付手段を貼付方向に移動させることにより、フィルムをウェーハのパターン形成面に貼り付けるフィルム貼付方法およびこの方法を実施するフィルム貼付装置が提供される。裏面研削後にフィルムを剥離するときには、第一の向きから90度回転した第二の向きにウェーハを配置するのが好ましい。
【選択図】 図3

Description

本発明は、フィルム、特に表面保護フィルムをウェーハの表面に貼付ける際に使用されるフィルム貼付方法およびこの方法を実施するためのフィルム貼付装置に関する。
半導体製造分野においてはウェーハが年々大型化する傾向にあり、また、実装密度を高めるためにウェーハの薄葉化が進んでいる。ウェーハを薄葉化するためにウェーハの裏面を研削するバックグラインド(裏面研削)が行われている。バックグラインドを行う前には、ウェーハの表面に形成された回路パターンを保護するために、表面保護フィルムがウェーハの表面に貼付られる。次いで、ウェーハ表面を吸着テーブルに吸着させた状態で、ウェーハの裏面が研削される。
特許文献1および特許文献2には、表面保護フィルムをウェーハ表面に貼り付けるフィルム貼付装置が開示されている。これら特許文献には詳細には説明されていないが、表面保護フィルムをウェーハに貼り付ける貼付方式は概ね以下のようなものである。
図11(a)は、従来技術において表面保護フィルムをウェーハに貼り付ける際の貼付方式を示す略図である。図11(a)に示されるように、ウェーハ20の表面21には、前工程のドーピング工程などにおいて複数の回路パターンCが格子状に形成されている。図11(a)から分かるように、これら回路パターンCはウェーハ20のオリエンテーションフラット(以下、「オリフラOF」と称する)に対して整列された状態で形成されている。つまり、矩形型の回路パターンCの一方の辺はオリフラOFに対して平行に配置されている。また、図示されるように、これら回路パターンCはウェーハ20の表面21のほぼ全面に形成されているが、オリフラOFに隣接する回路パターンCの辺とオリフラOFとの間の距離は、他の回路パターンCとウェーハ20の縁部までの距離よりも短くなっている。
また、図11(a)に示されるように、ウェーハ20のオリフラOFは、フィルム貼付手段としての円筒型ローラ46に対して平行に配置されている。ローラ46は図11(a)には示さない表面保護フィルム3はローラ46によって周知の方法によりテンションが掛けられている。従って、ローラ46を図11(a)における矢印X0の方向、つまりオリフラOFに対して垂直な方向に移動させると、ローラ46によって表面保護フィルム3がウェーハ20の表面21に連続的に貼り付けられるようになる。
図11(b)は、接触幅とウェーハ一端からの距離との関係を示す図である。ここで、接触幅Wとは、円筒型ローラ46とウェーハ20の表面21とが線接触する、オリフラOFに対して平行な線接触領域のことである。また、図11(b)などにおいてはウェーハ20の半径を半径rと称している。また、図11(b)に示されるように、ウェーハ20にオリフラOFが形成されていないと仮定した場合におけるウェーハ20の外形の、ウェーハ20にオリフラOFから最遠方の位置を原点0としている。円筒型ローラ46はウェーハ20のオリフラOFに最初に接触して、オリフラOFとは反対側の端部まで移動する。従って、図11(b)に示されるように、原点0からオリフラOFまでの間においては、ローラ46はウェーハ20に未だ接触していないので接触幅Wは零のままである。そして、ローラ46がオリフラOFに到達すると、接触幅WはW1(<2r)まで瞬時に上昇する。なお、W1はオリフラOFの長さに相当する。
このため、オリフラOFにおいては、ローラ46の到達前までは零であったローラ46からの力が、ローラ46の到達後においては瞬時に掛かるようになる。このような力が瞬時に掛かることにより、ウェーハ20のオリフラOFは破損する可能性がある。また、このような力がオリフラOFを破損させるのに十分に大きくない場合であっても、オリフラOFに隣接する回路パターンCには比較的大きな負荷が瞬時に掛かり、これら隣接回路パターンCが破損する可能性がある。
このようなことに対し、特許文献3には、ダイボンドテープを貼り付けるために、ウェーハ20のオリフラOFとローラ46の移動方向とを互いに平行に配置することが開示されている。このような方式を表面保護フィルムに適用した場合には、ローラ46が最初にウェーハ20に到達する箇所がオリフラOFではなくなるので、オリフラOFに隣接する回路パターンCが破損する可能性は低い。
特開平7−14807号公報 特開2001−156159号公報 特開2002−134438号公報
しかしながら、特許文献3に開示されるように、ウェーハ20のオリフラOFがローラ46の移動方向に対して平行になるようにウェーハ20を配置した場合には、各回路パターンCの他方の辺がローラ46の移動方向に対して平行になる。つまり、回路パターンCが矩形であるために、ウェーハ20のオリフラOFをローラ46の移動方向X0に対して平行に配置した場合(特許文献3)であっても、オリフラOFをローラ46の移動方向X0に対して垂直に配置した場合であっても、回路パターンCの辺のいずれか一方はオリフラOFに対して平行になる。
各回路パターンCの間には細溝が形成されているので、ローラ46の移動方向X0に対して平行に位置する溝内の空気はローラ移動時に当該溝に沿って排出されるものの、ローラ46の移動方向X0に対して垂直に位置する溝内の空気はほとんど排出されない。ローラ46によって表面保護フィルム3を貼り付けた後では、このような排出されなかった空気は表面保護フィルム3とウェーハ20との間に気泡として残存するようになる。そして、このような気泡は後工程において導体形成不良または残渣などの原因となる可能性が高い。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、表面保護フィルム貼付時にウェーハのオリフラにおける破損を抑制すると共に比較的簡易な方法で気泡の混入を防止することのできるフィルム貼付方法およびこの方法を実施するフィルム貼付装置を提供することを目的とする。
前述した目的を達成するために1番目に記載の発明によれば、回路パターンがパターン形成面に形成されたウェーハの前記パターン形成面にフィルムを貼り付けるフィルム貼付方法において、前記ウェーハの前記パターン形成面において所定の貼付方向に移動することにより前記フィルムを前記パターン形成面に貼り付けるフィルム貼付手段の前記貼付方向と前記回路パターンの角部の二等分線とが概ね平行になるように、前記ウェーハを位置決めし、前記ウェーハの前記パターン形成面において前記フィルム貼付手段を前記貼付方向に移動させることにより、前記フィルムを前記ウェーハの前記パターン形成面に貼り付けるフィルム貼付方法が提供される。
すなわち1番目の発明においては、回路パターンの角部の二等分線がフィルム貼付手段の移動方向に対して平行になるようにウェーハを位置決めしているので、フィルムの貼付時において空気は回路パターンの角部から該回路パターンの角部を形成する二つの溝に沿って均等に排出され、それにより、フィルムの貼付時における気泡の混入が抑制されるようになる。また、1番目の発明においては、フィルム貼付手段が最初に到達する場所がウェーハのオリフラではなくなるので、ウェーハのオリフラにおける破損を抑制することも可能となる。
2番目の発明によれば、回路パターンがパターン形成面に形成されたウェーハの前記パターン形成面にフィルムを貼り付けるフィルム貼付方法において、前記ウェーハの前記パターン形成面において所定の貼付方向に移動することにより前記フィルムを前記パターン形成面に貼り付けるフィルム貼付手段の前記貼付方向と前記回路パターンの角部の二等分線とが概ね平行になるような第一の向きに、前記ウェーハを位置決めし、前記ウェーハの前記パターン形成面において前記フィルム貼付手段を前記貼付方向に移動させることにより、前記フィルムを前記ウェーハの前記パターン形成面に貼り付け、前記ウェーハの前記パターン形成面とは反対側の面を研削し、前記第一の向きから前記ウェーハの中心線回りに90度だけ回転した第二の向きに前記ウェーハを位置決めし、前記ウェーハの前記パターン形成面に貼り付けられた前記フィルム上に剥離テープを繰り出し、前記剥離テープを前記ウェーハの前記フィルムに接触させ、前記ウェーハの前記パターン形成面においてフィルム剥離手段を前記貼付方向に対して平行な剥離方向に移動させることにより、前記ウェーハの前記パターン形成面から前記フィルムを前記剥離テープと共に剥離するようにしたフィルム貼付方法が提供される。
