JPH0954212A - 位相差フィルム及びその製造方法、並びに液晶表示素子 - Google Patents

位相差フィルム及びその製造方法、並びに液晶表示素子

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JPH0954212A
JPH0954212A JP7206361A JP20636195A JPH0954212A JP H0954212 A JPH0954212 A JP H0954212A JP 7206361 A JP7206361 A JP 7206361A JP 20636195 A JP20636195 A JP 20636195A JP H0954212 A JPH0954212 A JP H0954212A
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film
retardation film
retardation
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憲治 西口
Makoto Shiomi
誠 塩見
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 場所によってリタデーション量の異なる構造
の位相差フイルムを簡単に作製する。 【解決手段】 色調を制御する位相差フィルム１００
を、その場所によってリタデーション量が異なるよう、
その厚さが厚い部分１０１と、その厚さが薄い部分１０
２とを有する構造とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、位相差フィルム及
びその製造方法、並びに液晶表示素子に関し、特に、リ
タデーション量が場所によって異なる構造の位相差フィ
ルム、及びこのような構造の位相差フィルムを作製する
方法に関するものであり、さらには該構造の位相差フィ
ルム、あるいはリタデーション量が場所によって異なる
構造を有する基板を用いた液晶表示素子に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来から、一対の基板間に光学的に等方
性状態である高分子と、光学的に異方性を有する液晶分
子とを挟持した構造を有する液晶表示素子は、パソコン
などの平面ディスプレイ装置、液晶テレビ、携帯ディス
プレイにおいて利用されており、本発明の位相差フィル
ムは、これらのディスプレイ装置における位相差フィル
ムに利用できるものである。
【０００３】ところで、位相差フィルムの作製は、従来
は、高分子フィルムを一定の方向に延伸することにより
行っており、この延伸処理により、高分子の主鎖を一定
方向に揃えて、高分子フイルムに屈折率異方性を発生さ
せ、該位相差フィルムの透過光の常光と異常光との間で
位相差が生じるようにしている。
【０００４】また、従来から、有機分子を用いて液晶分
子のティルト角を制御する方法があり、応用物理 62 10
(1993) には、フォトクロミック分子の光異性化反応を
用いる方法が報告されている。
【０００５】この方法の原理は、基板表面に結合させた
ある種のフォトクロミック分子に直線偏光照射を行う
と、このフォトクロミック分子に、トランス体からシス
体への構造異性化が起こり、該フォトクロミック分子が
被覆された基板表面に液晶材料層を配置すると、フォト
クロミック分子の構造変化に伴って、液晶材料の基板に
対するティルト角を変化させることができるというもの
である。
【０００６】ここで、有機分子のパターニングには、例
えば、スクリーン印刷法により重合性樹脂を基板上に塗
布する方法や、レジストなどパターニングが可能な重合
性樹脂を基板上に塗布し、これをマスク等を用いて露光
することにより所要のパターンの有機分子膜を得る方法
等が用いられている。
【０００７】また、液晶表示素子において、パネルの強
度を向上するための技術として、絵素ごとに配置された
液晶部分の周囲に、機械的な外力に対する補強部材とし
て高分子壁等を配置する構造が提案されている。
【０００８】例えば、特開昭５６−９９３８４号公報に
は、液晶表示部の、絵素外の領域に、レジストからなる
柱状高分子部材を配置し、これをスペーサーとした構造
の液晶表示素子が開示されている。
【０００９】また、特開昭５９−２０１０２１号公報に
は、上記公報に記載のものと同様、液晶表示部の、絵素
外の領域に、感光性樹脂などからなる壁状部材をストラ
イプ状に配置し、該壁状部材をスペーサとして用いた構
造の液晶表示素子が開示されている。
【００１０】さらに、特開平６−３０１０１５号公報に
は、本件出願人の先願に係る液晶表示素子が開示されて
おり、この液晶表示素子は、重合性液晶材料の液晶と重
合性樹脂への相分離を利用して形成した補強部を有して
おり、該相分離した高分子部分が絵素の周囲を取り囲ん
で壁（補強部）となり、該壁に囲まれた領域の内部に液
晶部分が位置する構造となっている。
【００１１】さらに、本件発明者は、特願平６−３２２
７２５号に係る発明として、液晶パネルを構成する基板
表面に、有機低分子薄膜のパ夕ーニングにより、光重合
性樹脂あるいは液晶材料に対する濡れ性の異なる領域を
選択的に形成し、これにより重合性液晶材料の液晶と光
重合性樹脂とへの相分離を促進し、表示特性の優れた液
晶表示素子を得る技術を提案している。
【００１２】また、ここでは、有機低分子薄膜のパター
ニング法の１つとして、チオール化合物と金原子の間に
みられるような、ある種の有機分子と金属などの間に働
く特異的な結合力を利用して、基板表面にパターニング
された金属原子薄膜上にのみ有機分子薄膜を形成する方
法が提案されている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】以下上述した従来の位
相差フィルムの作製方法等における問題点について説明
する。
【００１４】従来の延伸による位相差フイルムの作製方
法では、高分子フィルムを一様に一定方向に延伸して、
高分子フイルムに屈折率異方性を持たせているため、一
枚の位相差フィルムの面内において、場所によって適宜
リタデーション量を変えることは非常に困難であるとい
う問題がある。
【００１５】また、液晶分子のティルト角を基板表面に
形成されたフォトクロミック分子により制御する方法で
は、位相差フイルムの面内で場所によって重合性液晶分
子のティルト角を異ならせるためにフォトクロミック分
子の構造を異性化するには、照射する直線偏光を、位相
差フイルムの作製用基板面内において照射強度分布を有
するものとしなければならない。
【００１６】この様な照度分布を発生させるよう偏光板
のパターニングを行うことは非常に困難である。また、
重合性液晶分子を重合反応が誘起される光の波長とフォ
トクロミック分子の構造異性化を誘起する光の波長と
は、同じか非常に近接したものとなっているので、これ
ら２種類の反応を別個に行うことは難しく、重合性液晶
分子のティルト角を異ならせた状態で重合させることは
実質的に不可能である。ところで、高分子の柱等の補強
部材が液晶パネルを構成する基板間に存在する液晶表示
素子においては、高分子にレジストや光重合性樹脂を用
いた場合、形成された高分子の柱または壁部は、液晶と
同等の光学的性質を持ち得ないため、液晶表示素子に光
が入射した場合、液晶部分を透過してくる光の色調と高
分子部分を透過してくる光の色調が異なる現象が起こ
る。このため、液晶表示素子全体の色調を制御すること
が非常に困難となっている。
【００１７】この現象は、高分子部分は光学的には等方
性状態を示しているため、液晶パネルの両側に配置する
偏光板や位相差フィルムによって発生する色調がそのま
ま高分子部分の色調となって起こるもので、パネルの色
調を制御することを困難なものとしている。また、この
ような偏光板等に起因する着色によってパネル全体が暗
くなるという問題もあった。
【００１８】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、場所によってリタデーション量
を異ならせることを簡単に行うことができる構造の位相
差フイルム及びその製造方法を得ることを目的とする。
【００１９】この発明は、表示パネルにおける光学的性
質が異なる高分子部分と液晶部分とで色調が異なる現象
を回避することができ、これにより表示パネル全体の色
調を簡単に制御することができる液晶表示素子を得るこ
とを目的とする。
【００２０】
【課題を解決するための手段】この発明（請求項１）に
係る位相差フイルムは、重合性液晶材料からなる位相差
フィルムであって、第１の平面パターンを有する第１の
領域と、第２の平面パターンを有し、該第１の領域とは
その厚さが異なる第２の領域とを有している。そのこと
により上記目的が達成される。
【００２１】この発明（請求項２）に係る位相差フイル
ムの製造方法は、相対向するよう配置された一対の基板
間に重合性液晶材料を充填し、該両基板間で該重合性液
晶材料を重合させて位相差フィルムを製造する方法であ
る。この方法では、該一対の基板の少なくとも一方とし
て、該充填された重合性液晶材料と接する面に形成され
た、所定の平面パターンに対応した凹部あるいは凸部を
有するものを用いている。そのことにより上記目的が達
成される。
【００２２】この発明（請求項３）は、請求項２記載の
位相差フイルムの製造方法において、液体レジスト材料
を用いて、前記一対の基板の少なくとも一方の重合性液
晶材料と接する面に所定の平面パターンに対応した凹部
あるいは凸部を形成するものである。
【００２３】この発明（請求項４）は、請求項２記載の
位相差フイルムの製造方法において、ホトリソグラフィ
ー技術によりパターニング可能なドライフィルムを用い
て、前記一対の基板の少なくとも一方の重合性液晶材料
と接する面に所定の平面パターンに対応した凹部あるい
は凸部を形成するものである。
【００２４】この発明（請求項５）に係る位相差フイル
ムは、重合性液晶材料からなる位相差フィルムであっ
て、第１の平面パターンを有する第１の領域と、第２の
平面パターンを有し、該重合性液晶材料の液晶分子のテ
ィルト角が該第１の領域とは異なる第２の領域とを有し
ている。そのことにより上記目的が達成される。
【００２５】この発明（請求項６）は、請求項１または
５記載の位相差フイルムにおいて、前記第１の領域と第
２の領域とのリタデーション量の差を、ほぼ９０ｎｍ〜
８００ｎｍとしたものである。
【００２６】この発明（請求項７）に係る位相差フイル
ムの製造方法は、相対向するよう配置された一対の基板
間に重合性液晶材料を充填し、該両基板間で該重合性液
晶材料を重合させて位相差フィルムを製造する方法であ
る。この方法では、該一対の基板として、該充填された
重合性液晶材料と接する面に選択的に形成された、シラ
ンカップリング剤からなる薄膜、またはチオール基ある
いはジスルフィド結合を有する有機分子からなる薄膜を
有するものを用い、該両基板の、該薄膜形成部と該薄膜
非形成部とで該重合性液晶材料の液晶分子のティルト角
を異ならせている。そのことにより上記目的が達成され
る。
【００２７】この発明（請求項８）に係る液晶表示素子
は、液晶表示部を構成する対向配置された一対の基板
と、該両基板間に液晶とともに配置され、該液晶表示部
に印加される機械的な外力に対する、透光性高分子材料
からなる補強部材と、両基板の少なくとも一方に沿って
配置された、重合性液晶材料により構成された位相差フ
ィルムとを備えている。そして、該位相差フィルムは、
該両基板間の液晶に対応する部分と、該補強部材に対応
する部分とでリタデーション量が異なるよう構成されて
いる。そのことにより上記目的が達成される。
【００２８】この発明（請求項９）は、請求項８記載の
液晶表示素子において、前記位相差フィルムを、該両基
板間の液晶に対応する部分と、該補強部材に対応する部
分とで、その厚さあるいはその重合性液晶材料の液晶分
子のティルト角が異なる構造としている。
【００２９】この発明（請求項１０）は、請求項９記載
の液晶表示素子において、前記位相差フイルムを、前記
一対の基板間に配置したものである。
【００３０】この発明（請求項１１）に係る液晶表示素
子は、液晶表示部を構成する対向配置された一対の基板
と、該両基板間に液晶とともに配置され、該液晶表示部
に印加される機械的な外力に対する、透光性高分子材料
からなる補強部材とを備えている。そして、該両基板の
うち少なくとも一方の基板は、該両基板間の液晶に対応
する部分と、該補強部材に対応する部分とでリタデーシ
ョン量が異なるよう構成されている。そのことにより上
記目的が達成される。
【００３１】この発明（請求項１２）は、請求項１１記
載の液晶表示素子において、前記両基板のうち少なくと
も一方の基板を重合性液晶層を有する構造とし、かつ、
該重合性液晶層を、該両基板間の液晶に対応する部分
と、前記補強部材に対応する部分とでその厚さあるいは
その重合性液晶材料の液晶分子のチルト角が異なってい
る構造としたものである。
【００３２】以下作用について説明する。
