JP2006065306A - パターン付き光学フィルタ層を基板上に作製する方法 - Google Patents
パターン付き光学フィルタ層を基板上に作製する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006065306A JP2006065306A JP2005207119A JP2005207119A JP2006065306A JP 2006065306 A JP2006065306 A JP 2006065306A JP 2005207119 A JP2005207119 A JP 2005207119A JP 2005207119 A JP2005207119 A JP 2005207119A JP 2006065306 A JP2006065306 A JP 2006065306A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical filter
- filter layer
- substrate
- resist
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/515—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using pulsed discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0005—Separation of the coating from the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
【解決手段】 本発明による改善された方法において、レジスト層を備えるマスキングは基板の表面上に作製され、光学フィルタ層は真空蒸着によって表面上に蒸着され、また、光学フィルタ層をその上に有するレジスト層はレジスト層から除去され、光学フィルタ層の蒸着は、150℃を越える温度、好ましくは、150℃を超える温度から400℃を含む温度までの範囲の温度で、少なくとも時々行われる。
【選択図】 図1D
Description
レジスト層を備えるマスキングは基板の表面上に作製され、
光学フィルタ層は真空蒸着によって表面上に蒸着され、また、
光学フィルタ層をその上に有するレジスト層はレジスト層を膨張させることによって除去される。
レジスト層を備えるマスキングは基板の表面に作製され、
光学フィルタ層は真空蒸着法を用いて表面上に蒸着され、また、
このレジスト層はその上の光学フィルタ層と共に基板から引き離される。
表面のマスキングは基板の表面に輪郭マスクを固定することによって作製され、
光学フィルタ層は真空蒸着によって表面に蒸着され、また、
光学フィルタ層をその上に有する輪郭マスクは表面から分離される。
1つまたは複数の位置合わせ穴を用いて、あるいは
少なくとも1つのストップ端部、もしくは
少なくとも1つのマークまたはクランプを用いて、あるいは
機械位置決めによって、あるいは
少なくとも1つの突起、たとえば、表面上またはマスク上または基板ホルダ上の、リセス中に係合するガイドマンドレルを用いて、あるいは
これらの方策のうちの少なくとも2つの組合せを用いて、固定または調節することができる。
レジスト層を備えるマスキングは基板の表面上に作製され、
光学フィルタ層は真空蒸着によってこの表面に蒸着され、また、
光学フィルタ層をその上に有するレジスト層は除去され、
光学フィルタ層の蒸着は、150℃を超える温度、好ましくは、150℃を超える温度から400℃を含む温度までの範囲で行われる。リフトオフステップ、すなわちフィルタ層をその上に有するレジスト層の除去は、たとえば、レジストを膨張させることによって、または適切な溶剤を用いてレジストを(部分的に)溶解することによって行う。
レジスト層を備えるマスキングは基板1の表面3上に作製され、
光学フィルタ層は真空蒸着によって表面に蒸着され、また、
光学フィルタ層をその上に有するレジスト層はレジスト層を膨張させることによって除去されるという事実に基づく。
光学フィルタ層23は真空蒸着によって表面3上に蒸着され、また、
光学フィルタ層をその上に有するレジスト層5は、一般的に、リフトオフ技法によって除去され、
光学フィルタ層23の蒸着は、真空チャンバ19中で、150℃を超える温度、好ましくは、150℃を超える温度から400℃を含む温度までの範囲で行われる。
基板1の表面3上にレジスト層5を備えるマスキングを作製すること、および
真空蒸着法を用いて表面3上に光学フィルタ層23を蒸着させることに基づく。
表面のマスキングは輪郭マスクを基板の表面上に固定することによって作製され、
光学フィルタ層は真空蒸着によって表面上に蒸着され、また、
光学フィルタ層をその上に有する輪郭マスクはその後この表面から分離される。
1つまたは複数の位置合せ穴を用いて、あるいは
少なくとも1つのストップ端部、もしくは
少なくとも1つのマークまたはクランプを用いて、あるいは
機械位置決めによって、あるいは
マスクまたは表面中のリセスと係合する、表面またはマスクまたは基板ホルダ(図示せず)上の少なくとも1つの突起を用いて、あるいは
これらの手段のうちの少なくとも2つの組合せを用いて、
位置を固定または調整することなどの追加の手段を用いることができる。
3 基板の表面
4 表面と反対側の基板
5 レジスト層
7 プリントヘッド
9 プリントヘッドのノズル
11 プリントヘッドのタンク
13 レジスト
15 マスキングされた表面のセグメント
17 透明なマスキングされていない表面のセグメント
19 真空チャンバ
21 被覆源
23 光学フィルタ層
231、232、233 光学フィルタ層の個々の層
25、26、27、28 光学フィルタ層セグメント
251、252、253 光学フィルタ層の個々の層セグメント
30 テンプレート
33 輪郭マスク
35 輪郭マスクのセグメント切欠
37 磁石配列
371 磁極片配列
372 微小磁極配列
373 磁気テープ
40 フォトレジスト
42 リセス
43 突起
44 磁体
45 磁極片
46 磁極
47 リターンプレート
48 個々の磁石
100 カラーホイールのガラス基板
101 カラーホイールのフィルタディスク
102 101中の開口
103 ガラス基板の被覆されていない円セグメント
104 被膜/箔
105 自動車
110 ヘッドランプ
Claims (46)
- 少なくとも1つの光学フィルタ層セグメントを基板上に作製する方法であって、
レジスト層を備えるマスキングは該基板の表面上に作製され、
光学フィルタ層は真空蒸着によって該表面上に蒸着され、また、