すなわち2番目の発明においては、回路パターンの角部の二等分線がフィルム貼付手段の移動方向に対して平行になるようにウェーハを位置決めしているので、フィルムの貼付時において空気は回路パターンの角部から該回路パターンの角部を形成する二つの溝に沿って均等に排出され、それにより、フィルムの貼付時における気泡の混入が抑制されるようになる。また、2番目の発明においては、フィルム貼付手段が最初に到達する場所がウェーハのオリフラではなくなるので、ウェーハのオリフラにおける破損を抑制することも可能となる。さらに、第一の向きから90度だけウェーハを回転しているので、フィルムの剥離作用は、フィルム貼付時にウェーハに掛けられた応力が比較的小さい箇所から開始されるようになる。つまり、フィルム剥離時に掛かる力はフィルム貼付時に掛かった応力が比較的小さい箇所に掛けられることになるので、2番目の発明においては、このような力によってウェーハが破損するのを防止することができる。また、ウェーハを第一の向きから第二の向きまで90度回転させた後であっても、回路パターンの別の角部の二等分線と剥離テープ貼付手段の移動方向とは互いに平行になるので、フィルムの接着剤は回路パターンの間の溝に沿って回路パターンの角部から均等に離脱し、それにより、接着剤が回路パターンの間の溝に残渣として残ることも抑制できる。
3番目の発明によれば、1番目または2番目の発明において、前記ウェーハが該ウェーハの厚みの途中まで予めダイシングされている。
すなわち3番目の発明においては、ダイシングにより既にハーフカットされているウェーハであっても本発明に基づくフィルムの貼付を行うことができる。
4番目の発明によれば、回路パターンがパターン形成面に形成されたウェーハの前記パターン形成面にフィルムを貼り付けるフィルム貼付装置において、前記ウェーハを支持可能に位置決めできる位置決め手段と、前記ウェーハの前記パターン形成面において所定の貼付方向に移動することにより前記フィルムを前記パターン形成面に貼り付けるフィルム貼付手段とを具備し、該フィルム貼付手段の前記貼付方向と前記回路パターンの角部の二等分線とが概ね平行になるように前記ウェーハを前記位置決め手段により位置決めした後で、前記ウェーハの前記パターン形成面において前記フィルム貼付手段を前記貼付方向に移動させることにより、前記フィルムを前記ウェーハの前記パターン形成面に貼り付けるようにしたフィルム貼付装置が提供される。
すなわち4番目の発明においては、回路パターンの角部の二等分線がフィルム貼付手段の移動方向に対して平行になるようにウェーハを位置決めしているので、フィルムの貼付時において空気は回路パターンの角部から該回路パターンの角部を形成する二つの溝に沿って均等に排出され、それにより、フィルムの貼付時における気泡の混入が抑制されるようになる。また、4番目の発明においては、フィルム貼付手段が最初に到達する場所がウェーハのオリフラではなくなるので、ウェーハのオリフラにおける破損を抑制することも可能となる。
5番目の発明によれば、回路パターンがパターン形成面に形成されたウェーハの前記パターン形成面にフィルムを貼り付けるフィルム貼付装置において、前記ウェーハを支持可能に位置決めする位置決め手段と、前記ウェーハの前記パターン形成面において所定の貼付方向に移動することにより前記フィルムを前記パターン形成面に貼り付けるフィルム貼付手段と、前記ウェーハの前記パターン形成面とは反対側の面を研削する研削手段と、前記ウェーハの前記パターン形成面に貼り付けられた前記フィルム上に剥離テープを繰り出すテープ繰出手段と、前記パターン形成面において前記貼付方向に対して平行な剥離方向に移動することにより前記ウェーハの前記パターン形成面から前記フィルムを前記剥離テープと共に剥離するフィルム剥離手段とを具備し、該フィルム貼付手段の前記貼付方向と前記回路パターンの角部の二等分線とが概ね平行になるように前記ウェーハを前記位置決め手段により第一の向きに位置決めした後で、前記ウェーハの前記パターン形成面において前記フィルム貼付手段を前記貼付方向に移動させることにより、前記フィルムを前記ウェーハの前記パターン形成面に貼り付け、前記研削手段により前記パターン形成面とは反対側の面を研削した後で、前記位置決め手段によって、前記第一の向きから前記ウェーハの中心線回りに90度だけ回転した第二の向きに前記ウェーハを位置決めして前記テープ繰出手段により繰り出された前記剥離テープに前記ウェーハの前記フィルムを接触させ、前記ウェーハの前記パターン形成面において前記フィルム剥離手段を前記貼付方向に対して平行な剥離方向に移動させることにより、前記ウェーハの前記パターン形成面から前記フィルムを前記剥離テープと共に剥離するようにしたフィルム貼付装置が提供される。
すなわち5番目の発明においては、回路パターンの角部の二等分線がフィルム貼付手段の移動方向に対して平行になるようにウェーハを位置決めしているので、フィルムの貼付時において空気は回路パターンの角部から該回路パターンの角部を形成する二つの溝に沿って均等に排出され、それにより、フィルムの貼付時における気泡の混入が抑制されるようになる。また、5番目の発明においては、フィルム貼付手段が最初に到達する場所がウェーハのオリフラではなくなるので、ウェーハのオリフラにおける破損を抑制することも可能となる。さらに、第一の向きから90度だけウェーハを回転しているので、フィルムの剥離作用は、フィルム貼付時にウェーハに掛けられた応力が比較的小さい箇所から開始されるようになる。つまり、フィルム剥離時に掛かる力はフィルム貼付時に掛かった応力が比較的小さい箇所に掛けられることになるので、5番目の発明においては、このような力によってウェーハが破損するのを防止することができる。また、ウェーハを第一の向きから第二の向きまで90度回転させた後であっても、回路パターンの別の角部の二等分線と剥離テープ貼付手段の移動方向とは互いに平行になるので、フィルムの接着剤は回路パターンの間の溝に沿って回路パターンの角部から均等に離脱し、それにより、接着剤が回路パターンの間の溝に残渣として残ることも抑制できる。
6番目の発明によれば、4番目または5番目の発明において、前記ウェーハが該ウェーハの厚みの途中まで予めダイシングされている。
すなわち6番目の発明においては、ダイシングにより既にハーフカットされているウェーハであっても本発明に基づくフィルムの貼付を行うことができる。
各発明によれば、表面保護フィルム貼付時にオリフラの破損および気泡の混入を防止することができるという共通の効果を奏しうる。
さらに、2番目および5番目の発明によれば、フィルム剥離時にウェーハが破損するのを防止すると共にフィルムの接着剤が回路パターンの間の溝に残渣として残ることも抑制できるという効果を奏しうる。
さらに、3番目およい6番目の発明によれば、ダイシングにより既にハーフカットされているウェーハであっても本発明に基づくフィルムの貼付を行うことができるという効果を奏しうる。
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態を説明する。以下の図面において同一の部材には同一の参照符号が付けられている。理解を容易にするために、これら図面は縮尺を適宜変更している。
図1は本発明に基づくウェーハ処理装置を示す略図である。図1に示されるウェーハ処理装置100には、前工程のドーピング工程などにおいて複数の回路パターンCが表面21に格子状に形成されたウェーハ20が供給されるものとする。図1に示されるように、ウェーハ処理装置100は、表面保護フィルム3をウェーハ20に貼り付けるための貼付ユニット200を含んでいる。
図2は、ウェーハ処理装置のうちの貼付ユニットの概略断面図である。図2に示される貼付ユニット200は、例えばウェーハ20に貼付られる表面保護フィルム3を供給する供給部42と、供給部42からのテープを巻き取る巻取部43とをハウジング11内に含んでいる。図示されるように、ハウジング11の底面には複数のキャスタ18および複数のストッパ19が設けられており、キャスタ18によって貼付ユニット200を床L上の所望の位置まで移動させ、ストッパ19によって貼付ユニット200をこの位置に固定できるようになっている。また、貼付ユニット200の下方部分には扉17が設けられており、これら扉17を開放すると、貼付ユニット200の下方部分に配置された図示しない制御部80、例えばデジタルコンピュータにアクセスすることができる。
図2に示されるように、供給部42の下流には、表面保護フィルム3を案内すると共に表面保護フィルム3に所定の張力を掛けるガイドロール47が設けられており、さらにガイドロール47の下流には一対の剥離ロール44が設けられている。剥離ロール44は表面保護フィルム3のリリース6を剥離する役目を果たしており、リリース6はリリース巻取部45によって巻き取られる。一方、剥離ロール44の下流には、表面保護フィルム3を案内するガイドロール51、および表面保護フィルム3を巻き取る巻取部43が設けられている。また、ガイドロール51と巻取部43との間には、表面保護フィルム3の繰出量に応じて運動するダンサロール59が設けられている。