【００３３】本発明（請求項１）においては、色調を制
御する位相差フィルム内の所要の位置に、凹凸を設ける
ことでフィルムの厚さを異ならせている。このことによ
り、凹部と凸部において、位相差フィルムのリタデーシ
ョン量を異ならせることができる。これにより、場所に
よってリタデーション量の異なる構造の位相差フイルム
を簡単に作製することができる。
【００３４】本発明（請求項２）においては、その間に
重合性液晶材料が充填される一対の位相差フイルム作製
用基板として、その液晶材料と接する面に、凹凸構造を
形成したものを用いるので、該基板間に重合性液晶材料
を充填した状態でこれを重合することにより、場所によ
って厚さの異なる位相差フィルムを簡単に形成すること
ができる。
【００３５】本発明（請求項３）においては、基板上に
凹凸部分を形成するために液体レジストを用いるので、
塗布，露光，現像処理により基板上に容易に凹凸部分を
形成することができる。
【００３６】本発明（請求項４）においては、基板上に
凹凸部分を形成するためにドライフィルムを用いるの
で、基板（プラスチックフィルム）に対し連続的に上記
ドライフィルムを貼着することができ、効率的に基板上
に凹凸部分を形成することが可能となる。
【００３７】本発明（請求項５）においては、色調を制
御する位相差フィルムを、これを構成する光重合性液晶
分子のティルト角が場所によって異なる構造としている
ので、常光線と異常光線との間に生じるリタデーション
量が異なる領域が発生することとなる。
【００３８】本発明（請求項６）においては、位相差フ
イルムにおける第１の領域と第２の領域との間に生じる
リタデーション量の差がほぼ９０ｎｍ〜８００ｎｍであ
るので、可視光線の色調を補正することができる。
【００３９】本発明（請求項７）においては、その間に
重合性液晶材料が充填される一対の位相差フイルム作製
用基板として、その液晶材料と接する面に有機分子膜を
選択的に形成したものを用いているので、該基板の、該
有機分子膜の形成部と非形成部で該液晶分子のティルト
角を異ならせることができる。
【００４０】また、本発明（請求項８，９）において
は、位相差フイルムを、表示パネルにおける高分子部分
と液晶部分とに対応する領域で、リタデーション量を異
ならせた構造としているので、表示パネルの液晶部分と
高分子部分との色調を別々に制御することができ、これ
により、表示パネル全体の色調を簡単に制御することが
できる。
【００４１】本発明（請求項１０）においては、位相差
フィルムを該一対の基板間に配置しているので、該少な
くとも一方の基板外に位相差フィルムを配置したときに
生ずる視差を低減させることができる。
【００４２】本発明（請求項１１）においては、表示パ
ネルを構成する一対の基板の少なくとも一方の基板を、
液晶に対応する部分と高分子部に対応する部分とで、リ
タデーション量が異なる構造としているので、該基板に
より該液晶部と該高分子部の色調補償を行うことができ
る。
【００４３】本発明（請求項１２）においては、該両基
板の少なくとも一方の基板を、重合性液晶層により、該
両基板間の液晶に対応する部分と、該補強部材に対応す
る部分とでリタデーション量を異ならせた構造としてい
るので、該基板内に容易にリタデーション量の異なる領
域を発生させることができる。
【００４４】
【発明の実施の形態】まず、本発明の基本原理及び実施
の形態の説明で用いる用語について簡単に説明する。
【００４５】（１）位相差フィルムのリタデーション量 屈折率の異なる媒体中を光が進むと、両者の間で光の速
度に差が生じ、位相差を生じることになる。具体的に
は、屈折率ｎ１とｎ２の物質中を波長λの光が厚みｄだ
け進行した時点での２つの光線の間に生じる位相差θは θ＝２π・（ｎ１−ｎ２）・ｄ／λ ただし、ｎ１＞ｎ２ で表される。
【００４６】ここで、液晶分子のように複屈折性を有す
る媒体中を様々な波長を有する光が進むときには、位相
差の程度をリタデーション量Ｒによって表し、 Ｒ＝（ｎ１−ｎ２）・ｄ （ただし、ｎ１は常光屈折率、ｎ２は異常光屈折率）で
表される。
【００４７】本発明においては、位相差フイルムの表面
に凹凸部を設けることで、ｄの値を凹部と凸部で異なら
せ、リタデーション量を異ならせるものである。
【００４８】また、一軸方向に配向した液晶分子のティ
ルト角に基づくリタデーション量Ｒは、液晶分子のティ
ルト角をφとすると、 Ｒ＝（ｎ１−ｎ２）・ｄ・ｃｏｓ2φ （ただし、ｎ１は常光屈折率、ｎ２は異常光屈折率）で
表される。
【００４９】本発明は、位相差フィルムにおいて、この
液晶分子のティルト角の違う領域を任意の位置に選択的
に形成することで、該フィルムの場所によってリタデー
ション量を異ならせるものである。
【００５０】（２）重合性液晶材料 本発明で用いる重合性液晶材料は下記化学式１で示され
る化合物が挙げられる。
【００５１】 Ａ−Ｂ−ＬＣ1または、Ａ−Ｂ−ＬＣ2−Ｂ’−Ａ’ …（化学式１） 該化学式１中のＡ、Ａ’は重合性官能基を示し、ＣＨ＝
ＣＨ−、ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、ＣＨ＝ＣＣＨ3−ＣＯ
Ｏ−、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏなどの不飽和結合、または、エポキ
シ基などのへテロ環構造を持った官能基である。
【００５２】また、Ｂ，Ｂ’は重合性官能基と液晶性化
合物を結合させる連結基であり、具体的には、メチレン
鎖、エステル基、エーテル基及びこれらを組み合わせた
ものである。
【００５３】さらに、ＬＣ1，ＬＣ2は液晶性化合物を示
し、フェニル基、シクロヘキシル基、ビフェニル基、シ
クロヘキシルフェニル基などを、−ＣＨ2−ＣＨ2−、−
ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−などの連結基で
複数結合している分子などが利用できる。
【００５４】（３）有機分子による液晶分子のティルト
角制御法 基板表面に結合させた有機分子による液晶分子のティル
ト角制御では、有機分子としておもに、光照射により構
造異性化を起こすような分子を用いている。具体的に
は、このような分子には、アゾベンゼン骨格を有する化
合物やスチルベン、α−ヒドラゾノーβ−ケトエステル
などがあり、直線偏光を照射することにより、光幾何異
性化反応を起こし、棒状のトランス体からＶ字型に屈曲
したシス体への構造異性体間の可逆的な変化を生ずると
いう共通点を有している。
【００５５】また、アゾベンゼン等に対する置換基、ス
ペーサー長、シリル結合様式によって、液晶の基板に対
するティルト角が変化することが報告されている。一般
的にパラ位を長鎖アルキル基で置換するとティルト角が
大きくなり、クロロ、メトキシ、シアノ基を用いるとテ
ィルト角が小さくなる傾向がある。この様に、基板表面
に結合した分子の構造により、液晶分子のティルト角が
影響を受けることから、これら有機分子膜を、液晶と接
する基板表面に選択的に形成させることによって、有機
分子膜形成部の重合性液晶分子のティルト角を変化させ
ることができる。
【００５６】（４）シランカップリング剤による有機分
子膜形成法 ガラス表面やＳｉＯ2、ＩＴＯ膜表面など金属酸化物を
有する基板表面と反応して、その表面修飾を行うために
用いられる。
【００５７】以下に示す実施の形態では、有機分子膜の
作製は以下のような条件にて行う。
【００５８】１．シランカップリング剤の濃度を０．１
ｗｔ％〜１０ｗｔ％、さらに好ましくは、０．５ｗｔ％
〜６ｗｔ％とする。
【００５９】２．シランカップリング剤の溶媒として、
エタノール、クロロホルム、へキサンをはじめとし、シ
ランカップリング剤を溶解することのできる溶媒を用い
る。
【００６０】３．有機分子膜の形成時の処理温度を、０
℃〜６０℃、好ましくは４℃〜２５℃とする。
【００６１】４．有機分子膜の形成時の反応時間を、３
０分間〜４８時間、好ましくは１時間〜２４時間とす
る。さらに必要であれば、用いた溶媒などにより基板を
洗浄してもよい。この操作により、未反応のシランカッ
プリング剤を取り除くことができる。
【００６２】（５）セルフアセンブリによるチオール
基、ジスルフィド結合を有する化合物の有機分子膜形成
法 チオール基やジスルフィド基など硫黄原子を含む有機化
合物は、Ａｕ原子などとの間で、特異的に結合する現象
が観察されている。この現象をセルフアセンブリとい
う。本発明では、この特異的結合を利用して、パターニ
ングされたＡｕ原子薄膜上に有機分子膜を形成してい
る。
【００６３】まず、Ａｕ原子薄膜はスパッタ法等により
Ａｕ原子を基板に蒸着させて形成する。その膜厚は、薄
膜を形成しようとする領域を一様に覆っていればよい。
必要であれば、Ａｕ薄膜の基板に対する密着性を上げる
ためにクロムなどの金属蒸着膜をＡｕ薄膜を形成する前
に作製してもよい。
【００６４】次に、硫黄原子を含む有機化合物を無水エ
タノールなどの溶媒に溶解し、下記に示すような濃度に
調整する。このとき溶媒は、上記化合物が酸化されて二
量体を形成しないようなものであれば、無水エタノール
以外のものであってもよい。この溶液中に、Ａｕ薄膜を
形成した基板を浸漬し、硫黄原子を含む有機化合物を、
セルフアセンブリにより基板表面のＡｕ蒸着膜領域に結
合させる。
【００６５】このときの詳細な条件については以下に示
す通りである。
【００６６】１．硫黄原子を含む化合物の濃度は、０．
ｌｗｔ％〜１０ｗｔ％、好ましくは、０．５ｗｔ％〜６
ｗｔ％とする。
【００６７】２．Ａｕ薄膜上への有機分子膜形成時の処
理温度を０℃〜４０℃、好ましくは、４℃〜１０℃とす
る。
【００６８】３．Ａｕ薄膜上への有機分子膜形成時の反
応時間を３０分問〜４８時間、好ましくは、１時間〜２
４時間とする。
【００６９】なお、反応終了後、必要であれば、用いた
溶媒により、基板を洗浄してもよい。この洗浄により、
基板表面に非特異吸着した有機分子膜を取り除くことが
できる。
【００７０】（６）リフトオフ法による蒸着膜のパター
ニング法 リフトオフ法は、通常のレジスト膜を用いたパターニン
グ法とは、レジストパターンの形成と材料蒸着膜堆積の
順序を逆にし、所定パターンを有するレジスト膜上に材
料蒸着膜を全面堆積し、次にレジスト膜を除去するよう
にすれば、レジスト膜と一緒にその上に堆積した材料蒸
着膜を除くことができることを応用している。リフトオ
フ法の原理は、レジスト膜上の材料の被覆状態が不完全
であり、レジスト膜の縁で材料蒸着膜に割れ目を利用す
ることにある。この材料蒸着膜の割れ目からレジスト剥
離液が侵入し、レジスト膜を膨潤、溶解させることがで
きる。このような材料蒸着膜に割れ目を作るためレジス
ト膜厚は、蒸着膜の厚さの２倍以上は必要とされてい
る。
【００７１】以下、本発明の実施の形態について説明す
る。なお、本発明は以下に述べる実施の形態に限定され
るものではない。
【００７２】（実施の形態１）実施の形態１は、本願の
請求項１〜４に係る発明に対応するものである。
【００７３】図１は本発明の実施の形態１による位相差
フィルムの構成を示す断面図である。図２は上記位相差
フイルムの製造方法を説明するための断面図である。
【００７４】図において、１００は位相差フイルムで、
第１の平面パターンを有する第１の領域（凹部）１０１
と、第２の平面パターンを有し、該第１の領域より厚い
第２の領域（凸部）１０２とを有している。
【００７５】このような構造の位相差フイルム１００で
は、その凹部１０１と、凸部１０２とでは、リタデーシ
ョン量が異なったものとなっている。
【００７６】次に、このような構成の位相差フィルムの
製造方法について、図２を用いて説明する。
【００７７】まず、該位相差フイルムを形成するための
一対の基板１１ａ，１１ｂに、例えば液体レジストを塗
布し、マスクなどを介して選択的な光の照射により露光
した後、現像処理を行って、所要のパターンを有するレ
ジスト膜１２ａ，１２ｂを形成する。ここで上記基板１
１ａ，１１ｂはガラス板等から構成されている。
【００７８】次に、このパターニングされたレジスト膜
１２ａ，１２ｂ上に配向膜１３ａ、１３ｂを形成し、該
配向膜にラビング布によりラビング処理を施す。このと
き、基板表面の、レジスト膜１２ａ，１２ｂが残ってい
る領域と、レジスト膜が取り去られた領域との間で段差
が生じているため、該配向膜１３ａ，１３ａの表面は、
この段差が反映された凹凸となっている。
【００７９】このような基板表面を凸凹形状にする加工
処理は、レジストなどの有機薄膜のパターニングによる
方法に限らず、ドライフィルムなどの感光性フィルム、
ＳｉＯ2 やＩＴＯ（酸化インジウムと酸化スズの混合
物）などの無機膜、さらにはＡｕ、Ａｌ、Ｍｏ、Ａｇ、
Ｃｕなどの金属膜をパターニングする方法によっても行
うことができる。ここで、上記ドライフィルムは、ロー
ル状に巻いた状態で保持されており、このため、これと
同様にロール状に巻いた状態で保持されているプラスチ
ックフィルムを基板材料として用いた場合、該ドライフ
ィルムとプラスチックフィルムとは、それぞれのロール