該光学フィルタ層をその上に有する該レジスト層は該レジスト層から除去され、
該光学フィルタ層の該蒸着は、150℃を越える温度、好ましくは、150℃を超える温度から400℃を含む温度までの範囲の温度で、少なくとも時々行われる、少なくとも1つの光学フィルタ層セグメントを基板上に作製する方法。 - 前記光学フィルタ層の前記真空蒸着は、170℃±15℃の範囲、好ましくは、170℃±10℃の範囲で、少なくとも時々行われる、請求項1の方法。
- 前記真空蒸着は、プラズマ蒸着、具体的には、スパッタリングまたはプラズマ蒸着被覆を含む、請求項1または2の方法。
- 少なくとも1つの光学フィルタ層セグメントを基板上に作製する方法であって、具体的には、
レジスト層を備えるマスキングは該基板の表面上に作製され、
光学フィルタ層は真空蒸着によって該表面上に蒸着され、また、
該光学フィルタ層をその上に有する該レジスト層は膨張することによって該レジスト層を除去する、請求項1乃至3のいずれか1項の方法。 - レジスト層を備える前記マスキングの前記作製は、フォトレジストの塗布と、該フォトレジストの露光および現像とを含む、請求項4の方法。
- レジスト層を備える前記マスキングの前記作製は、ストップレジストの塗布を含む、請求項4または5の方法。
- 前記レジスト層を膨張させることによる該レジスト層の除去は、該レジスト層のアルカリ溶液での処理を含む、請求項4乃至6のいずれか1項の方法。
- 光学フィルタ層セグメントを基板上に作製する方法であって、具体的には、
レジスト層を備えるマスキングは該基板の表面上に作製され、
光学フィルタ層は真空蒸着法を用いて該表面上に蒸着され、また、
該レジスト層はその上の該光学フィルタ層と共に該基板から引き離される、請求項1乃至7のいずれか1項の方法。 - 前記レジスト層用のレジストは印刷される、請求項1乃至8のいずれか1項の方法。
- 前記レジスト層用のレジストはプリントヘッドを用いて印刷される、請求項9の方法。
- 前記レジスト層用のレジストは、コンピュータ制御された印刷によって前記基板に塗布される、請求項1乃至10のいずれか1項の方法。
- テンプレートは前記表面上に配置され、レジストは該テンプレートが設けられた前記表面に塗布される、請求項1乃至11のいずれか1項の方法。
- 前記レジスト層用のレジストは、ブラッシング、ローリング、スクリーン印刷、またはエアレススプレーを用いて塗布される、請求項1乃至12のいずれか1項の方法。
- 前記被覆表面は蒸着の際に加熱され、また前記レジスト層上に蒸着された前記光学フィルタ層は冷却されるとクラックが入る、請求項1乃至13のいずれか1項の方法。
- 光学フィルタ層セグメントを基板上に作製する方法であって、具体的には、
前記表面のマスキングは該基板の表面上に輪郭マスクを固定することによって作製され、
光学フィルタ層は真空蒸着によって該表面上に蒸着され、また、
該光学フィルタ層をその上に有する該輪郭マスクは該表面から離される、請求項1乃至14のいずれか1項の方法。 - 前記輪郭マスクは真空蒸着チャンバ中で前記表面上に配置される、請求項15の方法。
- 前記輪郭マスクは磁力を用いて前記表面上に保持される、請求項15または16の方法。
- 前記輪郭マスクは前記表面の下に配置された磁石配列によって固定される、請求項17の方法。
- 前記磁石配列は、磁極片配列、微小磁極配列、磁気テープ、またはリターンプレート上の個々の磁石を備える、請求項18の方法。
- 前記輪郭マスクは磁化可能な材料を含む、請求項15乃至19のいずれか1項の方法。
- 前記輪郭マスクは、金属箔、または、特に熱安定プラスチックを含むプラスチック被膜を含む、請求項15乃至20のいずれか1項の方法。
- 前記輪郭マスクは接合層を用いて前記表面上に固定される、請求項15乃至21のいずれか1項の方法。
- 前記輪郭マスクは前記蒸着操作の後で前記表面から引き離される、請求項22の方法。
- 前記輪郭マスクの位置は、
1つまたは複数の位置合せ穴を用いて、あるいは
少なくとも1つのストップ端部、もしくは
少なくとも1つのマークまたはクランプを用いて、あるいは
機械位置決めによって、あるいは
前記マスクまたは表面中のリセスに係合する、前記マスクまたは表面上の少なくとも1つの突起を用いて、あるいは
これらの手段のうちの少なくとも2つの組合せを用いて、固定または調節される、請求項15乃至23のいずれか1項の方法。 - 前記輪郭マスクの位置は前記固定点で前記表面に対して固定され、該固定点の位置は、前記光学層の前記真空蒸着の際の温度変化により生じる前記マスクの前記輪郭の局所的なずれが最小になるような方法で選択される、請求項15乃至24のいずれか1項の方法。
- 前記輪郭マスクは、打抜き、ミリング、レーザ切断、水噴射切断、エッチング、またはこれらの方法のうちの少なくとも2つの組合せによって、被膜/箔から作製される、請求項15乃至25のいずれか1項の方法。
- 前記光学フィルタ層の前記真空蒸着は少なくとも1層の物理蒸着(PVD)を含む、請求項1乃至26のいずれか1項の方法。
- 前記光学フィルタ層の前記真空蒸着は少なくとも1層のスパッタリングを含む、請求項1乃至27のいずれか1項の方法。
- 前記光学フィルタ層の前記真空蒸着は少なくとも1層の蒸着被覆を含む、請求項1乃至28のいずれか1項の方法。
- 前記光学フィルタ層の前記真空蒸着は少なくとも1層の化学蒸着を含む、請求項1乃至29のいずれか1項の方法。
- 前記光学フィルタ層の前記真空蒸着は少なくとも1層のプラズマインパルス誘導蒸着を含む、請求項1乃至30のいずれか1項の方法。
- 前記光学フィルタ層の前記真空蒸着は複数の層の蒸着を含む、請求項1乃至31のいずれか1項の方法。
- 相異なる組成の少なくとも2つの個々の層が蒸着される、請求項32の方法。
- 前記光学フィルタ層の前記真空蒸着は干渉フィルタ層の蒸着を含む、請求項1乃至33のいずれか1項の方法。
- 前記光学フィルタ層の前記真空蒸着は、150℃を越える温度、好ましくは150℃を越える温度から400℃を含む温度までの範囲で、前記マスキングされた表面に対して、少なくとも時々行われる、請求項1乃至34のいずれか1項の方法。
- 前記マスキングされた表面の前記温度は、少なくとも時々、170℃±15℃、好ましくは、170℃±10℃の範囲にある、請求項35の方法。
- 円のセグメントの形状をした前記表面のセグメントは被覆される、請求項1乃至36のいずれか1項の方法。
- 情報の可視アイテム、具体的には、文字、記号、またはロゴ、の形に成形された光学フィルタ層セグメントが蒸着される、請求項1乃至37のいずれか1項の方法。
- マスキングおよび真空蒸着の前記ステップは、相異なるマスキングによって光学フィルタ層が設けられた前記表面の相異なるセグメントに対して、少なくとも一回繰り返される、請求項1乃至38のいずれか1項の方法。