図2に示されるように、貼付ユニット200の中間部分に設けられた棚板12には、テーブル昇降部30が設置されている。テーブル昇降部30の吸着テーブル31は、吸引作用などによりウェーハ20を支持できるようになっている。また、テーブル昇降部30の略筒型のベース33が棚板12に設けられている。そして、吸着テーブル31の下面から延びる軸部32の先端が略筒型のベース33内に挿入されている。テーブル昇降部30は図示しないアクチュエータ50に接続されており、このアクチュエータ50によって吸着テーブル31は軸部32回りに回転可能に昇降するようになっている。なお、ウェーハ20をテーブル31に設置すると、ウェーハ20の中心線と軸部32の中心線とが一致するものとする。また、アクチュエータ50は電空比例弁(図示しない)を介して制御部80内のコンピュータに接続されており、吸着テーブル31の高さおよび位置を調整して設定できるようになっている。
図2に示されるようにハウジング11内において水平方向に往復運動するローラ46がテーブル昇降部30の上方に配置されている。ローラ46の長さはウェーハ20および吸着テーブル31の最大幅よりも大きい。図面には示さないものの、ローラ46は例えば二つのプーリに懸けられたエンドレスチェーンに連結されており、プーリは図示しないモータに接続されている。そしてモータを順方向および逆方向に回転させることによって、ローラ46をプーリ間で水平方向に往復運動させられる。当然のことながら、ローラ46を他の駆動機構にって水平方向に往復運動できるようにしてもよい。
図3(a)は、貼付ユニットにおけるウェーハとローラとを示す略平面図である。図3(a)においては、理解を容易にするためにウェーハ20およびローラ46以外の部材を省略しているが、実際には表面保護フィルム3が図2に示されるような位置関係で存在しているものとする。
通常、ウェーハ20を吸着テーブル31に配置するときには、ウェーハ20のオリフラOFとローラ46の移動方向X1とは互いに平行になるか、または互いに垂直になるように配置される。しかしながら、本発明においては、吸着テーブル31を所定の高さまで上昇させた後に、吸着テーブル31を軸部32回りに回転し、それにより、図3(a)に示されるように、ローラ46の移動方向X1とウェーハ20のオリフラOFとがなす角度が約45度になるようにしている。この位置関係は、ウェーハ20の表面21に予め形成された回路パターンCの角部の二等分線とローラ46の移動方向X1とが互いに平行になるように選択される。
通常は、回路パターンCは矩形であり、回路パターンCの角部の角度は90度である。さらに、通常は、ウェーハ20のオリフラOFと回路パターンCの一辺とが互いに平行になっている。従って、オリフラOFとローラ46の移動方向X1とが平行または垂直になるようにウェーハ20を吸着テーブル31上に配置した場合には、吸着テーブル31の回転角度は45度となる。当然のことながら、ウェーハ20を吸着テーブル31上に配置したときにおけるオリフラOFと移動方向X1とが平行または垂直でない場合には、吸着テーブル31の回転角度も異なる。
ウェーハ20とローラ46とを図3(a)に示されるような位置関係になるように配置した後で、ローラ46がウェーハ20の一端からウェーハ20の直径を通ってウェーハの他端まで移動方向X1に移動することにより、表面保護フィルム3をウェーハ20の表面21に貼付けることができる。
図3(b)は、本発明において接触幅Wとウェーハ一端からの距離との関係を示す図である。図3(b)において縦軸はローラ46とウェーハ20の表面21とが線接触する、線接触領域、すなわち接触幅Wを示しており、横軸はローラ46が最初に到達するウェーハ20の端部P1を原点0としたときの距離を示している。本発明においては、回路パターンCの角部の二等分線と移動方向X1とが互いに平行になるように吸着テーブル31上のウェーハ20を回転しているので、ローラ46はウェーハ20のオリフラOFではない箇所P1に最初に到達する。従って、図3(b)に示されるように、接触幅Wは、従来技術の場合のように瞬時に上昇することはなく、比較的滑らかに増加していく。つまり、本発明においてはローラ46からの力がウェーハ20の端部から次第に増加するように掛かる。従って、本発明においては、ウェーハ20のオリフラOFが破損するのを回避でき、その結果、オリフラOFに隣接した回路パターンが破損することも抑制できる。
その後、図3(b)に示されるように、接触幅Wはローラ46がオリフラOFを通過するときにわずかながら小さくなるものの、オリフラOFを完全に通過すると再び上昇するようになる。次いで、距離がウェーハ20の半径rを越えると、接触幅Wは次第に減少して最終的に零になる。
ところで、本発明においてはローラ46からウェーハ20に掛けられる力Fは一定である。従って、接触幅Wが図3(b)に示されるように変化するときには、表面保護フィルム3を介してローラ46に接触しているウェーハ20の応力も接触幅Wに応じて変化する。応力はローラ46からの力Fを接触幅Wで除することにより算出される。従って、図3(b)を参照すると、応力Pはローラ46の接触開始直後が大きく、ローラ46がウェーハ20の中心付近を移動するときには小さくて、ローラ46がウェーハ20の中心を越えてウェーハ20の反対側の端部に向かって移動すると再び大きくなるようになることが分かる。以下、本発明においては、ウェーハ20の中心付近における応力Pが比較的小さい領域を領域Z2、およびウェーハ20の両端部付近における応力Pが比較的大きい領域をそれぞれ領域Z1、Z3と呼ぶこととする(図3(a)を参照されたい)。
図4は、ウェーハの表面を部分的に拡大した部分拡大略図である。図4に示されるウェーハ20の表面21に形成された複数の回路パターンのうちの一つの回路パターンCに着目すると、当該回路パターンCは長辺aと短辺bとからなる略矩形である。そして、隣接する回路パターンの間には各辺に対応したパターン溝ga、gbがそれぞれ形成されている。これらパターン溝ga、gbは前工程において予め形成されたものである。
前述したように本発明においては、ローラ46の移動方向X1が回路パターンの角部の二等分線Y1に対して平行になるように吸着テーブル31が回転されている。従って、図4に示されるパターン溝gaと移動方向X1とがなす角と、パターン溝gbと移動方向X1とがなす角とは互いに等しい。このため、ローラ46(図4には示さない)が移動方向X1に沿って図4に示されるように移動すると、パターン溝ga、gb内の空気はこれら各パターン溝に沿って均等に矢印方向に排出されるようになる。従って、表面保護フィルム3貼付後においてはパターン溝ga、gbにおける気泡が混入するのを少なくできる。しかも、本発明においては、パターン溝gaと移動方向X1とがなす角およびパターン溝gbと移動方向X1とがなす角は互いに等しいので、両方のパターン溝ga、gbにおける気泡混入の抑制度合いをほぼ等しくすることができる。
また、図5(a)は、表面保護フィルム貼付後におけるパターン溝gaに対して垂直な線分に沿ってみたウェーハ20の断面図である。本発明においては、前述したようにパターン溝ga、gbにおける空気が表面保護フィルム3貼付時に排出されるので、その分だけ表面保護フィルム3が各パターン溝ga、gb内に進入するようになり、従って、表面保護フィルム3の密着度合いを高めることも可能となる。
なお、図3(a)においてはウェーハ20のオリフラOFがローラ46の初期位置に近い側に配置されるように吸着テーブル31が回転されているが、例えば図5(b)に示されるようにオリフラOFがローラ46の初期位置から遠い側に配置されるようにウェーハ20を位置決めしてもよい。また、図面には示さないものの、オリフラOFが移動方向X1の左右どちら側に位置していてもよい。つまり、オリフラOFが移動方向X1の図3(a)および図5(b)における下側に位置するように吸着テーブル31を回転した場合であっても、本発明の範囲に含まれるものとする。
このようにして、表面保護フィルム3の貼付が完了すると、表面保護フィルム3の貼付部分を表面保護フィルム3の残りの部分から切り離す。再び図2を参照すると、テーブル昇降部30およびローラ46の上方にはカッタユニット65が設けられている。カッタユニット65は鉛直方向に往復運動できて、回転可能なカッタ64が設けられている。テープ貼付後にカッタユニット65をウェーハ20まで移動させ、次いでカッタ64をウェーハ20の周縁に沿って回転させことにより、ウェーハ20に貼付られた表面保護フィルム3が切断される。