状体から引き出して連続的に貼合わせることができる。
なお、このようにして貼合わせたドライフィルムとプラ
スチックフィルムは、その後所定の寸法に加工されて位
相差フィルムの基板として用いられる。従って、上記基
板表面での凸凹部分の形成処理は、上記ドライフィルム
を用いることにより、所定寸法に加工した個々の基板上
に有機薄膜としてレジスト等をコーティングする方法に
比べて作業性よく行うことができる。
【００８０】また、フッ酸などを用いて、ガラス基板の
表面を選択的に腐蝕させたり、プラスティック基板を任
意の凹凸構造を有する金型により成形したりすることに
より、基板表面に凹凸構造を形成することができる。
【００８１】このように表面を加工した一対の基板を、
液晶の配向を一軸に揃える場合には各基板のラビングの
方向が一致するよう、また液晶分子をツイストさせる場
合には各基板のラビング方向が必要な角度をなすよう、
シール材１５を用いて貼り合わせて、位相差フイルム作
製用セル１１０を形成する。なお、必要に応じて、基板
を貼り合わせる前に、スペーサー１４を散布する。
【００８２】ここでは、一対の基板１１ａ、１１ｂの両
方とも、その表面を凹凸形状となるよう加工している
が、このような表面加工は、少なくとも一方の基板に対
して行えばよく、この場合には、表面を凹凸する加工を
施さない基板については、レジスト膜を形成する工程は
省略できる。
【００８３】この様にして得られた一対の基板１１ａ，
１１ｂの間隙に少なくとも光重合性液晶材料と光重合開
始剤を含む混合材料１８を注入する。
【００８４】上記重合性液晶材料としては、光照射によ
り重合反応が引き起されるような液晶材料であれば、ど
のようなものでも用いることができ、例えば、次式
（１）で示されるようなアクリル基が付加された液晶材
料が挙げられる。
【００８５】
【化１】
【００８６】重合性液晶材料としては、この様な性質を
有するものであれば、単独でも数種類を組み合わせて用
いてもよい。また、液晶分子をツイストさせる場合に必
要であれば、カイラル剤を用いてもよい。カイラル剤と
しては、例えば、Ｓ−８１１（メルク社製）などを用い
ることができる。さらに、光重合開始剤としてはＩｒｕ
ｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイギー社製）などを用いる
ことができる。また、注入孔は樹脂等で封止するが、紫
外線硬化樹脂を用いた場合は、重合性液晶材料が注入さ
れた領域に光が当たらないように紫外線を照射する必要
がある。また上記注入孔の封止樹脂として、その硬化処
理に紫外線照射の必要のない２液混合性硬化樹脂や空気
と接触することで硬化する瞬間接着剤を用いることは有
効である。
【００８７】次に、上記セル１１０の外部から紫外線な
どの光を照射し、重合性液晶材料を硬化させる。このよ
うにして作製した位相差フィルム１００は、基板間に挟
まれた状態でも用いることができ、また、必要に応じ
て、シール材１５を剥がし、一対の基板間から、位相差
フィルム１００だけを取り出して用いることもできる。
【００８８】（実施例１）以下、本実施の形態１の位相
差フィルムの具体的な構成の一例を実施例１として説明
する。本実施例１では、基板表面に凹凸構造を形成する
ためにレジスト膜を用いた場合について述べる。
【００８９】上記基板１１ａ、１１ｂとして、例えば、
７０５９ガラス（コーニング社製）を用い、基板１１
ａ、１１ｂ上にポジ型フォトレジスト（ＯＦＰＲ−８０
０：東京応化社製）を１μｍの膜厚で塗布した後、フォ
トリソ工程によりそのパターン化を行い、レジスト膜１
２ａ，１２ｂが土手状となって残るよう加工する。次
に、このレジスト膜１２ａ、１２ｂ上に、配向膜（Ｓ−
１５０：日産化学社製）１３ａ，１３ｂを５００オング
ストロームの厚さに形成し、該配向膜に対してナイロン
布によって一軸方向にラビングを行う。
【００９０】この様にして作製した両基板１１ａ，１１
ｂを、その凹凸構造の表面が対向し、両基板のラビング
方向が任意のツイスト角と一致するように配置し、さら
に、必要であれば、スペーサー１４の散布を行い、両基
板の端部をシール材１５により貼り合わせる。これによ
り位相差フイルム作製用セル１１０を形成する。
【００９１】このようにして形成した作製用セル１１０
の基板間隙に、上記（１）式に示す重合性液晶材料と、
重合開始剤（Ｉｒｕｇａｃｕｒｅ６５１：チバガイギー
社製）を注入し、紫外線の照射により重合性液晶材料を
硬化させて、位相差フイルムを作製する。
【００９２】このようにして、作製した位相差フィルム
１００の表面には、レジスト膜によりパターニングされ
た基板表面の凹凸構造のパターンを反転させた凸凹形状
が形成されていた。
【００９３】また、位相差フイルム作製用基板の表面の
凹凸構造は、ドライフィルムなどの感光性フィルム、Ｓ
ｉＯ2 膜やＩＴＯ膜などの無機膜、Ａｕ、Ａｌ、Ｍｏ、
Ａｇ、Ｃｕなどの金属膜を用いたり、ガラス基板の表面
をフッ酸などによって選択的に腐食させたり、さらに
は、プラスチック基板を、凹凸構造を有する金型で成形
したりしても、上記実施例１と同様の凹凸構造が位相差
フィルムに形成された。なお、紫外線透過光量を減少さ
せるような金属膜によって、位相差フィルムに凹凸構造
を形成する際に、重合性液晶材料の重合反応に十分な紫
外線強度が得られない場合などには、片側の基板にのみ
金属膜を形成し、紫外線は、金属膜が形成されていない
基板側から照射するようにしてもよい。
【００９４】この位相差フィルム表面を原子間力顕微鏡
（ＳＦＡ３００：セイコー電子工業製）により観察した
ところ、凹部と凸部の段差が１μｍであり、レジスト膜
による段差が位相差フィルム上で再現されていることが
わかった。
【００９５】（実施の形態２）次に本発明の実施の形態
２による位相差フイルム及びその製造方法について説明
する。この実施の形態２は本願の請求項５、７に係る発
明に対応するものである。
【００９６】図３は本実施の形態２の位相差フィルムの
構造を模式的に示し、図において、２００は、この実施
の形態２の位相差フィルムで、これを構成する重合性液
晶材料の液晶分子２８のティルト角が小さい領域２０１
と、該液晶分子２８のティルト角が大きい領域２０２と
を有しており、各領域２０１及び２０２では、位相差フ
ィルムにおけるリタデーション量が異なっている。
【００９７】次に、この位相差フィルムの製造方法につ
いて図４（ａ）及び図４（ｂ）を用いて説明する。
【００９８】まず、位相差フイルムの作製用セルを形成
するための、ガラス板などからなる基板２１ａ、２１ｂ
上に、配向膜２２ａ、２２ｂを形成する。その上に、ス
パッタ法などによりＳｉＯ2膜やＩＴＯ膜の酸化膜、あ
るいはＡｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕなどの金属膜を、後述す
る有機分子薄膜２４ａ，２４ｂの下地膜２３ａ、２３ｂ
として形成する。
【００９９】次に、該下地膜上に、レジストやドライフ
ィルムなどパターニング可能な材料を塗布、あるいは貼
着し、露光、現像処理によって、所定パターンのレジス
ト膜２５ａ、２５ｂを形成する。このように処理した基
板を、先に形成した下地膜２３ａ，２３ｂがＳｉＯ2 膜
などの酸化膜である場合は、オクタデシルトリクロロシ
ランなどのシランカップリング剤を５ｗｔ％含有するエ
タノール溶液中に、また上記下地膜がＡｕ膜など金属膜
である場合は、オクタデシルチオールなどの硫黄原子
（ＳＨ基やジスルフィド結合）を有する有機分子を５ｗ
ｔ％含有するエタノール溶液中に浸漬して有機分子膜２
４ａ、２４ｂを形成する。このとき、レジスト膜の開口
部に露出する酸化膜、あるいは金属膜等の下地膜２３
ａ，２３ｂ上にのみ有機分子膜２４ａ、２４ｂが形成さ
れる（図４（ａ））。
【０１００】次に、レジスト膜２５ａ，２５ｂを剥離し
たのち、ナイロン布などで基板の有機分子膜２４ａ，２
４ｂが形成されている側の面をラビングする。
【０１０１】この様にして作製した基板２１ａ，２１ｂ
を上記実施の形態１と同様に、必要であれば、スペーサ
ー２６を散布して、有機分子膜が形成されている面が対
向するよう、基板端部をシール材２７により貼り合わせ
る。これにより位相差フイルム作製用セル１２０を形成
する。
【０１０２】続いて、実施の形態１で示したものと同様
の重合性液晶材料２８を該両基板２１ａ，２１ｂ間に注
入し、以下、実施の形態１と同様の方法で位相差フィル
ム２００を作製する（図４（ｂ））。
【０１０３】ここで、基板２１ａ，２１ｂの有機分子膜
２４ａ，２４ｂが形成されている領域と、該有機分子膜
形成されていない領域とでは、表面状態が異なるため、
液晶分子の基板に対するティルト角を異ならせることが
できる。
【０１０４】（実施例２）以下、本実施の形態２の位相
差フィルムの具体的な構成の一例を実施例２として説明
する。
【０１０５】本実施例２では、上記有機分子膜をオクタ
デシルトリクロロシランにより形成した場合について図
４（ａ），（ｂ）を用いて説明する。
【０１０６】一対の透明なガラス基板２１ａ、２１ｂ
（７０５９：コーニング社製）上に配向膜２２ａ、２２
ｂ（Ｓ−１５０：日産化学社製）を５００オングストロ
ームの厚さに形成する。この配向膜上に、ＳｉＯ2をス
パッタ法により厚さ２００オングストロームとなるよう
蒸着した。
【０１０７】次に、この蒸着膜２３ａ、２３ｂ上に、ポ
ジ型レジスト（ＯＦＰＲ−８００：東京応化社製）を１
μｍの膜厚に塗布し、フォトリソ工程により、レジスト
膜２５ａ，２５ｂが土手状に残るようパターン化を行っ
た。
【０１０８】続いて、このように表面を加工した基板２
１ａ，２１ｂ上に、シランカップリング剤により有機分
子膜２４ａ、２４ｂを形成する。
【０１０９】まず、５ｗｔ％オクタデシルトリクロロシ
ラン（東京化成社製）を含むエタノール（和光純薬社
製）溶液に、表面にレジストパターンが形成された基板
を浸漬する。浸漬時間は１時間で、この間、温度を１０
℃に保った。続いて、２％ＮａＯＨ水溶液で基板表面の
レジスト膜２５ａ，２５ｂを剥離した後、ナイロン布に
より一軸方向にラビングを行った。
【０１１０】この様にして作製した両基板２１ａ，２１
ｂを、有機分子膜が形成されている面が対向し、ラビン
グ方向が任意のツイスト角と一致するよう配置して、さ
らに、必要であれば、スペーサー２６の散布を行い、シ
ール材２７により貼り合わせ、これにより位相差フイル
ム作製用セル１２０を形成した。
【０１１１】このようにして形成した基板間隙に、上記
（１）式に示す重合性液晶材料２８と重合開始剤（Ｉｒ
ｕｇａｃｕｒｅ６５１：チバガイギー社製）を注入し、
紫外線を照射した。
【０１１２】このようにして作製した位相差フィルム２
００の重合性液晶のティルト角をティルト角測定装置
（ＮＳＭＡＰ．３０００ＬＣＤ：シグマ光機）により測
定した。その結果、基板の有機分子膜が形成されている
領域ではティルト角は６０°であり、その有機分子膜が
形成されていない領域では、ティルト角は４°であっ
た。このように、有機分子膜を基板上に選択的に配置す
ることで、重合性液晶分子のティルト角を異ならせるこ
とができた。
【０１１３】（実施例３）次に、本実施の形態２の位相
差フィルムの具体的な構成の他の例を実施例３として説
明する。
【０１１４】本実施例３では、上記有機分子膜をオクタ
デシルチオールにより形成した場合について図４
（ａ），（ｂ）を用いて説明する。
【０１１５】一対の透明なガラス基板２１ａ、２１ｂ
（７０５９：コーニング社製）上に配向膜２２ａ，２２
ｂ（Ｓ−１５０：日産化学社製）を５００オングストロ
ームの厚さに形成する。この配向膜上に、Ａｕをスパッ
タ法により２００オングストロームの厚さに蒸着した。
次に、この蒸着膜２３ａ、２３ｂ上に、ポジ型レジスト
（ＯＦＰＲ−８００：東京応化社製）を１μｍの膜厚に
塗布し、フォトリソ工程により、レジスト膜２５ａ，２
５ｂが土手状に残るようパターン化を行った。
【０１１６】続いて、このような処理を施した基板に、
セルフアセンブリにより、有機分子膜２４ａ、２４ｂを
形成する。
【０１１７】まず、５ｗｔ％オクタデシルチオール（東
京化成社製）を含むエタノール（和光純薬社製）溶液
に、上記表面に凸凹形状が形成された基板を浸漬する。
浸漬時間は１時間で、この間、処理温度を１０℃に保っ
た。続いて、２％ＮａＯＨ水溶液でレジスト膜を剥離し
た後、ナイロン布により一軸方向にラビングを行った。
このようにして作製した両基板を、有機分子膜が形成さ
れている面が対向し、ラビング方向が任意のツイスト角
と一致するよう配置して、さらに、必要であれば、スペ
ーサー２６の散布を行い、シール材２７により貼り合わ
せた。これにより位相差フイルム作製用セル１２０を形
成した。
【０１１８】このようにして形成したセル１２０の基板
間隙に上記（１）式で示す重合性液晶材料２８と重合開
始剤（Ｉｒｕｇａｃｕｒｅ６５１：チバガイギー社製）
を注入し、紫外線を照射した。
【０１１９】このようにして作製した位相差フィルム２
００の重合性液晶のティルト角をティルト角測定装置
（ＮＳＭＡＰ．３０００ＬＣＤ：シグマ光機社製）によ