- 前記相異なるセグメントには相異なる光学フィルタ層が設けられる、請求項39の方法。
- カラーホイール用の円板状基板は被覆される、請求項1乃至40のいずれか1項の方法。
- ガラス基板または基板のガラス表面は被覆される、請求項1乃至41のいずれか1項の。
- セグメント化された光フィルタを作製するための、請求項1乃至42のいずれか1項の方法の使用。
- 少なくとも1つのセンサ表面が光学フィルタ層セグメントによって覆われたセンサ表面を有するセンサを作製するための、請求項1乃至43のいずれか1項の方法の使用。
- 被膜/箔を被覆するための、請求項1乃至44のいずれか1項の方法の使用。
- 装飾パターンで基板を被覆するための、請求項1乃至45のいずれか1項の方法の使用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004034418.3 | 2004-07-15 | ||
DE102004034418A DE102004034418B4 (de) | 2004-07-15 | 2004-07-15 | Verfahren zur Herstellung struktuierter optischer Filterschichten auf Substraten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006065306A true JP2006065306A (ja) | 2006-03-09 |
JP4738079B2 JP4738079B2 (ja) | 2011-08-03 |
Family
ID=35124651
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005207119A Expired - Fee Related JP4738079B2 (ja) | 2004-07-15 | 2005-07-15 | パターン付き光学フィルタ層を基板上に作製する方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7704683B2 (ja) |
EP (1) | EP1724616B1 (ja) |
JP (1) | JP4738079B2 (ja) |
CN (1) | CN1721889B (ja) |
DE (1) | DE102004034418B4 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010510874A (ja) * | 2006-11-23 | 2010-04-08 | ネーデルランデ オルガニサティー ヴール トゥーヘパストナツールウェテンスハペライク オンデルズーク テーエヌオー | 部分的にコーティングされた製品の製造方法および装置 |
JP2010541000A (ja) * | 2007-09-26 | 2010-12-24 | イーストマン コダック カンパニー | カラーフィルターアレイの製造方法 |
KR20170020886A (ko) * | 2014-06-18 | 2017-02-24 | 비아비 솔루션즈 아이엔씨. | 금속-유전체 광학 필터, 센서 디바이스, 및 제조 방법 |
US10928570B2 (en) | 2012-12-19 | 2021-02-23 | Viavi Solutions Inc. | Metal-dielectric optical filter, sensor device, and fabrication method |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8623737B2 (en) * | 2006-03-31 | 2014-01-07 | Intel Corporation | Sol-gel and mask patterning for thin-film capacitor fabrication, thin-film capacitors fabricated thereby, and systems containing same |
US7941237B2 (en) * | 2006-04-18 | 2011-05-10 | Multibeam Corporation | Flat panel display substrate testing system |
US20070287080A1 (en) * | 2006-06-08 | 2007-12-13 | Orbotech Ltd | Enhancement of inkjet-printed elements using photolithographic techniques |
KR100790166B1 (ko) * | 2006-11-23 | 2008-01-02 | 삼성전자주식회사 | 도금 방법 |
GB0718839D0 (en) * | 2007-09-26 | 2007-11-07 | Eastman Kodak Co | method of patterning a mesoporous nano particulate layer |
GB0718840D0 (en) * | 2007-09-26 | 2007-11-07 | Eastman Kodak Co | Method of patterning vapour deposition by printing |
EP2251455B1 (en) | 2009-05-13 | 2017-09-06 | SiO2 Medical Products, Inc. | PECVD coating using an organosilicon precursor |
US9458536B2 (en) | 2009-07-02 | 2016-10-04 | Sio2 Medical Products, Inc. | PECVD coating methods for capped syringes, cartridges and other articles |
DE102009034532A1 (de) * | 2009-07-23 | 2011-02-03 | Msg Lithoglas Ag | Verfahren zum Herstellen einer strukturierten Beschichtung auf einem Substrat, beschichtetes Substrat sowie Halbzeug mit einem beschichteten Substrat |