再び図1を参照すると、表面保護フィルム3が表面21に貼付られたウェーハ20はウェーハ処理装置100の反転ユニット300に供給される。反転ユニット300は、ウェーハ20を反転させる役目を果たす。貼付ユニット200において表面21に表面保護フィルム3が貼り付けられたウェーハ20は、その表面21が上方を向いている。従って、反転ユニット300においてはこのようなウェーハ20が上下反転され、表面保護フィルム3が貼付られたウェーハ20の表面21が下方を向くようになる。当然のことながら、ウェーハ20を反転させることなしに、ウェーハ20が反転ユニット300を単に通過するようにすることも可能である。
なお、貼付ユニット200と反転ユニット300との間で、または後述する他のユニット間でウェーハ20を移動させる際には移動装置、例えばロボットアーム等が使用されるが、これらは一般的な装置であるので図示および説明を省略するものとする。
反転ユニット300において反転されたウェーハ20は、裏面研削ユニット350に供給される。ウェーハ20は裏面が上方を向いた状態で裏面研削ユニット350に供給される。図6(a)は、裏面研削ユニットにおける裏面研削の状態を示す略側面図である。図6(a)に示されるように、裏面研削ユニット350においてはウェーハ20の表面21が図示しない吸着部により吸着される。前述したように、貼付ユニット200においてウェーハ20の表面21には表面保護フィルム3が貼付られているので、ウェーハ20の表面21が吸着されている場合であっても、表面21に形成された回路パターンCは損傷を受けない。
次いで、ウェーハ20の裏面22には研削部81が配置され、図6(a)に示されるように研削部81がウェーハ20の裏面22上を矢印方向に往復運動する。裏面研削後のウェーハの状態を示す略側面図である図6(b)に示されるように、ウェーハ20は研削部81によって裏面22側から研削され、ウェーハ20の厚さは当初の厚さL0から研削後厚さL0’まで低減する。ウェーハ20が所定の厚さ、例えば厚さL0’まで研削されると研削部81が停止され、ウェーハ20は裏面研削ユニット350から反転ユニット300に再び戻される。反転ユニット300においてはウェーハ20は再度、上下反転され、それにより、ウェーハ20の表面21が上方を向くようになる。
ところで、或る種類の表面保護フィルム3においては、所定量の紫外線を照射されると、表面保護フィルム3の接着力が低下するものが存在する。このような表面保護フィルム3が採用されている場合には、図1に示されるウェーハ処理装置100の紫外線照射ユニット、すなわちUV照射ユニット400を利用することができる。ウェーハ20は反転ユニット300において反転されて表面21が上方を向いた状態でUV照射ユニット400に供給される。従って、UV照射ユニット400においては、UVランプ490により所定量の紫外線を表面保護フィルム3に照射し、次いで、ウェーハ20を剥離ユニット500に供給する。なお、紫外線の照射により接着力が変化しない表面保護フィルム3を使用する場合には、UV照射ユニット400においてウェーハ20に紫外線を照射する必要はないので、ウェーハ20はUV照射ユニット400を単に通過される。
最終的に、ウェーハ20は剥離ユニット500に供給される。図7は、ウェーハ処理装置のうちの剥離ユニットの概略断面図である。図7に示される剥離ユニット500はハウジング110内に剥離テープ103を供給する供給部142と、供給部142からのテープを巻き取る巻取部143とを含んでいる。剥離ユニット500において使用される剥離テープ103は、ウェーハ20の表面に貼付られた表面保護フィルム3を剥離するのに用いられるテープである。この剥離テープ103の幅はウェーハ20の直径よりも小さくなっており、本実施形態における剥離テープ103の幅はウェーハ20の直径のほぼ半分程度である。
図示されるように、ハウジング110の底面には複数のキャスタ18および複数のストッパ19(図2にはそれぞれ一つずつ示されている)が設けられているが、これらについては図2を参照して説明した場合と同様であるので、説明を省略する。また、剥離ユニット500の下方部分に位置する扉17内にも前述したのと同様な制御部が組み込まれているものとする。他のユニットも、同様な構成であるものとする。
図7に示されるように、供給部142の下流には、剥離テープ103を案内すると共に剥離テープ103に所定の張力を掛ける一対のガイドローラ147が設けられており、さらにガイドローラ147の下流でかつ吸着テーブル131の上流においては剥離部144が設けられている。図7から分かるように、剥離部144は一対のローラ145と、これらローラ145の直下流に位置するピーリングローラ146とを備えている。ピーリングローラ146は吸着テーブル131の最大幅よりも大きい。
図面には示さないものの、剥離部144の一部は、例えば二つのプーリに懸けられたエンドレスチェーンに連結されており、プーリは図示しないモータに接続されている。そしてモータを順方向および逆方向に回転させることによって、剥離部144全体をプーリ間で水平方向に往復運動させられる。当然のことながら、剥離部144を他の駆動機構によって水平方向に往復運動できるようにしてもよい。詳細に後述するように、剥離部144がウェーハ20の一端からウェーハの他端までウェーハ20の直径上を水平方向に移動することにより、剥離テープ103をウェーハ20の表面から剥離することができる。また、剥離部144の下流には、剥離テープ103を案内するガイドローラ151、および剥離テープ103を巻き取る巻取部143が設けられている。
さらに、供給部142から剥離テープ103を繰り出すことにより剥離テープ103が吸着テーブル131の上方に位置するようになる。このとき、剥離テープ103は吸着テーブル131の直径上に位置するものとする。吸着テーブル131は前述した吸着テーブル31の場合と同様に昇降可能でかつ回転可能である。
図8は、剥離ユニットにおけるウェーハとピーリングローラとを示す略平面図である。図8に示されるウェーハ20は表面21に表面保護フィルム3が貼り付けられている。本発明においては、図4を参照して説明したのと同様に、ウェーハ20を吸着テーブル131上に設置した後で、ウェーハ20の表面21に形成された回路パターンCの別の角部の二等分線Y2と移動方向X2とが平行になるように吸着テーブル131を回転してウェーハ20を位置決めする。表面保護フィルム3の剥離時に採用される二等分線Y2は表面保護フィルム3の貼付時に採用した二等分線Y1に対して垂直である。その結果、図8に示されるように、ピーリングローラ146の移動方向X2とウェーハ20のオリフラOFとがなす角度が約45度になる。言い換えれば、図8に示されるウェーハ20の向きは、図3(a)に示されるウェーハ20の向きからウェーハ20の中心線回りに90度だけずれている。このとき、図3(a)に示した応力Pが比較的大きい領域Z1、Z3は剥離テープ103の概ね外側に位置するようになり、また、応力Pが比較的小さい領域Z2は剥離テープ103が存在する領域に位置するようになる。
なお、貼付ユニット200におけるオリフラOFの位置が、反転ユニット300、裏面研削ユニット350、UV照射ユニット400を通過した後においても変化していない場合には、剥離ユニット500の吸着テーブル131を反時計回りに単に90度だけ回転させるようにしてもよい。この場合にも、図8に示すのと同様な状態が得られる。
次いで、吸着テーブル131を剥離テープ103に向かって上昇させる。剥離テープ103と棚板112との間の距離は予め分かっているので、この距離に基づいて吸着テーブル131を上昇させることにより、ウェーハ20の表面保護フィルム3と剥離テープ103とを接触させられる。これにより、表面保護フィルム3とウェーハ20との間の接着力よりも大きい接着力が、剥離テープ103と表面保護フィルム3との間において得られる。ただし、このような場合であっても、剥離テープ103と表面保護フィルム3との間の接着力はウェーハ20と吸着テーブル131との間の吸着力よりは大きくならない。このような状態を形成した後で、剥離部144を駆動させる。
剥離部144を図7の左方から右方に向かって摺動させ、これと同時に巻取部143を駆動して剥離テープ103を巻き取るようにする。前述したように、剥離テープ103と表面保護フィルム3との間の接着力は表面保護フィルム3とウェーハ20との間の接着力よりも大きい。剥離部144が移動すると、ピーリングローラ146がウェーハ20のオリフラOFではない箇所P2に最初に到達する。巻取部143が駆動しているので、表面保護フィルム3はこの箇所P2から剥離テープ103と共に剥離されるようになる。