り測定した。その結果、基板表面の、有機分子膜が形成
されている領域ではティルト角は６３°であり、その有
機分子膜が形成されていない領域では、ティルト角は４
°であった。
【０１２０】このように、有機分子膜を基板上に選択的
に配置することで、重合性液晶分子のティルト角を異な
らせることができた。
【０１２１】（実施の形態３）次に本発明の実施の形態
３による位相差フイルム及びその製造方法について説明
する。この実施の形態３は、本願の請求項５，７に対応
するものである。
【０１２２】この実施の形態３の位相差フイルムも、図
３に示す実施の形態２の位相差フィルム２００と同様、
該位相差フィルムを構成する重合性液晶材料の液晶分子
のティルト角を場所によって異ならせたものである。
【０１２３】以下、この実施の形態３の位相差フィルム
の製造方法を、図５（ａ），図５（ｂ）を用いて説明す
る。
【０１２４】まず、ガラス板などからなる基板３１ａ、
３１ｂ上に、配向膜３２ａ、３２ｂを形成する。次に、
この上に、レジストやドライフィルムなどパターニング
可能な材料を塗布、あるいは貼着し、露光、現像処理に
よって所定のパターンのレジスト膜３３ａ、３３ｂを形
成する。続いて、所定パターンのレジスト膜３３ａ，３
３ｂ上に、スパッタ法などによりＳｉＯ2やＩＴＯなど
の酸化膜あるはＡｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕなどの金属膜
を、後述する有機分子薄膜の下地膜３４ａ，３４ｂとし
て堆積する（図５（ａ））。ここで、Ａｕ膜を用いる場
合には、必要であればクロム膜を形成した後にＡｕ膜を
形成してもよい。
【０１２５】次に、該基板３１ａ，３１ｂを、アセトン
などレジストを溶解することのできる溶剤中に浸漬し、
リフトオフ法により、ＳｉＯ2膜あるいはＡｕ膜をパタ
ーニングする。そして、該基板３１ａ，３１ｂを、先に
作製した下地膜３４ａ，３４ｂがＳｉＯ2膜である場合
はオクタデシルトリクロロシランなどシランカップリン
グ剤を５ｗｔ％含有するエタノール溶液中に、また下地
膜がＡｕ膜である場合はオクタデシルチオールなど硫黄
原子（ＳＨ基やジスルフィド結合）を有する有機分子を
５ｗｔ％含有するエタノール溶液中に浸漬して有機分子
膜３５ａ、３５ｂを形成する。このとき、基板表面の、
ＳｉＯ2膜あるいはＡｕ膜が形成されている部分にのみ
有機分子膜３５ａ、３５ｂが形成される。
【０１２６】次に、レジスト膜を剥離したのち、ナイロ
ン布などで基板３１ａ，３１ｂの有機分子膜が形成され
ている面をラビングする。
【０１２７】この様にして作製した基板を、実施の形態
１と同様に、必要であれば、スペーサー３６を散布し
て、有機分子膜が形成されている面を対向させて、基板
端部をシール材３７により貼り合わせ、これにより位相
差フイルム作製用セル１３０を形成する。
【０１２８】続いて、実施の形態１で示したものと同様
の重合性液晶材料３８を、該セル１３０を構成する一対
の基板間に注入し、以下、実施の形態１と同様の方法で
位相差フイルムを作製する。
【０１２９】ここで、基板表面の、有機分子膜が形成さ
れている領域と、その有機分子膜が形成されていない領
域とでは表面状態が異なるため、これらの領域で、液晶
分子の基板に対するティルト角を異ならせることができ
る。
【０１３０】このように、一対の基板の対向面上に有機
分子膜を選択的に配置することにより、該基板間に挟持
される重合性液晶分子のティルト角を異ならせることが
できた。
【０１３１】ここで、上記位相差フィルムは上記実施の
形態１と同様、その作製用セル１３０から取りだした状
態で使用することができる。この場合、上記有機分子膜
は、作製用セル１３０の基板とともに位相差フィルムか
ら剥され、位相差フィルムの表面には有機分子膜による
段差が形成されるが、有機分子膜の厚さは位相差フィル
ム全体の厚さに比べて１００分の１程度と薄いため、位
相差フィルムの表面の段差は問題とはならない。
【０１３２】（実施例４）次に、本実施の形態３の位相
差フィルムの具体的な構成の一例を実施例４として説明
する。
【０１３３】上記実施の形態３において、有機分子膜を
オクタデシルトリクロロシランにより形成した場合につ
いて説明する。
【０１３４】一対の透明なガラス基板３１ａ、３１ｂ
（７０５９：コーニング社製）上に配向膜３２ａ、３２
ｂ（Ｓ−１５０：日産化学社製）を５００オングストロ
ームの厚さに形成する。次に、この配向膜上に、ポジ型
レジスト（ＯＦＰＲ−８００：東京応化社製）を１μｍ
の膜厚で塗布し、フォトリソ工程により、レジスト膜３
３ａ，３３ｂが土手状に残るようパターン化を行った。
【０１３５】そして、このレジスト膜３３ａ、３３ｂ上
に、ＳｉＯ2をスパッタ法により２００オングストロー
ムの厚さに蒸着した。続いて、上記基板３１ａ、３１ｂ
をアセトン（和光純薬社製）中に浸漬し、リフトオフ法
によりレジスト膜と同時にレジスト膜上に堆積している
ＳｉＯ2膜を取り去り、ＳｉＯ2膜のパターニングを行っ
た。
【０１３６】その後、該基板３１ａ、３１ｂに、シラン
カップリング剤を用いて、有機分子膜３５ａ、３５ｂを
形成する。
【０１３７】まず、５ｗｔ％オクタデシルトリクロロシ
ラン（東京化成社製）を含むエタノール（和光純薬社
製）溶液に、表面に選択的にＳｉＯ2膜を形成した基板
を浸漬する。浸漬時間は１時間で、この間、処理温度を
１０℃に保った。そして、該基板表面に対して、ナイロ
ン布により一軸方向にラビングを行った。
【０１３８】この様にして作製した両基板を、有機分子
膜が形成されている側の面が対向し、ラビング方向が任
意のツイスト角と一致するように配置し、さらに、必要
であれば、スペーサー３６の散布を行い、シール材３７
により貼り合わせた。これにより位相差フイルム作製用
セル１３０を形成した。
【０１３９】このようにして形成したセル１３０の基板
間隙に上記（１）式に示す重合性液晶材料３８と重合開
始剤（Ｉｒｕｇａｃｕｒｅ６５１：チバガイギー社製）
を注入し、紫外線を照射した。
【０１４０】このようにして作製した位相差フィルムの
重合性液晶のティルト角をティルト角測定装置（ＮＳＭ
ＡＰ．３０００ＬＣＤ：シグマ光機社製）により測定し
た。その結果、基板の有機分子膜が形成されている領域
では、ティルト角は５９°であり、該基板の有機分子膜
が形成されていない領域では、ティルト角は４°であっ
た。
【０１４１】このように、位相差フイルム作製用基板の
表面に選択的に有機分子膜を配置することで、位相差フ
イルムを構成する重合性液晶分子のティルト角を場所に
よって異ならせることができた。
【０１４２】（実施例５）次に、本実施の形態３の位相
差フィルムの具体的な構成の他の例を実施例５として説
明する。ここでは、上記実施の形態３において、有機分
子膜をオクタデシルチオールにより形成した場合につい
て説明する。
【０１４３】一対の透明なガラス基板３１ａ、３１ｂ
（７０５９：コーニング社製）上に配向膜３２ａ、３２
ｂ（Ｓ−１５０：日産化学社製）を５００オングストロ
ームの厚さに形成する。次に、この配向膜上に、ポジ型
レジスト（ＯＦＰＲ−８００：東京応化社製）を１μｍ
の膜厚で塗布し、フォトリソ工程により、レジスト膜３
３ａ，３３ｂが土手状に残るようパターン化を行った。
【０１４４】そして、このレジスト膜３３ａ、３３ｂ上
に、Ａｕを２００オングストロームの厚さに蒸着して、
Ａｕ膜３４ａ，３４ｂを形成した。
【０１４５】続いて、この基板３１ａ，３１ｂをアセト
ン（和光純薬社製）中に浸漬し、リフトオフ法によりレ
ジスト膜と同時にレジスト膜上に堆積しているＡｕ膜を
取り去り、Ａｕ膜のパターン化を行った。
【０１４６】その後、上記基板上に、セルフアセンブリ
により、有機分子膜３５ａ，３５ｂを形成する。
【０１４７】すなわち、まず、５ｗｔ％オクタデシルチ
オール（東京化成社製）を含む無水エタノール（和光純
薬社製）溶液に、表面に有機分子膜が選択的に形成され
た基板を浸漬する。浸漬時間は１２時間で、この間、処
理温度を４℃に保った。
【０１４８】この浸積後の基板を上記エタノールにより
洗浄し、乾燥した後、該基板に対して、ナイロン布によ
り一軸方向にラビングを行った。
【０１４９】このようにして作製した両基板を、有機分
子膜が形成されている面が対向し、ラビング方向が任意
のツイスト角と一致するように配置し、さらに、必要で
あれば、スペーサー３６の散布を行い、シール材３７に
より貼り合わせた。これにより位相差フイルム作製用セ
ル１３０を形成した。
【０１５０】このようにして形成したセル１３０の基板
間隙に上記（１）式に示す重合性液晶材料３８と重合開
始剤（Ｉｒｕｇａｃｕｒｅ６５１：チバガイギー社製）
を注入し、紫外線を照射した。
【０１５１】このようにして作製した位相差フィルムの
重合性液晶のティルト角をティルト角測定装置（ＮＳＭ
ＡＰ．３０００ＬＣＤ：シグマ光機社製）により測定し
た。その結果、基板の有機分子膜が形成されている領域
では、ティルト角は６５°であり、基板の有機分子膜が
形成されていない領域では、ティルト角は４°であっ
た。
【０１５２】このように、位相差フイルム作製用基板の
表面に有機分子膜を選択的に配置することで、位相差フ
イルムとして、場所によって重合性液晶分子のティルト
角が異なるものを得ることができた。
【０１５３】（実施の形態４）次に本発明の実施の形態
４による液晶表示素子について説明する。この実施の形
態４は請求項８，９に対応するものである。
【０１５４】図６はこの液晶表示素子の構造を示す断面
図である。図において、１４０は本実施の形態の液晶表
示素子で、これはリタデーション量の異なる領域を選択
的に形成した位相差フイルム４８を適用したものであ
る。
【０１５５】この液晶表示素子１４０は、単純マトリク
ス型のもので、液晶を挟持する一対の透明な基板４１
ａ，４１ｂの対向面には、それぞれ帯状の電極４２ａ，
４２ｂが複数形成されており、該両電極は交差するよう
配置されている。
【０１５６】また、該両基板間の、上記帯状の電極４２
ａ及び４２ｂが対向する部分が絵素領域４６となってい
る。この絵素領域４６は、液晶で満たされた液晶領域４
３となっている。該両基板間の絵素領域以外の非絵素領
域４７には、該液晶領域４３を囲むよう高分子壁４４が
配置されている。また、一方の基板４１ｂの外側の面に
は位相差フィルム４８が配置されており、該位相差フィ
ルム４８が、液晶領域４３に対応する部分と高分子壁４
４に対応する部分とで、リタデーション量の異なる構造
となっている。なおここでは、図示していないが、必要
ならば、電極４２ａ、４２ｂ上に電気絶縁膜及び配向膜
を設けてもよい。
【０１５７】上記一対の基板４１ａ、４１ｂの端部はシ
ール材４５によって貼り合わされており、該両基板４１
ａ、４１ｂの間には、これらのギャップを規制するスペ
ーサー４９が設けられている。
【０１５８】次に上記液晶表示素子の製造方法について
説明する。
【０１５９】まず、基板４１ａ、４１ｂ上にそれぞれ、
例えばスパッタ法によりＩＴＯ膜を２０００オングスト
ロームの厚さに堆積し、そのパターニングを行って帯状
の透明電極４２ａ、４２ｂをそれぞれ形成する。上記基
板材料としては、少なくとも一方の基板が光を透過する
透明材料であれば、どのようなものでも用いることがで
き、ガラス、プラスティックフィルムなどが挙げられ
る。また、一方の基板が透明であれば、他方の基板は、
その表面に透明でない金属膜などを設けた基板であって
もよい。
【０１６０】次に、上記透明電極を覆うように、例え
ば、スパッタ法により電気絶縁膜（図示せず）をそれぞ
れ形成し、さらにこの上に、配向膜（図示せず）をそれ
ぞれ形成し、配向膜に対してナイロン布などでラビング
処理を行う。なお、上記電気絶縁膜、および配向膜は必
ずしも必要ではなく、場合によっては形成しなくてもよ
い。
【０１６１】このように処理を施した両基板４１ａ、４
１ｂを、それぞれの透明電極４２ａ、４２ｂが互いに直
交するように対向させて配置し、該両基板間にスペーサ
ー４９を散布し、基板４１ａ、４１ｂの端部をシール材
４５により貼り合わせて表示用液晶セル４０を作製す
る。
【０１６２】このようにして得られた表示用セル４０の
基板間隙に表示媒体を注入するが、ここでは少なくとも
液晶材料と重合性化合物と光重合開始剤とを含む混合材
料を注入し、液晶と重合性化合物との相分離を利用す
る。
【０１６３】上記液晶材料としては、従来のＴＮモー
ド、ＳＴＮモード、ＥＣＢモード、強誘電性液晶表示モ
ード、光散乱モードなど液晶表示素子に用いられる液晶
材料のいずれのものでも用いることができる。
【０１６４】例えば、カイラル剤（Ｓ−８１１）を３％
添加したＺＬＩ−４４２７（メルク社製）のＳＴＮ用液
晶材料等があげられる。また重合性材料としては、イソ
ボルニルメタクリレート（日本化薬社製）、ｐ−フェニ
ルスチレン（日本化薬社製）など、光照射により重合
し、硬化するものであればいずれのものでも用いること
ができる。また、重合性化合物は単独で用いても数種類
を組み合わせて用いてもよい。さらに、混合材料には重