US11624115B2 (en) | 2010-05-12 | 2023-04-11 | Sio2 Medical Products, Inc. | Syringe with PECVD lubrication |
CN102373419A (zh) * | 2010-08-23 | 2012-03-14 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镀膜加工方法 |
CN102373408A (zh) * | 2010-08-25 | 2012-03-14 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镀膜加工方法 |
CN102443758A (zh) * | 2010-10-06 | 2012-05-09 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 镀膜件及其制备方法 |
US9878101B2 (en) | 2010-11-12 | 2018-01-30 | Sio2 Medical Products, Inc. | Cyclic olefin polymer vessels and vessel coating methods |
US9272095B2 (en) | 2011-04-01 | 2016-03-01 | Sio2 Medical Products, Inc. | Vessels, contact surfaces, and coating and inspection apparatus and methods |
US9051637B2 (en) * | 2011-11-10 | 2015-06-09 | Veeco Ald Inc. | Securing of shadow mask and substrate on susceptor of deposition apparatus |
US11116695B2 (en) | 2011-11-11 | 2021-09-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Blood sample collection tube |
CN103930595A (zh) | 2011-11-11 | 2014-07-16 | Sio2医药产品公司 | 用于药物包装的钝化、pH保护性或润滑性涂层、涂布方法以及设备 |
DE102012001499A1 (de) * | 2012-01-28 | 2013-08-01 | Ahmet Aslan | Anbringen von jegliche Logo, Emblem oder Schriftzug als Tageslicht oder Standlicht in den Scheinwerfern von Kraftfahrzeugen wie z.B.: PKW, LKW oder Motorrädern. (wie z.B.: Fig. 1-5)Anbringen von jegliche Logo, Emblem oder Schriftzug als Rücklicht oder B |
US9722213B2 (en) * | 2012-03-27 | 2017-08-01 | Pioneer Corporation | Method for manufacturing electronic device |
CA2887352A1 (en) | 2012-05-09 | 2013-11-14 | Sio2 Medical Products, Inc. | Saccharide protective coating for pharmaceutical package |
CN104854257B (zh) | 2012-11-01 | 2018-04-13 | Sio2医药产品公司 | 涂层检查方法 |
US9903782B2 (en) | 2012-11-16 | 2018-02-27 | Sio2 Medical Products, Inc. | Method and apparatus for detecting rapid barrier coating integrity characteristics |
US9764093B2 (en) | 2012-11-30 | 2017-09-19 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of PECVD deposition |
WO2014085348A2 (en) | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Sio2 Medical Products, Inc. | Controlling the uniformity of pecvd deposition on medical syringes, cartridges, and the like |
EP2961858B1 (en) | 2013-03-01 | 2022-09-07 | Si02 Medical Products, Inc. | Coated syringe. |
WO2014164928A1 (en) | 2013-03-11 | 2014-10-09 | Sio2 Medical Products, Inc. | Coated packaging |
US9937099B2 (en) | 2013-03-11 | 2018-04-10 | Sio2 Medical Products, Inc. | Trilayer coated pharmaceutical packaging with low oxygen transmission rate |
US20160017490A1 (en) | 2013-03-15 | 2016-01-21 | Sio2 Medical Products, Inc. | Coating method |
CA2924714C (en) * | 2013-09-19 | 2024-04-09 | Allovate, Llc | Toothpaste for delivering allergens to oral mucosa |
EP3693493A1 (en) | 2014-03-28 | 2020-08-12 | SiO2 Medical Products, Inc. | Antistatic coatings for plastic vessels |
JP6650440B2 (ja) * | 2015-04-20 | 2020-02-19 | シャープ株式会社 | 成膜方法 |