図8から分かるようにウェーハ20の箇所P2は表面保護フィルム3貼付時の応力Pが比較的小さかった領域Z2に位置している。つまり、本発明においては、応力Pが比較的小さかった領域Z2における箇所P2から剥離作用が開始されることになる。当然のことながら剥離開始箇所P2には比較的大きな応力が掛かるものの、この箇所P2は表面保護フィルム3貼付時の応力Pが小さかった箇所である。そして、表面保護フィルム3貼付時に応力Pが比較的大きかった領域Z1、Z3は剥離開始箇所ではない。
すなわち、本発明においては、表面保護フィルム3貼付時に応力が掛かる箇所と、表面保護フィルム3剥離時に応力が掛かる箇所とが、ウェーハ20内で異なるようにウェーハ20を位置決めしている。従って、本発明においては表面保護フィルム3貼付時の応力と表面保護フィルム3剥離時の応力とがウェーハ20の同一箇所に掛かるのが避けられ、それにより、表面保護フィルム3の剥離時にウェーハ20が破損するのを抑制することが可能となる。
また、ピーリングローラ146の移動方向X2と回路パターンCの角部の二等分線Y2とが平行であるので、表面保護フィルム3の剥離の際にも図4を参照することができる。このとき、図4内の移動方向X1を移動方向X2に読み替え、ローラ46をピーリングローラ146に読み替えるものとする。ピーリングローラ146を移動方向X2に移動させることにより表面保護フィルム3を剥離するときには、図4から推測できるようにパターン溝ga、gbのそれぞれに掛かる力は均等になる。従って、表面保護フィルム3の接着剤がパターン溝ga、gbのいずれか一方にのみ多量に残るようなことは無い。つまり、表面保護フィルム3の接着剤はパターン溝ga、gbに沿って回路パターンの角部から均等に離脱し、それにより、接着剤がパターン溝ga、gbに残渣として残ることも抑制できる。
なお、図3(a)および図8を参照すると、ウェーハ20は反時計回りに90度回転された状態に位置決めされている。しかしながら、ウェーハ20を時計回りに90度回転した状態に位置決めしてもよく、このような場合であっても、剥離開始箇所P2が領域Z2に位置するようになることが理解されよう。
再び図1を参照すると、剥離ユニット500において表面保護フィルム3が剥離されたウェーハ20はダイシング装置600に搬送される。詳細には説明しないものの、ダイシング装置においては、ウェーハ20は回路パターンのパターン溝ga、gbに沿って賽の目状に切断される。なお、図1におけるダイシング装置600はダイサ・ブレードを備えた通常のダイシング装置であってもよく、後述するレーザ・ダイシング装置であってもよい。
前述した実施形態においては裏面研削ユニット350における裏面研削の後に図示しないダイシング装置によるダイシングを行うようにしたウェーハ20の加工について説明している。しかしながら、ダイシングを行った後に表面保護フィルム3を貼付け、次いで裏面研削をするような場合であっても、本発明のウェーハ処理装置100を採用することができる。ただし、このような場合に行うダイシングはウェーハ20を完全に切断しきる所謂フルカットではなくて、ウェーハ20の厚さ方向に半分程度まで切り込みを形成する所謂ハーフカットである。
図9(a)は、貼付ユニットにおけるハーフカットされたウェーハとローラとを示す略平面図であり、図9(b)は、図9(a)の線A−Aに沿ってみた断面図である。図9(a)に示されるように、ウェーハ20の表面21にはパターン溝ga、gb(図4を参照されたい)に沿ってダイシング装置により形成された比較的幅広の溝、すなわちストリート91、92が形成されている。図9(b)から分かるようにストリート91はウェーハ20の厚さの半分程度まで切断されている。
このようにハーフカットされたウェーハ20は完全には分離していないので、ウェーハ処理装置100の各ユニットにおいて前述した処理を受け、前述したのと同様な効果を得ることができる。すなわち、ハーフカットされたウェーハ20に対して表面保護フィルム3の貼付および剥離を前述したように行うことは本発明の範囲に含まれる。
なお、ウェーハ20はダイサ・ブレードを備えた通常のダイシング装置によりハーフカットされる場合に加えて、レーザ・ダイシングによりハーフカットされていてもよい。図10は、レーザ・ダイシングを説明するための側断面図である。図10においては、多光子吸収が生じる条件で、図示しないレーザ源からレーザVが集光レンズ85を介してウェーハ20の表面21側に照射する。このとき、集光点84はウェーハ20内部の表面21にいくぶん近い側に合わせられている。これにより、集光点84周りには改質領域が形成される。次いで、レーザVおよび集光レンズ85を矢印X3に沿って移動させると、帯状の改質領域86がウェーハ20内部に形成されるようになる。
レーザ・ダイシングにおいては、ウェーハ20にレーザVを透過させウェーハ20の内部に多光子吸収を発生させて改質領域を形成している。従って、ウェーハ20の表面21においてはウェーハ20にレーザVはほとんど吸収されず、その結果、ウェーハ20の表面21が溶融することはない。このような改質領域86はウェーハ20のパターン溝ga、gbに沿って複数、形成されるものとする。
改質領域86は表面21にいくぶん近い側に形成されているので、改質領域86が表面21に向かって厚さ方向に自然に割れると、レーザVの幅に応じたストリートが形成され、それにより、ハーフカットのダイシングが行われたことになる(図9(b)を参照されたい)。
また、図1に示されるダイシング装置600においてフルカットのためにレーザ・ダイシングを採用する場合には、改質領域86を厚さ方向に複数形成するようにする。この場合には、改質領域86が厚さ方向に割れるときに隣の改質領域に連結し、それにより、ウェーハ20の厚さ部分全体が割れるようになる。従って、このような方式を図1に示されるダイシング装置600において採用することができる。
なお、本発明においては表面保護フィルム3の貼付時および剥離時にローラ46およびピーリングローラ146の移動方向X1、X2とパターン角部の二等分線とが平行になるようにしているのが最も好ましいが、これら移動方向X1、X2と二等分線とが或る角度、例えば30度以下の角度をなすように交差している場合も好ましく、このような場合であっても本発明の範囲に含まれるものとする。
また、前述した実施形態においては回路パターンCが矩形である場合を想定しているが、回路パターンCが矩形以外の形状であってもよく、そのような回路パターンCの角部の二等分線とローラ46、ピーリングローラ146の移動方向X1、X2とが平行になるようにウェーハ20を位置決めするときには、前述したのと同様な効果が得られるのは明らかである。
本発明に基づくウェーハ処理装置を示す略図である。 ウェーハ処理装置のうちの貼付ユニットの概略断面図である。 (a)貼付ユニットにおけるウェーハとローラとを示す略平面図である。(b)本発明において接触幅とウェーハ一端からの距離との関係を示す図である。 ウェーハの表面を部分的に拡大した部分拡大略図である。 (a)表面保護フィルム貼付後におけるパターン溝gaに対して垂直な線分に沿ってみたウェーハの断面図である。(b)貼付ユニットにおけるウェーハとローラとを示す他の略平面図である。 (a)裏面研削ユニットにおける裏面研削の状態を示す略側面図である。(b)裏面研削後のウェーハの状態を示す略側面図である。 ウェーハ処理装置のうちの剥離ユニットの概略断面図である。 剥離ユニットにおけるウェーハとピーリングローラとを示す略平面図である。 (a)貼付ユニットにおけるハーフカットされたウェーハとローラとを示す略平面図である。(b)図9(a)の線A−Aに沿ってみた断面図である。 レーザ・ダイシングを説明するための側断面図である。 (a)従来技術において表面保護フィルムをウェーハに貼り付ける際の貼付方式を示す略図である。(b)従来技術における接触幅とウェーハ一端からの距離との関係を示す図である。
符号の説明
3 表面保護フィルム
20 ウェーハ
21 表面
22 裏面
31 吸着テーブル
32 軸部
33 ベース
46 ローラ
81 研削部
100 ウェーハ処理装置
103 剥離テープ
131 吸着テーブル
146 ピーリングローラ
200 貼付ユニット
300 反転ユニット
350 裏面研削ユニット
400 UV照射ユニット
500 剥離ユニット
600 ダイシング装置
C 回路パターン
ga、gb パターン溝
OF オリフラ
X1 移動方向(貼付方向)
X2 移動方向(剥離方向)
Y1、Y2 回路パターン角部の二等分線
Z1、Z3 応力が比較的大きい領域
Z2 応力が比較的小さい領域