合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤としてはＩ
ｒｕｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイギー社製）等を用い
ることができる。また表示用セル４０の液晶注入孔は、
樹脂等で封止するが、紫外線硬化樹脂を用いた場合は、
重合性液晶材料が注入された領域に光が当たらないよう
に紫外線を照射する必要がある。また上記注入孔の封止
樹脂として、その硬化処理に紫外線照射の必要のない２
液混合性硬化樹脂や空気と接触することで硬化する瞬間
接着剤を用いることは有効である。
【０１６５】次に、表示用セル４０の外部から、上記混
合材料に紫外線などの光を照射する。このときの光が照
射される側の基板には、液晶領域４３で基板上の他の領
域に比べて透過光量などのエネルギー強度が小さくなる
ような処理を施す。
【０１６６】この紫外線を照射する場合には、一例とし
て、フォトマスクで遮光したり、ＩＴＯ等の金属膜や無
機膜、または、有機膜等により紫外線を吸収させて、選
択的に透過光量分布を発生させる。光源としては、平行
光の得られる紫外線照射用の高圧水銀ランプなどを使用
することができ、その照射位置は任意で、例えば基板表
面上での照射強度が１０ｍＷ／ｃｍ2となる位置で行
う。
【０１６７】このようにエネルギー強度分布を選択的に
発生させることにより、表示用セル４０に注入された混
合材料が液晶と重合性化合物とに相分離することとな
る。なお、液晶の配向を安定化させるために基板温度を
高温にして紫外線照射を行った場合には、徐冷オーブン
内で室温もしくは低温（０°Ｃ以下）まで、徐冷するの
が望ましい。また、相分離後、高分子の架橋度をさらに
向上させるために室温もしくは低温（０°Ｃ以下）雰囲
気下で紫外線照射等のエネルギーの付与を行ってもよ
い。
【０１６８】また、液晶セルを構成する別の方法として
は、レジストや感光性樹脂を用いたホトリソグラフィ処
理により、レジスト膜からなる壁を例えば一方の基板の
電極の抜け部（電極配置部以外の領域）に形成する。こ
こで、レジスト材料としてはＯＦＰＲ−８００（東京応
化社製）等を用いることができる。さらに上記のような
液晶、例えば、カイラル剤（Ｓ−８１１）を３％添加し
たＺＬＩ−４４２７（メルク社製）を上記一方の基板表
面に滴下し、他方の基板をその電極が一方の基板のもの
と互いに交差するように、必要であればスペーサーを介
して、シール材によって一方の基板上に貼り合せる。そ
の結果、液晶領域４３と高分子領域４４とが任意の位置
に選択的に形成された構造が両基板４１ａ、４１ｂの間
に形成されることになる。ここでは、非絵素部には高分
子を、絵素部には液晶を形成させる。
【０１６９】このようにして作製した液晶セルの一方の
基板４１ｂ上に位相差フイルム４８を配置する。ここで
該位相差フィルムとしては、上述した実施の形態１から
３で示したもののいずれかを用いる。また、位相差フイ
ルム４８では、表示用セル４０の高分子壁４４に対応す
る部分と液晶領域４３に対応する部分とでリタデーショ
ン量が異なるようにリタデーション量を調節している。
また、位相差フィルムの膜厚、あるいは、重合性液晶分
子のティルト角はノーマリーホワイト時において、電圧
無印加状態のときの色調が最も白に近くなるように設定
している。
【０１７０】（実施例６）次に、本実施の形態４の液晶
表示素子の具体的な構成の一例を実施例６として説明す
る。本実施例６では、ＳＴＮ液晶を用いた単純マトリク
ス型液晶表示素子について図６及び図７を用いて説明す
る。
【０１７１】表示用セル４０を構成する一対の基板４１
ａ、４１ｂとして７０５９ガラス（コーニング社製）を
用い、この基板上にＩＴＯをスパッタ法により２０００
オングストローム堆積し、ＩＴＯ電極４２ａ，４２ｂを
帯状に形成する。ここで電極幅は２８０μｍ、電極の配
置間隔は２０μｍとする。この両基板の電極上にＳｉＯ
2の電気絶縁膜及びポリイミドの配向膜（図示せず）を
それぞれ形成し、さらに、該配向膜表面に対してナイロ
ン布でラビング処理を施す。
【０１７２】次に、該一対の基板間にスペーサー４９を
散布して、これらの基板をそれぞれの電極が交差するよ
うに対向させ、シール材４５を用いて貼り合せ、これに
より表示用セル４０を作製する。
【０１７３】このように作製した表示用セル４０の一対
の基板間隙に液晶部分と高分子部分を形成する。この液
晶部分と高分子部分の形成には、液晶と重合性化合物の
相分離を利用する。
【０１７４】まず、液晶と重合性化合物の混合物を上記
表示用セルに注入するが、開口率は約８７．１％である
ので、液晶と重合性化合物との比率を液晶：重合性化合
物＝８７：１３として混合物を調製した。この混合物を
公知の注入法で表示用セルに注入する。その後、液晶と
重合性化合物を紫外線照射により相分離を行う。
【０１７５】本実施例６では、両基板の電極の交差部分
を絵素部とし、この絵素部に対して位置を合わせたフォ
トマスクを基板外部に設置し、このフォトマスクを介し
て紫外線を表示用セルに照射する。このとき液晶は等方
性液体状態であってもかまわない。このように光の強弱
を選択的に発生させることにより、液晶と重合性化合物
の混合物の相分離により、絵素部に液晶を非絵素部に高
分子を配置させることができる。
【０１７６】そして、図７に示すように、上記作製した
表示用セル４０の一方の面側に位相差フィルム４８及び
偏光板１４１ｂを順次重ねて配置し、表示用セル４０の
他方の面側に偏光板１４１ａ及び反射板１４２を順次重
ねて配置して、液晶表示素子１４０ａを得る。ここで、
上記位相差フィルム４８としては、上記実施の形態１〜
３のいずれの構造のものでもよい。また、必要に応じ
て、リタデーション量が各部で均一である位相差フィル
ムを、場所によりリタデーション量を異ならせた位相差
フィルムとともに配置してもよい。
【０１７７】この液晶表示素子１４０ａのＣＩＥ（国際
照明委員会：Commission Internationale de l'Eclaira
ge）の色基準に基づく明度Ｌ*、色度ａ*，ｂ*を測定し
たところ、Ｌ*＝４５、ａ*＝３．０、ｂ*＝３．２であ
った。図９は上記Ｌ*、ａ*、ｂ*と色調の関係を示す。
この図では、横軸に、赤系及びその補色に対応する色度
ａ*、縦軸に黄色及びその補色に対応する色度ｂ*をとっ
ている。また、明度Ｌ*は、図９に示す座標に対して紙
面垂直方向の軸に対応するものである。
【０１７８】この素子のコントラストを測定したところ
７であった。この素子と以下に記載した比較例１と比較
すると、明るさは、位相差フイルムを本実施例のように
場所によってリタデーション量を異ならせた構造とした
ほうが明るくなった。また表示色は電圧無印加時には白
色系、電圧印加時には黒色系となっていた。
【０１７９】（実施例７）本実施例では、種々の位相差
フィルムを用いて、実施例６に示す液晶表示素子の製造
方法と同様の方法で液晶表示素子をいくつか作製した。
【０１８０】ここでは、各液晶表示素子の位相差フィル
ムにおける、リタデーション量の異なる第１，第２の領
域間、例えば、液晶表示素子の液晶領域に対応する部分
と高分子部分に対応する部分との間でのリタデーション
量の差は、異なる値となっている。
【０１８１】そして、各液晶表示素子についてその明る
さの比較をＣＩＥ系のＬ*値により行った。
【０１８２】図１１は、上記各液晶表示素子について、
該リタデーション量の異なる第１，第２領域間でのリタ
デーション量の差と、ＣＩＥの色基準に基づく明度Ｌ*
の値との関係を示しており、この図１１から、上記のよ
うに場所によってリタデーション量の異なる位相差フィ
ルムを用いることによって、Ｌ*値が大きくなるのは、
該リタデーション量の異なる第１，第２の領域間でのリ
タデーション量の差が、ほぼ９０ｎｍ〜８００ｎｍの範
囲内にある場合であることが分かる。
【０１８３】（実施例８）次に、本実施の形態４の液晶
表示素子の変形例についての具体的な構成例を実施例８
として説明する。この実施例８は、請求項１０に対応す
るものである。
【０１８４】本実施例８では、リタデーション量が場所
によって異なる位相差フィルムを、ＳＴＮ液晶を用いた
単純マトリクス型の表示用セル内に配置した液晶表示素
子について、図６，図８を用いて説明する。
【０１８５】図８において、図７と同一符号は実施例６
と同一のものを示し、１４０ｂは本実施例８の液晶表示
素子で、この液晶表示素子１４０ｂでは、液晶セル４０
ａを構成する一対の基板４１ａ、４１ｂには７０５９ガ
ラス（コーニング製）を用い、少なくとも一方の基板の
液晶側の面に、上記実施の形態１ないし３で示した位相
差フイルムのいずれかの構成のものを配置している。
【０１８６】本実施例の液晶セル４０ａの製造プロセス
については、一対の基板の一方４１ａの表面に位相差フ
ィルム４８を形成した後の液晶セルの組立工程は実施例
６と同様である。
【０１８７】そして、図８で示すように、作製した液晶
セル４０ａの両面にそれぞれ偏光板１４１ａ及び１４１
ｂを形成し、さらに該偏光板１４１ａ側に反射板１４２
を形成する。
【０１８８】なお、この実施例８においても、必要に応
じて、リタデーション量が各部で一定である位相差フイ
ルムを、場所によりリタデーション量を異ならせた位相
差フィルムとともに配置してもよい。
【０１８９】この液晶表示素子１４０ｂの上記ＣＩＥの
Ｌ*、ａ*、ｂ*を測定したところ、Ｌ*＝４６、ａ*＝
２．９、ｂ*＝３．３であった。また、この素子のコン
トラストを測定したところ８であった。この実施例８の
液晶表示素子１４０ｂを以下に記載した比較例１の液晶
表示素子と比較すると、明るさは位相差フイルムを本実
施例のように場所によってリタデーション量を異ならせ
た構造としたほうが明るくなった。また表示色は電圧無
印加時には白色系、電圧印加時には黒色系となってい
た。また、本実施例により作製される液晶表示素子は、
実施例６の素子に比べ、位相差フィルムによる視差がな
く、視認性の高いものとなっていた。
【０１９０】（比較例１）この比較例に係る液晶表示素
子は、上記実施例６と同様にして液晶部と高分子部を挟
持した表示用セルを作製し、この表示用セルの基板の両
側に、液晶部が最も白に近い表示色となるように偏光
板、反射板、及びリタデーション量が全体に渡って一定
である位相差フイルムを設置したものである。
【０１９１】この比較例の液晶表示素子では、高分子部
は非常に濃い青色を呈しており、基板全体が青く見え
た。このときパネル全体におけるＣＩＥのＬ*、ａ*、ｂ
*を測定したところ、Ｌ*＝３８、ａ*＝−１８、ｂ*＝−
２３であった。また、この素子のコントラストを測定し
たところ５であった。この比較例を実施例６、８と比較
した場合、この比較例では、ａ*、ｂ*とも青色側へ数値
がシフトしており、このため白黒表示には程遠く、コン
トラストの低下をきたしていることがわかる。
【０１９２】（実施の形態５）次に、本発明の実施の形
態５による液晶表示素子について説明する。この実施の
形態５は、請求項１１，１２に対応するものである。
【０１９３】図１０は、本発明の実施の形態５による液
晶表示素子の構造を示す断面図であり、図において、１
５０は単純マトリクス型の液晶表示素子で、これを構成
する一対の基板５１ａ、５１ｂの間には、表示媒体層５
９を構成する、相分離により形成された高分子領域５３
と液晶領域５４とが配置されており、該表示媒体層５９
は、該液晶領域５４が高分子領域５３により囲まれた構
造となっている。
【０１９４】また、一対の基板５１ａ、５１ｂの表示媒
体側の表面には、それぞれ、所定間隔毎に帯状の表示用
電極５２ａ、５２ｂが設けられており、一方の基板５１
ａに形成された透明電極５２ａと他方の基板５１ｂに形
成された透明電極５２ｂとは、相互に交差する状態、こ
こでは直交する状態になっている。
【０１９５】上記透明電極５２ａ、５２ｂと表示媒体層
５９との間には、電気絶縁膜と配向膜（ともに図示せ
ず）とが、配向膜を表示媒体層５９側に位置させた状態
で形成されている。また、一対の基板５１ａ、５１ｂの
うちの少なくとも一方５１ｂは、基板本体部分５１上に
形成された、リタデーション量を、高分子領域５３に対
応する部分と液晶領域５４に対応する部分とで異ならせ
ている重合性液晶層５５を有している。
【０１９６】この実施の形態５では、重合性液晶層５５
は、高分子領域５３に対応する部分と液晶領域５４に対
応する部分とでリタデーション量が異なるよう、液晶領
域５４に対応させて配置したレジスト膜５６を有してお
り、これにより該重合性液晶層５５は、場所によって厚
さの異なる構造となっている。
【０１９７】次に、このように構成された単純マトリク
ス型液晶表示素子の製造方法を以下に説明する。
【０１９８】まず、一対の基板５１ａ、５１ｂのうちの
少なくとも一方の基板の本体部分５１上に、液晶領域５
４に対応するようレジスト膜５６を選択的に形成し、そ
の後全面に重合性液晶材料をその表面が平坦になるよう
形成する。これにより、液晶領域５４と高分子領域５３
に対応する部分とでリタデーション量が異なっている重