WO2017004576A1 (en) | 2015-07-02 | 2017-01-05 | The Board Of Trustees Of The University Of Illinois | Wireless optofluidic systems for programmable in vivo pharmacology and optogenetics |
CA3204930A1 (en) | 2015-08-18 | 2017-02-23 | Sio2 Medical Products, Inc. | Pharmaceutical and other packaging with low oxygen transmission rate |
CN105645350A (zh) * | 2016-03-03 | 2016-06-08 | 上海大学 | 一种微纳结构的制作装置及方法 |
DE102018110954A1 (de) * | 2018-05-07 | 2019-11-07 | Optics Balzers Ag | Lift-Off Verfahren mittels Jetten |
EP3908863A4 (en) | 2019-03-24 | 2022-09-14 | Spectralics Ltd. | MULTIPLE Scattering Synthesis Methods |
DE102019113054A1 (de) * | 2019-05-17 | 2020-11-19 | HELLA GmbH & Co. KGaA | Verfahren zur Herstellung eines Blendenarrays für ein Mikrolinsenarray |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5140770A (ja) * | 1974-07-30 | 1976-04-05 | Philips Nv | Hakusokoseihoho |
JPS59174804A (ja) * | 1983-03-24 | 1984-10-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 回折格子の作製方法 |
JPS63159807A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-02 | Seikosha Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
JPH02132444A (ja) * | 1988-05-27 | 1990-05-21 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置及び塗布方法 |
JPH08220325A (ja) * | 1995-02-09 | 1996-08-30 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルターの製造方法 |
JPH0954212A (ja) * | 1995-08-11 | 1997-02-25 | Sharp Corp | 位相差フィルム及びその製造方法、並びに液晶表示素子 |
JPH11133226A (ja) * | 1997-10-30 | 1999-05-21 | Hitachi Powdered Metals Co Ltd | カラーフィルターのブラックマトリックス形成用塗料および遮光膜パターンの形成方法 |
JP2000188251A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置及び成膜方法 |
JP2001312067A (ja) * | 2000-04-27 | 2001-11-09 | Mitsubishi Electric Corp | ブラックマトリクスの形成方法およびこれを用いたカラー陰極線管 |
JP2002504699A (ja) * | 1998-02-20 | 2002-02-12 | ユナキス・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト | 干渉カラーフィルターのパターンを作成する方法 |
WO2002095489A1 (en) * | 2001-05-23 | 2002-11-28 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Liquid crystal picture screen with collimator |
JP2004167326A (ja) * | 2002-11-18 | 2004-06-17 | Seiko Epson Corp | 機能液供給装置およびこれを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1796202A1 (de) * | 1968-09-19 | 1972-03-09 | Siemens Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Spannen und Haltern duenner Metallfolien |
US4119483A (en) | 1974-07-30 | 1978-10-10 | U.S. Philips Corporation | Method of structuring thin layers |
CH601491A5 (ja) * | 1976-05-18 | 1978-07-14 | Balzers Patent Beteilig Ag | |
JPS55134931A (en) | 1979-04-10 | 1980-10-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method of forming fine electrode of electronic part |
EP0037529A1 (de) * | 1980-04-03 | 1981-10-14 | Agfa-Gevaert AG | Verfahren zur Herstellung eines Fotoempfängers mit einem multichroitischen Farbstreifenfilter |
FR2513661B1 (fr) * | 1981-09-30 | 1985-12-06 | Roger Tueta | Installation pour le depot de couches sous vide a travers des masques, munie d'un dispositif permettant de changer de masque |