Claims (6)

  1. 回路パターンがパターン形成面に形成されたウェーハの前記パターン形成面にフィルムを貼り付けるフィルム貼付方法において、
    前記ウェーハの前記パターン形成面において所定の貼付方向に移動することにより前記フィルムを前記パターン形成面に貼り付けるフィルム貼付手段の前記貼付方向と前記回路パターンの角部の二等分線とが概ね平行になるように、前記ウェーハを位置決めし、
    前記ウェーハの前記パターン形成面において前記フィルム貼付手段を前記貼付方向に移動させることにより、前記フィルムを前記ウェーハの前記パターン形成面に貼り付けるフィルム貼付方法。
  2. 回路パターンがパターン形成面に形成されたウェーハの前記パターン形成面にフィルムを貼り付けるフィルム貼付方法において、
    前記ウェーハの前記パターン形成面において所定の貼付方向に移動することにより前記フィルムを前記パターン形成面に貼り付けるフィルム貼付手段の前記貼付方向と前記回路パターンの角部の二等分線とが概ね平行になるような第一の向きに、前記ウェーハを位置決めし、
    前記ウェーハの前記パターン形成面において前記フィルム貼付手段を前記貼付方向に移動させることにより、前記フィルムを前記ウェーハの前記パターン形成面に貼り付け、
    前記ウェーハの前記パターン形成面とは反対側の面を研削し、
    前記第一の向きから前記ウェーハの中心線回りに90度だけ回転した第二の向きに前記ウェーハを位置決めし、
    前記ウェーハの前記パターン形成面に貼り付けられた前記フィルム上に剥離テープを繰り出し、
    前記剥離テープを前記ウェーハの前記フィルムに接触させ、
    前記ウェーハの前記パターン形成面においてフィルム剥離手段を前記貼付方向に対して平行な剥離方向に移動させることにより、前記ウェーハの前記パターン形成面から前記フィルムを前記剥離テープと共に剥離するようにしたフィルム貼付方法。
  3. 前記ウェーハが該ウェーハの厚みの途中まで予めダイシングされている請求項1または2に記載のフィルム貼付方法。
  4. 回路パターンがパターン形成面に形成されたウェーハの前記パターン形成面にフィルムを貼り付けるフィルム貼付装置において、
    前記ウェーハを支持可能に位置決めできる位置決め手段と、
    前記ウェーハの前記パターン形成面において所定の貼付方向に移動することにより前記フィルムを前記パターン形成面に貼り付けるフィルム貼付手段とを具備し、
    該フィルム貼付手段の前記貼付方向と前記回路パターンの角部の二等分線とが概ね平行になるように前記ウェーハを前記位置決め手段により位置決めした後で、前記ウェーハの前記パターン形成面において前記フィルム貼付手段を前記貼付方向に移動させることにより、前記フィルムを前記ウェーハの前記パターン形成面に貼り付けるようにしたフィルム貼付装置。
  5. 回路パターンがパターン形成面に形成されたウェーハの前記パターン形成面にフィルムを貼り付けるフィルム貼付装置において、
    前記ウェーハを支持可能に位置決めする位置決め手段と、
    前記ウェーハの前記パターン形成面において所定の貼付方向に移動することにより前記フィルムを前記パターン形成面に貼り付けるフィルム貼付手段と、
    前記ウェーハの前記パターン形成面とは反対側の面を研削する研削手段と、
    前記ウェーハの前記パターン形成面に貼り付けられた前記フィルム上に剥離テープを繰り出すテープ繰出手段と、
    前記パターン形成面において前記貼付方向に対して平行な剥離方向に移動することにより前記ウェーハの前記パターン形成面から前記フィルムを前記剥離テープと共に剥離するフィルム剥離手段とを具備し、
    該フィルム貼付手段の前記貼付方向と前記回路パターンの角部の二等分線とが概ね平行になる第一の向きに前記ウェーハを前記位置決め手段により位置決めした後で、前記ウェーハの前記パターン形成面において前記フィルム貼付手段を前記貼付方向に移動させることにより、前記フィルムを前記ウェーハの前記パターン形成面に貼り付け、
    前記研削手段により前記パターン形成面とは反対側の面を研削した後で、前記位置決め手段によって、前記第一の向きから前記ウェーハの中心線回りに90度だけ回転した第二の向きに前記ウェーハを位置決めして前記テープ繰出手段により繰り出された前記剥離テープに前記ウェーハの前記フィルムを接触させ、
    前記ウェーハの前記パターン形成面において前記フィルム剥離手段を前記貼付方向に対して平行な剥離方向に移動させることにより、前記ウェーハの前記パターン形成面から前記フィルムを前記剥離テープと共に剥離するようにしたフィルム貼付装置。
  6. 前記ウェーハが該ウェーハの厚みの途中まで予めダイシングされている請求項4または5に記載のフィルム貼付装置。
JP2004282403A 2004-09-28 2004-09-28 フィルム貼付方法およびフィルム貼付装置 Pending JP2006100413A (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004282403A JP2006100413A (ja) 2004-09-28 2004-09-28 フィルム貼付方法およびフィルム貼付装置
US11/185,578 US20060068566A1 (en) 2004-09-28 2005-07-19 Film sticking method and film sticking device
MYPI20053342A MY146228A (en) 2004-09-28 2005-07-20 Film sticking method and film sticking device
EP05254944A EP1641025A3 (en) 2004-09-28 2005-08-08 Film sticking method and film sticking device
SG200505535A SG121085A1 (en) 2004-09-28 2005-08-30 Film sticking method and film sticking device
TW094129971A TWI280619B (en) 2004-09-28 2005-08-31 Film sticking method and film sticking device
KR1020050080981A KR100675961B1 (ko) 2004-09-28 2005-08-31 필름 접착 방법 및 필름 접착 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004282403A JP2006100413A (ja) 2004-09-28 2004-09-28 フィルム貼付方法およびフィルム貼付装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006100413A true JP2006100413A (ja) 2006-04-13