合性液晶層５５を形成することができる。
【０１９９】なお、この重合性液晶層５５の形成法につ
いては、上記のように場所によって厚みの異なる構造と
する方法に限らず、実施の形態２、３に示したように液
晶分子のティルト角を場所によって異ならせる方法でも
よい。
【０２００】このようなリタデーション量を場所によっ
て異ならせている重合性液晶層５５を含む基板を、液晶
表示素子を構成する一対の基板５１ａ、５１ｂのうち少
なくとも一方の基板５１ｂとして用いる。
【０２０１】なお、この際、前記重合性液晶層５５を含
む基板は、上述した位相差フィルム作製用セル内に位相
差フィルム（重合性液晶層）を形成した後、シール材を
はがし、上記位相差フィルムを挟持している一対の基板
のうちの少なくとも一方の基板を取り除いたものでもよ
い。また、基板強度などの点で問題がないのであれば、
位相差フィルムを挟持している両方の基板を取り除き、
位相差フィルムだけを位相差フィルム作製用セルから取
り出して、表示用液晶セルを構成する一対の基板５１
ａ、５１ｂのうち少なくとも一方の基板５１ｂとしても
よい。
【０２０２】ここで基板５１ａ、５１ｂのうちのどちら
か一方の基板を前記方法により作製した重合性液晶層５
５を含むものとした場合には、他方の基板はガラスやプ
ラスティックなどの基板を用いる。
【０２０３】このような基板５１ａ、５１ｂの表面上に
それぞれ、例えばスパッタ法によりＩＴＯ膜を２０００
オングストロームの厚さに堆積し、帯状の透明電極５２
ａ、５２ｂをそれぞれ形成する。上記基板材料として
は、少なくとも一方の基板が光を透過する透明材料であ
れば、いずれのものでも用いることができ、ガラス、プ
ラスティックフィルムなどが挙げられる。また、一方の
基板が透明であれば、他方の基板は、その表面に透明で
ない金属膜などを設けたものであってもよい。
【０２０４】次に、この透明電極を覆うように、例えば
スパッタ法により電気絶縁膜をそれぞれの基板上に形成
し、さらにこの上に、配向膜をそれぞれ形成し、配向膜
に対してナイロン布などでラビング処理を行う。なお、
上記電気絶縁膜および配向膜は、必要でない場合は形成
しなくてもよい。
【０２０５】この状態の両基板５１ａ、５１ｂを透明電
極５２ａ、５２ｂが互いに直交するように対向させて配
置し、該両基板間にスペーサー５８を散布し、基板５１
ａ、５１ｂの端部をシール材５７により貼り合わせて表
示用セル１５０を作製する。このようにして得られた表
示用セル１５０の基板間隙に表示媒体を注入するが、こ
こでは少なくとも液晶材料と重合性化合物とを含む混合
材料を注入し、液晶と重合性化合物との相分離を利用す
る。
【０２０６】上記液晶材料としては、従来のＴＮモー
ド、ＳＴＮモード、ＥＣＢモード、強誘電性液晶表示モ
ード、光散乱モードなど液晶表示素子に用いられる液晶
材料のいずれのものでも用いることができる。
【０２０７】例えば、カイラル剤（Ｓ−８１１）を３％
添加したＺＬＩ−４４２７（メルク社製）のＳＴＮ用液
晶材料等があげられる。また重合性材料としては、イソ
ボルニルメタクリレート（日本化薬社製）、ｐ−フェニ
ルスチレン（日本化薬社製）など、光照射により重合
し、硬化するものであればいずれのものでも用いること
ができる。また、重合性化合物は単独で用いても数種類
を組み合わせて用いてもよい。さらに、混合材料には重
合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤としてはＩ
ｒｕｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイギー社製）等を用い
ることができる。また表示用セル１５０の液晶注入孔
は、樹脂等で封止するが、紫外線硬化樹脂を用いた場合
は、紫外線照射工程で基板の表示部に光が当らないよう
に紫外線を照射する必要がある。また上記注入孔の封止
樹脂として、その硬化処理に紫外線照射の必要のない２
液混合性硬化樹脂や空気と接触することで硬化する瞬間
接着剤を用いることは有効である。
【０２０８】次に、液晶セルの外部から、上記混合材料
に紫外線などの光を照射する。このときの光が照射され
る側の基板には、液晶領域５３で基板上の他の領域に比
べて透過光量などのエネルギー強度が小さくなるような
処理を施す。
【０２０９】この紫外線を照射する場合には、一例とし
て、フォトマスクで遮光したり、ＩＴＯ等の金属膜や無
機膜、または有機膜等により紫外線を吸収させて、選択
的に透過光量分布を発生させる。光源としては、平行光
の得られる紫外線照射用の高圧水銀ランプなどを使用す
ることができ、その照射位置は任意で、例えば基板表面
上での照射強度が１０ｍＷ／ｃｍ2となる位置で行う。
【０２１０】このようにエネルギー強度分布を選択的に
発生させることにより、表示用セルに注入された混合材
料が液晶と重合性化合物とに相分離することとなる。な
お、液晶の配向を安定化させるために基板温度を高温に
して紫外線照射を行った場合には、徐冷オーブン内で室
温もしくは低温（０°Ｃ以下）まで、徐冷するのが望ま
しい。また、相分離後、高分子の架橋度をさらに向上さ
せるために室温もしくは低温（０°Ｃ以下）雰囲気下で
紫外線照射等のエネルギーの付与を行ってもよい。
【０２１１】また、液晶セルを構成する別の方法として
は、レジストや感光性樹脂を用いたホトリソグラフィ処
理により、レジスト膜からなる壁を例えば一方の基板の
電極の抜け部（電極配置部以外の領域）に形成する。こ
こで、レジスト材料としてはＯＦＰＲ−８００（東京応
化社製）等を用いることができる。さらに上記のような
液晶、例えば、カイラル剤（Ｓ−８１１）を３％添加し
たＺＬＩ−４４２７（メルク社製）を上記一方の基板表
面に滴下し、他方の基板をその電極が一方の基板のもの
と互いに交差するように、必要であればスペーサーを介
し、シール材によって一方の基板上に貼り合せる。その
結果、液晶領域５３と高分子領域５４とが任意の位置に
選択的に形成された構造が両基板５１ａ、５１ｂの間に
形成されることになる。ここでは、非絵素部には高分子
領域５３を、絵素部には液晶領域５４を形成させる。
【０２１２】ＩＴＯ電極形成工程以降の各膜厚や電極幅
などといった具体的な数値などについては、実施例６に
示したものと同様にした。
【０２１３】この本実施の形態５による液晶表示素子の
ＣＩＥのＬ*、ａ*、ｂ*を測定したところ、Ｌ*＝４７、
ａ*＝２．８、ｂ*＝３．０であった。また、この素子の
コントラストを測定したところ８であった。この素子を
上述した比較例１と比較すると、明るさは位相差板（基
板）を本実施例のように、リタデーションを場所によっ
て異ならせた構造としたもののほうが明るくなった。ま
た表示色は電圧無印加時には白色系、電圧印加時には黒
色系となっていた。
【０２１４】また、本実施の形態５による液晶表示素子
の閾電圧値は比較例１により作製されるものとほぼ等し
く、実施例８によるものより、０．１Ｖ低下していた。
これは、実施例８による素子においては、電極と液晶層
との間に重合性液晶層が介在しているのに対し、本実施
の形態５及び比較例１の素子では、電極と液晶領域との
間には、重合性液晶層が存在しないからである。本実施
の形態５のように、基板５１ｂ内に絶縁層である重合性
液晶層５５を有することで、閾電圧値の増加を低減させ
ることができた。
【０２１５】
【発明の効果】以上のように本発明（請求項１）によれ
ば、位相差フィルムを場所によって厚さが異なる構造と
したので、フィルム内でリタデーション量の異なる領域
を簡単に形成することができる。このような位相差フィ
ルムを、光学的に等方性状態と異方性状態の領域が共存
するようなパネルに適用すれば、一枚の位相差フイルム
により色調の制御を行うことが可能である。
【０２１６】本発明（請求項２）によれば、表面を凹凸
状に加工した基板間に重合性液晶材料を挟持し、この状
態で該重合性液晶材料を重合させるので、部分的に厚み
の異なる位相差フイルムを簡単に形成することができ
る。
【０２１７】本発明（請求項３）によれば、基板上に凹
凸を形成するために液晶レジストを用いるので、塗布，
露光，現像処理により基板上に容易に凹凸部分を形成す
ることができ、これにより簡単に重合性液晶材料により
構成される凹凸部分を有する位相差フイルムを作製する
ことができる。
【０２１８】本発明（請求項４）によれば、基板上に凹
凸部分を形成するためにドライフィルムを用いるので、
基板（プラスチックフィルム）に対し連続的にドライフ
ィルムを貼着することができ、効率的に基板上に凹凸部
分を形成することができる。この結果、該位相差フイル
ムの生産性に優れた製造方法を提供することができる。
【０２１９】本発明（請求項５）によれば、位相差フィ
ルムを、これを構成する液晶分子のティルト角が場所に
よって異なった構造としているので、該フィルム内に常
光線と異常光線との間に生じるリタデーション量の異な
る領域を簡単に形成することができる。
【０２２０】本発明（請求項６）によれば、位相差フイ
ルムにおいて、第１の領域と第２の領域との間に生じる
リタデーション量の差をほぼ９０ｎｍ〜８００ｎｍとし
たので、可視光線の色調を補正することができ、このた
め該位相差フイルムを液晶表示素子等の光学表示素子に
適用すると、表示部の色調補正にきわめて有効であると
いう効果がある。
【０２２１】本発明（請求項７）によれば、その表面に
有機分子膜を選択的に形成した基板間に重合性液晶材料
を挟持し、この状態で該重合性液晶材料を重合するよう
にしたので、基板表面の有機分子膜が形成されている領
域と、その有機分子膜が形成されていない領域とで重合
性液晶分子のティルト角を変えることができ、これによ
り位相差フィルム中にリタデーション量の異なる領域を
マイクロメートルオーダーで発生させることが可能であ
る。
【０２２２】また、フォトクロミック分子を用いたとき
には、フォトクロミック分子の構造異性化と重合性液晶
分子の重合反応が非常に近い波長領域の光によって起こ
ることから、重合性液晶分子のティルト角の異なる領域
を形成することが非常に困難であるが、有機分子膜を用
いることで、重合性液晶材料を、その液晶分子のティル
ト角のあらかじめ所望の角度に定めた状態で重合させる
ことができるので、場所によってリタデーション量の異
なる位相差フイルムを簡単に作製することができる。
【０２２３】本発明（請求項８，９）によれば、表示領
域内に光学的に等方性状態である高分子領域を有するよ
うな液晶表示パネルに、場所によってリタデーション量
の異なる位相差フィルムを適用したので、液晶領域と高
分子領域の色調の補正を別個に行うことができ、明るさ
の明るい液晶表示素子を作製することが可能となる。ま
た、１枚の位相差フィルムにより、リタデーション量の
異なる複数の色調を補正することが可能であり、生産性
に優れ、工業的にも有用である。
【０２２４】本発明（請求項１０）によれば、位相差フ
イルムを該一対の基板間に配置したので、該少なくとも
一方の基板外に位相差フイルムを配置したときに生ずる
視差を低減させることができ、これにより視認性の高い
液晶表示素子を作製することができる。
【０２２５】本発明（請求項１１）によれば、液晶を挟
持する一対の基板の少なくとも一方の基板を、液晶領域
に対応する部分と高分子領域に対応する部分とでリタデ
ーション量が異なる構造としたので、表示用セルを構成
する基板により、該液晶部と該高分子部の色調を補償す
ることができる。これにより、基板に含まれる重合性液
晶層である絶縁層が電極の液晶層とは反対側に位置する
ことから、基板間の液晶に効果的に電圧を印加すること
ができるので、液晶表示素子の消費電力の増加を低減す
ることができる。
【０２２６】本発明（請求項１２）によれば、上記両基
板のうち少なくとも一方の基板を、これを構成する重合
性液晶層により、該両基板間の液晶に対応する部分と、
該補強部材に対応する部分とでリタデーション量を異な
らせた構造としたので、該基板内に容易にリタデーショ
ン量の異なる領域を発生させて、簡単に該液晶部と該高
分子部の色調補正を行うことのできる基板を作製するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１による位相差フィルムの
構成を示す断面図である。
【図２】上記位相差フイルムの製造方法を説明するため
の断面図である。
【図３】本発明の実施の形態２による位相差フイルムの
構成を模式的に示す図である。
【図４】上記実施の形態２の位相差フィルムの作製方法
を説明するための図である。
【図５】本発明の実施の形態３による位相差フイルム及
びその製造方法について説明するための図である。
【図６】本発明の実施の形態４による液晶表示素子の構
造を示す断面図である。
【図７】上記実施の形態４の具体例である実施例６によ
る、ＳＴＮ液晶を用いた単純マトリクス型液晶表示素子
を説明するための図である。
【図８】上記実施の形態４の変形例である実施例８によ
る、ＳＴＮ液晶を用いた単純マトリクス型液晶表示素子
を説明するための図である。
【図９】液晶表示素子のＣＩＥに基づく明度Ｌ*、色度
ａ*，ｂ*と、色調の関係を示す図である。
【図１０】本発明の実施の形態５による液晶表示素子の
構造を示す断面図である。
【図１１】上記実施の形態４の具体例である実施例７と
して、位相差フィルムのリタデーション量の異なる領域
間でのリタデーション量の差を変えて作製した種々の液
晶表示素子について、該リタデーション量の差と、各液
晶表示素子におけるＣＩＥの色基準に基づく明度Ｌ*の
値との関係を示す図である。
【符号の説明】
１１ａ，１１ｂ，２１ａ，２１ｂ，３１ａ，３１ｂ 位
相差フィルム作製用基板 １２ａ，１２ｂ，２５ａ，２５ｂ，３３ａ，３３ｂ，５
６ レジスト膜 １３ａ，１３ｂ，２２ａ，２２ｂ，３２ａ，３２ｂ 配
向膜 １４，２６，３６，４９，５８ スペーサー １５，２７，３７，４５，５７ シール材 １８ 混合材料 ２３ａ，２３ｂ 蒸着膜 ２４ａ，２４ｂ，３５ａ，３５ｂ 有機分子膜 ２８ 液晶分子 ３４ａ，３４ｂ 下地膜 ４０，４０ａ 表示用セル ４１ａ，４１ｂ，５１ａ，５１ｂ 表示用セル作製用基
板 ４２ａ，４２ｂ，５２ａ，５２ｂ 電極 ４３，５４ 液晶領域 ４４，５３ 高分子壁（高分子領域） ４６ 絵素領域 ４７ 非絵素領域 ４８，１００，２００ 位相差フィルム ５１ 基板本体 ５５ 重合性液晶層 ５９ 表示媒体層 １０１ 凹部 １０２ 凸部 １１０，１２０，１３０ 位相差フィルム作製用セル １４０，１４０ａ，１４０ｂ，１５０ 液晶表示素子 １４１ａ，１４１ｂ 偏光板 １４２ 反射板 ２０１ 液晶分子のティルト角が小さい部分 ２０２ 液晶分子のティルト角が大きい部分

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 重合性液晶材料からなる位相差フィルム
    であって、 第１の平面パターンを有する第１の領域と、 第２の平面パターンを有し、該第１の領域とはその厚さ
    が異なる第２の領域とを有する位相差フィルム。
  2. 【請求項２】 相対向するよう配置された一対の基板間
    に重合性液晶材料を充填し、該両基板間で該重合性液晶
    材料を重合させて位相差フィルムを製造する方法であっ
    て、 該一対の基板の少なくとも一方として、該充填された重
    合性液晶材料と接する面に形成された、所定の平面パタ
    ーンに対応した凹部あるいは凸部を有するものを用いる
    位相差フイルムの製造方法。
  3. 【請求項３】 請求項２記載の位相差フイルムの製造方
    法において、 液体レジスト材料を用いて、前記一対の基板の少なくと
    も一方の重合性液晶材料と接する面に所定の平面パター
    ンに対応した凹部あるいは凸部を形成する位相差フイル
    ムの製造方法。
  4. 【請求項４】 請求項２記載の位相差フイルムの製造方
    法において、 ホトリソグラフィー技術によりパターニング可能なドラ
    イフィルムを用いて、前記一対の基板の少なくとも一方
    の重合性液晶材料と接する面に所定の平面パターンに対
    応した凹部あるいは凸部を形成する位相差フイルムの製
    造方法。
  5. 【請求項５】 重合性液晶材料からなる位相差フィルム
    であって、 第１の平面パターンを有する第１の領域と、 第２の平面パターンを有し、該重合性液晶材料の液晶分
    子のティルト角が該第１の領域とは異なる第２の領域と
    を有する位相差フィルム。
  6. 【請求項６】 請求項１または５記載の位相差フイルム
    において、 前記第１の領域と第２の領域とのリタデーション量の差
    がほぼ９０ｎｍ〜８００ｎｍである位相差フイルム。
  7. 【請求項７】 相対向するよう配置された一対の基板間
    に重合性液晶材料を充填し、該両基板間で該重合性液晶
    材料を重合させて位相差フィルムを製造する方法であっ
    て、 該一対の基板として、該充填された重合性液晶材料と接
    する面に選択的に形成された、シランカップリング剤か
    らなる薄膜、またはチオール基あるいはジスルフィド結
    合を有する有機分子からなる薄膜を有するものを用い、 該両基板の、該薄膜形成部と該薄膜非形成部とで該液晶
    分子のティルト角を異ならせる位相差フィルムの製造方
    法。
  8. 【請求項８】 液晶表示部を構成する対向配置された一
    対の基板と、 該両基板間に液晶とともに配置され、該液晶表示部に印
    加される機械的な外力に対する、透光性高分子材料から
    なる補強部材と、 両基板の少なくとも一方に沿って配置された、重合性液
    晶材料により構成された位相差フィルムとを備え、 該位相差フィルムは、 該両基板間の液晶に対応する部分と、該補強部材に対応
    する部分とでリタデーション量が異なるよう構成したも
    のである液晶表示素子。
  9. 【請求項９】 請求項８記載の液晶表示素子において、 前記位相差フィルムは、該両基板間の液晶に対応する部
    分と、該補強部材に対応する部分とで、その厚さあるい
    はその重合性液晶材料の液晶分子のティルト角が異なる
    ものである液晶表示素子。
  10. 【請求項１０】 請求項９記載の液晶表示素子におい
    て、 前記位相差フイルムは、前記一対の基板間に配置されて
    いる液晶表示素子。
  11. 【請求項１１】 液晶表示部を構成する対向配置された
    一対の基板と、 該両基板間に液晶とともに配置され、該液晶表示部に印
    加される機械的な外力に対する、透光性高分子材料から
    なる補強部材とを備え、 該両基板のうち少なくとも一方の基板は、 該両基板間の液晶に対応する部分と、該補強部材に対応
    する部分とでリタデーション量が異なるよう構成したも
    のである液晶表示素子。
  12. 【請求項１２】 請求項１１記載の液晶表示素子におい
    て、 前記両基板のうち少なくとも一方の基板は、重合性液晶
    層を有し、かつ、該重合性液晶層は、該両基板間の液晶
    に対応する部分と、前記補強部材に対応する部分とでそ
    の厚さあるいはその重合性液晶材料の液晶分子のチルト
    角が異なっているものである液晶表示素子。
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US08/695,014 US6067138A (en) 1995-08-11 1996-08-09 Retardation film and method for producing the same, and liquid crystal display device
KR1019960033328A KR100206445B1 (ko) 1995-08-11 1996-08-10 지연막 및 그 제조방법, 및 액정 표시 소자
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Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003040786A1 (fr) * 2001-11-08 2003-05-15 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Lamine avec couche a difference de phase et procede de fabrication
JP2006065306A (ja) * 2004-07-15 2006-03-09 Schott Ag パターン付き光学フィルタ層を基板上に作製する方法
JP2006308725A (ja) * 2005-04-27 2006-11-09 Sony Corp 光学補償シート及びその製造方法、偏光シート、並びに液晶表示装置
JP2006308724A (ja) * 2005-04-27 2006-11-09 Sony Corp 光学補償シート及びその製造方法、偏光シート、並びに液晶表示装置
US7253859B2 (en) 2002-12-13 2007-08-07 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Retardation element, display element comprising the same, and process of producing retardation element
JP2007219494A (ja) * 2006-02-15 2007-08-30 Lg Phillips Lcd Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP2008508543A (ja) * 2004-07-28 2008-03-21 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング パターン化リタデーションフィルムを含むトランスフレクティブｌｃｄ
JP2009086161A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Seiko Epson Corp 液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法並びに電子機器
US7589809B2 (en) 2002-01-28 2009-09-15 Seiko Epson Corporation Reflective plate, production method therefor, liquid crystal device, and electronic device
JP2009251530A (ja) * 2008-04-10 2009-10-29 Kaneka Corp 光学補償用塗布膜、光学素子および光学補償用塗布膜の製造方法
JP2010191969A (ja) * 2002-03-15 2010-09-02 Kimoto & Co Ltd 透明ハードコートフィルムおよび透明導電性ハードコートフィルム
US7907241B2 (en) 2005-12-02 2011-03-15 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
US8031309B2 (en) 2005-12-14 2011-10-04 Fujifilm Corporation Liquid crystal display device having retardation film on inside of substrate compensating for light of a particular wavelength
JP2013171286A (ja) * 2012-02-22 2013-09-02 Far Eastern New Century Corp 位相差板の製造方法
US8659711B2 (en) 2001-11-08 2014-02-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Phase difference layer laminated body for three dimensional liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP5520601B2 (ja) * 2007-06-15 2014-06-11 株式会社カネカ 光学素子、表示装置および光学デバイス
JP2021500630A (ja) * 2017-10-27 2021-01-07 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー パターン化された光学リターダ及びその製造方法

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001042339A (ja) 1999-08-02 2001-02-16 Minolta Co Ltd 液晶光変調素子
KR100663074B1 (ko) * 1999-12-31 2007-01-02 엘지.필립스 엘시디 주식회사 위상차층을 포함하는 반사투과형 액정표시장치
US7226916B1 (en) * 2000-05-08 2007-06-05 N.V. Nutricia Preparation for the prevention and/or treatment of vascular disorders
JP2003131031A (ja) * 2001-10-23 2003-05-08 Dainippon Printing Co Ltd 光学素子の製造方法および光学素子
US7355668B2 (en) * 2002-05-22 2008-04-08 Kent State University Polymer enhanced liquid crystal devices built with rigid or flexible substrates
GB2394718B (en) * 2002-09-05 2007-03-07 Merck Patent Gmbh Polymerised liquid crystal film with retardation pattern
JP2005003750A (ja) * 2003-06-10 2005-01-06 Dainippon Printing Co Ltd 柱状体を有する位相差制御板
KR100977226B1 (ko) 2003-12-30 2010-08-23 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
US20090122237A1 (en) * 2005-11-07 2009-05-14 Fujifilm Corporation Polymer film, method for producing polymer film, optical film and polarizing plate and liquid crystal display device using the same
KR101676313B1 (ko) 2010-05-31 2016-11-16 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 장치
US8644376B2 (en) 2010-09-30 2014-02-04 Alcatel Lucent Apparatus and method for generating compressive measurements of video using spatial and temporal integration
US9319578B2 (en) 2012-10-24 2016-04-19 Alcatel Lucent Resolution and focus enhancement
US9344736B2 (en) 2010-09-30 2016-05-17 Alcatel Lucent Systems and methods for compressive sense imaging
US9634690B2 (en) * 2010-09-30 2017-04-25 Alcatel Lucent Method and apparatus for arbitrary resolution video coding using compressive sampling measurements
US8929456B2 (en) * 2010-09-30 2015-01-06 Alcatel Lucent Video coding using compressive measurements
US9398310B2 (en) 2011-07-14 2016-07-19 Alcatel Lucent Method and apparatus for super-resolution video coding using compressive sampling measurements
US9600899B2 (en) 2013-12-20 2017-03-21 Alcatel Lucent Methods and apparatuses for detecting anomalies in the compressed sensing domain
US9563806B2 (en) 2013-12-20 2017-02-07 Alcatel Lucent Methods and apparatuses for detecting anomalies using transform based compressed sensing matrices
US9894324B2 (en) 2014-07-15 2018-02-13 Alcatel-Lucent Usa Inc. Method and system for modifying compressive sensing block sizes for video monitoring using distance information
JP2019045185A (ja) * 2017-08-30 2019-03-22 Dic株式会社 帯電インジケータ
CN111381396B (zh) 2018-12-28 2024-01-09 中强光电股份有限公司 显示装置与光学补偿模块
CN114967241B (zh) * 2022-04-11 2023-06-09 汕头大学 一种多组分复合体系的光驱液晶光调控器的制备方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5699384A (en) * 1980-01-09 1981-08-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Liquid crystal image display unit
JPS59201021A (ja) * 1983-04-28 1984-11-14 Canon Inc 光学変調素子の製造法
US5473450A (en) * 1992-04-28 1995-12-05 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device with a polymer between liquid crystal regions
JPH0743707A (ja) * 1993-07-30 1995-02-14 Sharp Corp 液晶表示装置及びその製造方法
US5499126A (en) * 1993-12-02 1996-03-12 Ois Optical Imaging Systems, Inc. Liquid crystal display with patterned retardation films
JP3216869B2 (ja) * 1995-02-17 2001-10-09 シャープ株式会社 液晶表示素子およびその製造方法
JPH0968699A (ja) * 1995-08-31 1997-03-11 Sharp Corp 感光性フィルムおよびその製造方法、並びにそれを用いた液晶パネルおよびその製造方法

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8659711B2 (en) 2001-11-08 2014-02-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Phase difference layer laminated body for three dimensional liquid crystal display device and manufacturing method thereof
WO2003040786A1 (fr) * 2001-11-08 2003-05-15 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Lamine avec couche a difference de phase et procede de fabrication
US8659738B2 (en) 2001-11-08 2014-02-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Phase difference layer laminated body for three dimensional liquid crystal display device and manufacturing method thereof
US7411645B2 (en) 2001-11-08 2008-08-12 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Phase difference layer laminated body and manufacturing method thereof
US7589809B2 (en) 2002-01-28 2009-09-15 Seiko Epson Corporation Reflective plate, production method therefor, liquid crystal device, and electronic device
JP2010191969A (ja) * 2002-03-15 2010-09-02 Kimoto & Co Ltd 透明ハードコートフィルムおよび透明導電性ハードコートフィルム
US7253859B2 (en) 2002-12-13 2007-08-07 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Retardation element, display element comprising the same, and process of producing retardation element
US7495731B2 (en) 2002-12-13 2009-02-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Retardation element, display element comprising the same, and process of producing retardation element
JP2006065306A (ja) * 2004-07-15 2006-03-09 Schott Ag パターン付き光学フィルタ層を基板上に作製する方法
JP2008508543A (ja) * 2004-07-28 2008-03-21 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング パターン化リタデーションフィルムを含むトランスフレクティブｌｃｄ
JP2006308724A (ja) * 2005-04-27 2006-11-09 Sony Corp 光学補償シート及びその製造方法、偏光シート、並びに液晶表示装置
JP2006308725A (ja) * 2005-04-27 2006-11-09 Sony Corp 光学補償シート及びその製造方法、偏光シート、並びに液晶表示装置
US7907241B2 (en) 2005-12-02 2011-03-15 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
US8031309B2 (en) 2005-12-14 2011-10-04 Fujifilm Corporation Liquid crystal display device having retardation film on inside of substrate compensating for light of a particular wavelength
JP4664893B2 (ja) * 2006-02-15 2011-04-06 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド 液晶表示装置及びその製造方法
JP2007219494A (ja) * 2006-02-15 2007-08-30 Lg Phillips Lcd Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
JP5520601B2 (ja) * 2007-06-15 2014-06-11 株式会社カネカ 光学素子、表示装置および光学デバイス
JP2009086161A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Seiko Epson Corp 液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法並びに電子機器
JP2009251530A (ja) * 2008-04-10 2009-10-29 Kaneka Corp 光学補償用塗布膜、光学素子および光学補償用塗布膜の製造方法
JP2013171286A (ja) * 2012-02-22 2013-09-02 Far Eastern New Century Corp 位相差板の製造方法
JP2021500630A (ja) * 2017-10-27 2021-01-07 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー パターン化された光学リターダ及びその製造方法

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Publication number Publication date
KR100206445B1 (ko) 1999-07-01
US6356324B1 (en) 2002-03-12
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