DE3231735C2 (de) * | 1982-08-26 | 1986-05-28 | SEMIKRON Gesellschaft für Gleichrichterbau u. Elektronik mbH, 8500 Nürnberg | Verfahren zum Haltern und Metallisieren eines Substrats und ihre Verwendung |
US5156720A (en) * | 1989-02-02 | 1992-10-20 | Alcan International Limited | Process for producing released vapor deposited films and product produced thereby |
US5120622A (en) * | 1990-02-05 | 1992-06-09 | Eastman Kodak Company | Lift-off process for patterning dichroic filters |
US5260094A (en) * | 1991-09-30 | 1993-11-09 | Cornell Research Foundation, Inc. | Preparing densified low porosity titania sol-gel forms |
DE19531590C2 (de) * | 1995-08-28 | 1999-03-18 | Borsi Kg F | Verwendung einer auf einer transparenten Trägerplatte vorhandenen Schutzfolie aus Kunststoff als Abdeckfolie |
US5711889A (en) * | 1995-09-15 | 1998-01-27 | Buchsbaum; Philip E. | Method for making dichroic filter array |
DE29614692U1 (de) | 1996-04-30 | 1996-10-24 | Balzers Prozess Systeme Vertri | Farbrad und Bilderzeugungsvorrichtung mit einem Farbrad |
US5981112A (en) * | 1997-01-24 | 1999-11-09 | Eastman Kodak Company | Method of making color filter arrays |
DE29707686U1 (de) * | 1997-04-28 | 1997-06-26 | Balzers Prozess Systeme Vertri | Magnethalterung für Folienmasken |
EP1057049B1 (en) | 1998-02-18 | 2008-10-01 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Optical film |
WO1999054786A1 (en) * | 1998-04-21 | 1999-10-28 | President And Fellows Of Harvard College | Elastomeric mask and use in fabrication of devices, inlcuding pixelated electroluminescent displays |
US7282240B1 (en) * | 1998-04-21 | 2007-10-16 | President And Fellows Of Harvard College | Elastomeric mask and use in fabrication of devices |
US6849308B1 (en) * | 1999-05-27 | 2005-02-01 | Stuart Speakman | Method of forming a masking pattern on a surface |
US6638668B2 (en) * | 2000-05-12 | 2003-10-28 | Ocean Optics, Inc. | Method for making monolithic patterned dichroic filter detector arrays for spectroscopic imaging |
JP2002075638A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-15 | Nec Corp | マスク蒸着方法及び蒸着装置 |
JP2003057424A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-26 | Seiko Epson Corp | 分光装置、その製造方法、その使用方法、並びにそれを備えたカラー表示装置 |
US6756186B2 (en) * | 2002-03-22 | 2004-06-29 | Lumileds Lighting U.S., Llc | Producing self-aligned and self-exposed photoresist patterns on light emitting devices |
US7067241B2 (en) * | 2002-05-08 | 2006-06-27 | Unaxis Balzers Aktiengesellschaft | Method for producing a unit having a three-dimensional surface patterning, and use of this method |
JP3742366B2 (ja) * | 2002-07-26 | 2006-02-01 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | カラーホイールの形成方法 |
US6844121B2 (en) * | 2002-12-27 | 2005-01-18 | Premier Image Technology | Method of manufacturing color filter |
TW574592B (en) * | 2003-01-29 | 2004-02-01 | Asia Optical Co Inc | Multi-color film-plating process of a single piece type filter and color rotation wheel set equipped with the filter |