Family

ID=35106771

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004282403A Pending JP2006100413A (ja) 2004-09-28 2004-09-28 フィルム貼付方法およびフィルム貼付装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20060068566A1 (ja)
EP (1) EP1641025A3 (ja)
JP (1) JP2006100413A (ja)
KR (1) KR100675961B1 (ja)
MY (1) MY146228A (ja)
SG (1) SG121085A1 (ja)
TW (1) TWI280619B (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007012751A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 Disco Abrasive Syst Ltd ウェーハの加工方法
JP2007281001A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Nec Electronics Corp 半導体ウェーハの加工方法
JP2008028183A (ja) * 2006-07-21 2008-02-07 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハ収納方法
JP2008034708A (ja) * 2006-07-31 2008-02-14 Nitto Denko Corp 半導体ウエハマウント装置
WO2008111348A1 (ja) * 2007-03-14 2008-09-18 Lintec Corporation シート貼付装置及び貼付方法
JP2009016438A (ja) * 2007-07-02 2009-01-22 Nitto Denko Corp 半導体ウエハへの粘着テープ貼付け方法および保護テープの剥離方法
JP2010141101A (ja) * 2008-12-11 2010-06-24 Nitto Denko Corp 半導体ウエハの保護テープ剥離方法および保護テープ剥離装置
JP2014082445A (ja) * 2012-09-28 2014-05-08 Toshiba Corp 半導体装置の製造装置および半導体装置の製造方法
JP2016054233A (ja) * 2014-09-04 2016-04-14 株式会社ディスコ 保護部材の剥離方法及び剥離装置
JP2020031211A (ja) * 2018-08-24 2020-02-27 株式会社ディスコ 基板を処理する方法
WO2020195808A1 (ja) * 2019-03-26 2020-10-01 リンテック株式会社 半導体装置の製造方法及び積層体

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1947688A4 (en) * 2005-11-04 2010-10-27 Tokyo Seimitsu Co Ltd FILM-PULLING METHOD AND FILM-PULLING DEVICE
JP4786403B2 (ja) * 2006-04-20 2011-10-05 エルピーダメモリ株式会社 半導体装置及びその製造方法
US10978347B2 (en) * 2019-09-16 2021-04-13 Disco Corporation Device chip and method of manufacturing device chip

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6443458A (en) * 1987-08-11 1989-02-15 Nitto Denko Corp Stick cutter for tacky tape with respect to thin board
JP3328381B2 (ja) 1993-06-24 2002-09-24 日東電工株式会社 半導体ウエハの保護テープ自動貼付け装置
JP2001156159A (ja) 1999-11-29 2001-06-08 Sony Corp ウェーハ保護テープ貼付装置
JP3956084B2 (ja) * 2000-10-24 2007-08-08 株式会社タカトリ 半導体ウェーハへのダイボンドテープ貼り付け方法及び装置
JP2003077944A (ja) * 2001-06-22 2003-03-14 Nitto Denko Corp 接着フィルム付き半導体ウェハの製造方法
JP4266106B2 (ja) * 2001-09-27 2009-05-20 株式会社東芝 粘着性テープの剥離装置、粘着性テープの剥離方法、半導体チップのピックアップ装置、半導体チップのピックアップ方法及び半導体装置の製造方法
JP2003124146A (ja) * 2001-10-11 2003-04-25 Lintec Corp 保護シート剥離方法及び装置
JP2003209080A (ja) * 2002-01-11 2003-07-25 Disco Abrasive Syst Ltd 半導体ウェーハ保護部材及び半導体ウェーハの研削方法
JP2004165570A (ja) * 2002-11-15 2004-06-10 Nitto Denko Corp 半導体ウエハからの保護テープ除去方法およびその装置
SG148017A1 (en) * 2003-07-11 2008-12-31 Nitto Denko Corp Transport method and transport apparatus for semiconductor wafer
JP2005175384A (ja) * 2003-12-15 2005-06-30 Nitto Denko Corp 保護テープの貼付方法及び剥離方法
DE102004009742B4 (de) * 2004-02-25 2010-03-04 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Herstellen rückseitenbeschichteter Halbleiterchips

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007012751A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 Disco Abrasive Syst Ltd ウェーハの加工方法
JP4705418B2 (ja) * 2005-06-29 2011-06-22 株式会社ディスコ ウェーハの加工方法
JP2007281001A (ja) * 2006-04-03 2007-10-25 Nec Electronics Corp 半導体ウェーハの加工方法
JP2008028183A (ja) * 2006-07-21 2008-02-07 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハ収納方法
JP2008034708A (ja) * 2006-07-31 2008-02-14 Nitto Denko Corp 半導体ウエハマウント装置
JP4698519B2 (ja) * 2006-07-31 2011-06-08 日東電工株式会社 半導体ウエハマウント装置
WO2008111348A1 (ja) * 2007-03-14 2008-09-18 Lintec Corporation シート貼付装置及び貼付方法
JP2008227224A (ja) * 2007-03-14 2008-09-25 Lintec Corp シート貼付装置及び貼付方法
JP4693817B2 (ja) * 2007-07-02 2011-06-01 日東電工株式会社 半導体ウエハへの粘着テープ貼付け方法および保護テープの剥離方法
JP2009016438A (ja) * 2007-07-02 2009-01-22 Nitto Denko Corp 半導体ウエハへの粘着テープ貼付け方法および保護テープの剥離方法
JP2010141101A (ja) * 2008-12-11 2010-06-24 Nitto Denko Corp 半導体ウエハの保護テープ剥離方法および保護テープ剥離装置
TWI447792B (zh) * 2008-12-11 2014-08-01 Nitto Denko Corp 半導體晶圓之保護帶剝離方法及保護帶剝離裝置
JP2014082445A (ja) * 2012-09-28 2014-05-08 Toshiba Corp 半導体装置の製造装置および半導体装置の製造方法
JP2016054233A (ja) * 2014-09-04 2016-04-14 株式会社ディスコ 保護部材の剥離方法及び剥離装置
JP2020031211A (ja) * 2018-08-24 2020-02-27 株式会社ディスコ 基板を処理する方法
US11011406B2 (en) 2018-08-24 2021-05-18 Disco Corporation Method of processing a substrate
WO2020195808A1 (ja) * 2019-03-26 2020-10-01 リンテック株式会社 半導体装置の製造方法及び積層体
CN113165121A (zh) * 2019-03-26 2021-07-23 琳得科株式会社 半导体装置的制造方法以及层叠体
CN113165121B (zh) * 2019-03-26 2023-12-05 琳得科株式会社 半导体装置的制造方法以及层叠体

Also Published As

Publication number Publication date
EP1641025A3 (en) 2009-04-15
TW200620445A (en) 2006-06-16
MY146228A (en) 2012-07-31
SG121085A1 (en) 2006-04-26
US20060068566A1 (en) 2006-03-30
KR20060050896A (ko) 2006-05-19
TWI280619B (en) 2007-05-01
KR100675961B1 (ko) 2007-02-02
EP1641025A2 (en) 2006-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100675961B1 (ko) 필름 접착 방법 및 필름 접착 장치
JP4817805B2 (ja) フィルム剥離方法およびフィルム剥離装置
KR100652257B1 (ko) 이면 연삭/다이싱 테이프 부착 시스템
US6080263A (en) Method and apparatus for applying a protecting film to a semiconductor wafer
JP6234161B2 (ja) 粘着テープ貼着装置
TWI533366B (zh) 黏著帶貼附方法及黏著帶貼附裝置
US20080011412A1 (en) Sheet Peeling Apparatus and Peeling Method
TW200913030A (en) Expanding method and expanding device
CN102419490B (zh) 液晶显示元件的连续制造系统及其连续制造方法
JP2005317712A (ja) ウエハ処理装置
JP4723216B2 (ja) テープ貼付装置、マウント装置及びマウント方法
TW201519304A (zh) 黏著帶貼附方法及黏著帶貼附裝置
TW201605706A (zh) 可撓性薄膜構造的顯示單元之處理方法
JP2005159044A (ja) リングフレームへの粘着テープ貼り付け方法とその装置及びリングフレームへの基板マウント装置
JP4324788B2 (ja) ウェーハマウンタ
JP4565977B2 (ja) フィルム剥離方法およびフィルム剥離装置
JP5961047B2 (ja) ウエーハの加工方法
JP2011086772A (ja) 保護テープ剥離装置
CN103579066B (zh) 半导体晶圆的固定方法及半导体晶圆的固定装置
JP2006005131A (ja) 保護テープ装着方法および保護テープ装着装置
JP2012104644A (ja) ウェーハ破断方法およびウェーハ破断装置
JP2004307724A (ja) テープの貼付方法および貼付装置
JP2011086646A (ja) テープ体ロール
JP4509635B2 (ja) 貼付テーブル
JP2004335909A (ja) 板状部材の分割方法及び分割装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070730

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091022

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091027

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100302