JP3966294B2 (ja) * | 2003-03-11 | 2007-08-29 | セイコーエプソン株式会社 | パターンの形成方法及びデバイスの製造方法 |
US20050181128A1 (en) * | 2004-02-12 | 2005-08-18 | Nikolov Anguel N. | Films for optical use and methods of making such films |
-
2004
- 2004-07-15 DE DE102004034418A patent/DE102004034418B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-06-27 EP EP20050013794 patent/EP1724616B1/de not_active Not-in-force
- 2005-07-15 CN CN2005100846158A patent/CN1721889B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-07-15 US US11/182,444 patent/US7704683B2/en active Active
- 2005-07-15 JP JP2005207119A patent/JP4738079B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5140770A (ja) * | 1974-07-30 | 1976-04-05 | Philips Nv | Hakusokoseihoho |
JPS59174804A (ja) * | 1983-03-24 | 1984-10-03 | Dainippon Printing Co Ltd | 回折格子の作製方法 |
JPS63159807A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-02 | Seikosha Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
JPH02132444A (ja) * | 1988-05-27 | 1990-05-21 | Tokyo Electron Ltd | 塗布装置及び塗布方法 |
JPH08220325A (ja) * | 1995-02-09 | 1996-08-30 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルターの製造方法 |
JPH0954212A (ja) * | 1995-08-11 | 1997-02-25 | Sharp Corp | 位相差フィルム及びその製造方法、並びに液晶表示素子 |
JPH11133226A (ja) * | 1997-10-30 | 1999-05-21 | Hitachi Powdered Metals Co Ltd | カラーフィルターのブラックマトリックス形成用塗料および遮光膜パターンの形成方法 |
JP2002504699A (ja) * | 1998-02-20 | 2002-02-12 | ユナキス・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト | 干渉カラーフィルターのパターンを作成する方法 |
JP2000188251A (ja) * | 1998-12-22 | 2000-07-04 | Tokyo Electron Ltd | 成膜装置及び成膜方法 |
JP2001312067A (ja) * | 2000-04-27 | 2001-11-09 | Mitsubishi Electric Corp | ブラックマトリクスの形成方法およびこれを用いたカラー陰極線管 |
WO2002095489A1 (en) * | 2001-05-23 | 2002-11-28 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Liquid crystal picture screen with collimator |
JP2004527009A (ja) * | 2001-05-23 | 2004-09-02 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | コリメータを備える液晶画像スクリーン |
JP2004167326A (ja) * | 2002-11-18 | 2004-06-17 | Seiko Epson Corp | 機能液供給装置およびこれを備えた液滴吐出装置、並びに電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010510874A (ja) * | 2006-11-23 | 2010-04-08 | ネーデルランデ オルガニサティー ヴール トゥーヘパストナツールウェテンスハペライク オンデルズーク テーエヌオー | 部分的にコーティングされた製品の製造方法および装置 |
US9242412B2 (en) | 2006-11-23 | 2016-01-26 | Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno | Method and apparatus for making partially coated products |
JP2010541000A (ja) * | 2007-09-26 | 2010-12-24 | イーストマン コダック カンパニー | カラーフィルターアレイの製造方法 |
US10928570B2 (en) | 2012-12-19 | 2021-02-23 | Viavi Solutions Inc. | Metal-dielectric optical filter, sensor device, and fabrication method |
US11782199B2 (en) | 2012-12-19 | 2023-10-10 | Viavi Solutions Inc. | Metal-dielectric optical filter, sensor device, and fabrication method |
KR20170020886A (ko) * | 2014-06-18 | 2017-02-24 | 비아비 솔루션즈 아이엔씨. | 금속-유전체 광학 필터, 센서 디바이스, 및 제조 방법 |
KR102240253B1 (ko) * | 2014-06-18 | 2021-04-13 | 비아비 솔루션즈 아이엔씨. | 금속-유전체 광학 필터, 센서 디바이스, 및 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1724616A2 (de) | 2006-11-22 |
CN1721889A (zh) | 2006-01-18 |
DE102004034418B4 (de) | 2009-06-25 |
JP4738079B2 (ja) | 2011-08-03 |
EP1724616A3 (de) | 2007-12-26 |
DE102004034418A1 (de) | 2006-02-16 |
US7704683B2 (en) | 2010-04-27 |
EP1724616B1 (de) | 2015-04-22 |
CN1721889B (zh) | 2011-06-08 |
US20060014087A1 (en) | 2006-01-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4738079B2 (ja) | パターン付き光学フィルタ層を基板上に作製する方法 | |
JP4520334B2 (ja) | 湾曲表面を有する被覆基材を作成する方法 | |
JP2947799B2 (ja) | 型およびその製造方法 | |
US20060127813A1 (en) | Pattern forming method and method of manufacturing ink jet recording head | |
US20140287266A1 (en) | Pattern forming method and manufacturing method of magnetic recording medium | |
KR20120019369A (ko) | 샌드블라스팅에 의한 절삭 방법 | |
JPH0562404A (ja) | 磁気ヘツド用スライダーの製造方法 | |
US20080248267A1 (en) | Building Up Diffractive Optics by Structured Glass Coating | |
US20210191338A1 (en) | Method of fabricating a timepiece component and component obtained from this method | |
KR20090019200A (ko) | 임프린트용 마스터와 그 제조방법 및 그 마스터를 이용한임프린트 방법 | |
US5983486A (en) | Process for producing ink jet head | |
JP2006259325A (ja) | ホログラフィックグレーティング製造方法 | |
US20090155732A1 (en) | Method for Patterning Using Phase-Change Material | |
US5806951A (en) | Multi-substrate gobo | |
SE509429C2 (sv) | Gobo samt förfarande för framställning av gobo | |
JPS59126506A (ja) | カラ−フイルタ− | |
KR20080028305A (ko) | 포토마스크 블랭크, 포토마스크 블랭크의 제조 방법,포토마스크, 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크 중간체및 패턴의 전사 방법 | |
JP2008207374A (ja) | 樹脂モールドおよび樹脂モールドを利用した印刷版の製造方法 | |
US20080160457A1 (en) | Apparatus and method for reducing defects | |
CN106019807A (zh) | 光掩模的制造方法、光掩模及平板显示器的制造方法 | |
KR101211735B1 (ko) | 액정표시장치용 고정세 인쇄판 및 그의 제조 방법 | |
JP2007101979A (ja) | 微細構造の製造方法、微細構造成型用金型の製造方法、微細構造を有する光学素子の製造方法、微細構造を有する光学素子及び光学機器 | |
JP2019525481A5 (ja) | ||
JP2612623B2 (ja) | レジストパターン付基材の表面処理方法 | |
JPH08248220A (ja) | カラーフィルターおよびその製造方法ならびに液晶パネル |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081001 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20081226 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090122 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090803 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20091102 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20091106 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091203 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100908 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110107 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20110118 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110404 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110426 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4738079 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |