SE509429C2 - Gobo samt förfarande för framställning av gobo - Google Patents

Description

15 20 25 30 5 0 9 4 2 9 2 ritningsfigtrrer, i vilka ekvivalenta eller liknande delar givits samma hänvisningsbeteckning.

Fig. 1 visar schematiskt en sidovy av en flerfärgsgobo enligt en utföringsforrn av föreliggande uppfirming.

Fig. 2 visar schematiskt en planvy av flerfärgsgobon enligt fig 1.

Flerfárgsgobon enligt fig 1 och 2 är cirkulärt utformad för att kunna användas i en sk profilstrålkastare för projicering av ett flerfärgsmönster.

Det flerfärgsmönster som skall projiceras färgseparas och rastreras på inom tryckeribranschen känt sätt, varvid resultatet blir en uppsättning enfärgskomponenter.

Färgseparationen utförs t ex i en dator med lärnplig programvara. De färger som bilden skall separeras i anges och separerings- och rastreringsoperationen utförs. Resultatet blir vad som här benämns enfärgskomponeneter, vilka är en uppsättning av mönster, ett för varje färg, som mönsterförlagan är separerad i. Enlärgskomponentema kan vanligen väljas att återges antingen positivt eller negativt. Vilket som är att föredra beror av kommande steg i förfarandet. Färgstyrkan återges genom varierande punkttätliet, enligt känd rastreringstelmik.

Såsom framgår av figurerna innefattar gobon ett flertal på varandra anordnade slcivforrniga och transparenta substrat 2, 3, 4. Substraten, som i föreliggande utföringsform uppvisar en tjocklek av ca 0,1 mm, är här av glas, men även andra transparenta och värmetåliga substratmaterial kan användas.

På vart och ett av substraten är på en yta anordnat en dikroitisk ytbeläggning för bildande av ett färgfilter. Varje tärggivande ytbeläggning uppvisar entärgskomponentens mönster och genom punkttätlieten möjliggörs ett ätergivande av tärgstyrkan.

Vid tärgseparation erhålls ett kontrastmönster. För kontrasten är det inte aktuellt med en dikroitbeläggning, utan en totalblockerande ytbeläggning. Denna ytbeläggning, som i ñgurema är deponerad på substrat 1, ges kontrastens mönsterkomponent i den färdiga flerfargsgobon.

För att stabilisera gobon och underlätta dess intästning i projektorn är i föreliggande utföringsform substratet 1 utfört till diameter och materialtjocklek större än de övriga substraten.

För att minska gobons känslighet för yttre påverkan kan med fördel subslraten orienteras sä att inget av substraten i monterat läge uppvisar en ytbeläggning riktat utåt.

Med hänvisning till fig l kan t ex grundsubstratet l uppvisa kontrastmönstret på den mot Akuuz: P33l87SEO0fIK 10 15 20 25 30 509 429 3 substratet 2 vända ytan. Substratet 2 kan uppvisa sitt enfärgsmönster i ytbeläggningen vänd mot substratet 3. Substratet 3 kan uppvisa sitt entärgsmönster i ytbeläggningen vänd mot substratet 4. Substratet 4 bör dock för att undvika att ytbelâggningen repas eller skadas vara orienterat så att ytbeläggningen med enfärgsmönsteret är vänt mot substratet 3. Notera dock att om något av substraten vänds så att ytbeläggningen befinner sig på annan sida än de övriga, som i detta fallet substratet 4, måste mönstret i dikroitbeläggningen spegelvändas för att passas in i de övriga mönsterkomponentema på rätt sätt.

När flerfärgsgobon monteras samman kan - om dessa överförts till substraten - passmärken användas för inriktning av substraten så att mönsterkomponenterna blir kongruenta. Enligt en föredragen utföringsforrn uppvisar substraten olika diameter beroende på vilken färg ytskiktet transmitterar. En anledning är att underlätta fixeringen av substraten på varandra. Substraten sammanfogas ett efter ett sedan mönsterkomponentema har inriktats över varandra. När rätt läge intagits kan det övre substratet om det uppvisar en mindre ytterdiameter än underliggande substrat enkelt limmas fast utefter kanten och mot ovansidan av underliggande substrat. Om limfogen skulle skjuta upp något över substratkariten hindrar detta ej inriktningen av nästkommande substrat om detta i sin tur upppvisar en ytterligare något mindre ytterdiameter. Limfogen bereder inga större problem även om substraten har samma diameter när substraten uppvisar tjocklekar över 1 mm, men risken för att limfogen eller annat fixermedel kan hindra efterkommande substrat ökan när substratetens materialtjocklek minskas.

För att behålla skärpa i den projicerade bilden får avståndet inte vara för stort mellan den första och den sista mönsterkomponenten. Försök har givit att avståndet mellan första och sista mönstergivande ytbeläggningen bör understiga 1 mm. I föreliggande utföringsform är avståndet ca 0,2 mm. Avståndet beror av tjockleken hos substraten 2 och 3 samt hos de dikroitiska skilcten.

Grundsubstratet 1 med en materialtjocklek av ca 1 mm uppvisar på sin ovansida en totalt ljusblockerande beläggning av aluminium i kontrastens mönster. Ytbeläggningens tjocklek är ca 0,4 um.

Substraten 2 till 4 har en materialtjocklek av ca 0,1 mm och är belagda med en ytbeläggníng som reflekterar ett bestämt ljusvåglängdsintervall. Ljusvåglängdsintervallen som de olika ytbeläggningama reflelaerar motsvarar komplementtärgerna till de färger som önskas transmitterat genom íärgfiltret. Såleden om substraten skall fungera som fárgfilter Aktnn: P33l87SE00ffK 10 15 20 25 30 509 429 4 och transmittera, släppa genom, tex gult ljus skall ytbeläggningen optimeras att reflektera ljus i våglängdsintervallet för det gula ljusets komplementtärg som är blå. På motsvarande sätt transmitteras färgen cyan om ytskiktet reflekterar röd och transmiterar magenta om grön reflekteras.

I föreliggande utföringsform utgör tärgema cyan, magenta och gul tillsammans med kontrastkomponenten de fárgmönsterkoinponenter som flerFargsmönstret separeras i.

Framställningen av en flerfärgsgobo sker enligt föreliggande utföringsform, genom att flerfärgsmönstret iärgssepareras tex i en dator med lämplig programvara åstadkommande en uppdelning av flerlärgsmönstret i ett bestämt antal enfärgsmönster.

Dessa enfärgsmönster överförs sedan till dikroitiska ytbeläggningar på skivformiga och transparenta substrat, vilka dikroitiska ytbeläggningar transmitterar ljus med den färg som resp. enfärgsmönster skall återge. Slutligen anordnas substiaten med entärgsmönstren i linje på varandra för, varvid en genomlysning av aggregatet återger 5 flerfargsmönstret.

De fárgseparerade och rastrerade mönstren överförs till filmer, en ñlm per enfärgsmönster. Överföringen av entärgsmönstren till ytbelâggningarna kan företrädesvis ske medelst litograñ. Enligt en utföringsform kan ytbelâggningen förses med ett fotoresistskikt som därefter exponeras, tex genom kontalctkopiering, med sina resp filmer. Exponeringen kan ske medelst UV-ljus eller liknande beroende på vald fotoresist. När fotoresisten framkallats kan substratet placeras i ett bad där ytbeläggningen etsas bort i de punkter där den ej skyddas av fotoresisten. l en annan utföringsform kan en bläckstråleslcrivare eller plotter eller liknande direkt skriva ut, applicera, mönstret med en etsskyddande substans direkt på substratets dikroitiska ytbelâggning, som därefter kan etsas för frambringande av entärgsmönstret i ytbelâggningen.

I en ytteligare utföringsform kan en laserstråle användas för att bränna ut enñrgsmönstet i dikroitbeläggningen.

Den dikroitiska ytbelâggning är uppbyggd genom omväxlande skikt med högt och lågt brytningsindex.

Det första skiktet närmast substratet uppvisar ett högre brytningsindex än det andra skiktet och det dikroitiska skikten uppvisar en optisk tjocklek motsvarande en fjärdedel av ljusvåglängden för den färg som önskas reflekterad. Det sist deponerade skiktet i Aktnr. : P33 1 87SE00lTK 509 429 5 ytbeläggningen uppvisar dock företrädesvis en optisk tjocklek motsvarande halva ljusváglängden för den färg som önskas reflekterad.

Med högre brytningsindex menas ett brytningsindex överstigande 2 och med lägre brytningsindex uppvisar ett brytningsindex understigande 1,6.

Skikten innefattar vanligtvis kvarts respektive titandioxid och totalt kan den dikroitiska belâggningen innefattar fler än 10- skikt, företrädesvis 16 skikt (dvs 8 skiktpar). -.--__--- --------- __- Aktnr. : P33 1 87SE00fl'K

Claims (12)

10 15 20 25 30 509 429 6 Patentkrav

1. l. F örfarande för fiarnställning av flerfargsgobo, k ä n n e t e c k n a t a v att utifrån önskat flerfargsmönster utföra fargseparation och rastrering, enligt någon för t ex tryckning känd teknik, åstadkommande en uppdelning av flerfargsmönstret i ett bestämt antal enfargsmönster, att varje enfargsmönster överförs till en den egna färgens komplementfarg reflekterande dikroitisk ytbeläggning på ett skivforrnigt transparent substrat och att substraten anordnas på varandra för återgivning av flerfargsmönstret.

2. Förfarande enligt krav 1, k ä n n et e c k n a t a v att ett etsskyddande skikt uppvisande enfargsmönsteret anbringas dikroitbeläggningen, att dikroitskiktet etsas för frambringande av enfärgsmönstret.

3. Förfarande enligt krav 2, k ä n n et e c k n a t a v att ett fotoresistskikt anbringas på dikroitbeläggiiingen, att enfargsmönstret ljusexponeras mot fotoresistskikt, att fotoresistskiktet fiamkallas samt att beläggningen etsas frambringande enfärgsmönstret i ytbeläggningen.

4. Förfarande enligt krav 2, k ä n n et e c k n a t a v att det etsskyddande skiktet anbringas av en skrivare ansluten till ett fargsepareringsprograrn.

5. Gobo för projicering av ett mönster i flerfarg, k ä n n e t e c k n a d a v att mönstrets fargseparerade och rastrerade enfargkomponenter är i gobon var och en återgiven i en mot respektive farg svarande dikroitisk ytbeläggning anordnad på ett transparent substrat.

6. Gobo enligt krav 5, k ä n n e t e c k n a d a v att gobon innefattar ett flertal på varandra anordnade skivformiga och transparenta substrat (1, 2 , 3 , 4), att det på vart och ett är anordnat en dikroitisk ytbeläggning för bildande av ett fargfilter, att kombinationer av fargfiltren är i stånd att återge flerfärgsmönstrets färger, att respektive fárggivande ytbcläggning uppvisar ett mönster överensstämrnande med mönstret for motsvarande I - fargkomponent i flerfargsmönstret.

7. Gobo enligt krav 5 eller 6, k ä n n e t e c k n a d a v att gobon vidare innefattar ett substrat (1) uppvisande en totalblockerande ytbeläggning i ett mönster motsvarande flerfargsmönstrets kontraster och varje substrat uppvisar en ytbeläggning vid endast en sida.

8. Goboenligtnågotavkravenóoch7, kännetecknad av attminstettavde skivforrniga substraten uppvisar en tjocklek understigande 0,2 mrn, företrädesvis ca 0,1 mm. Akmn: P33 1 87SE00/TK 10 15 20 25 7 509 429

9. Gobo enligt något av kraven 5 till 8, k ä n n e t e c k n a d a v att avståndet mellan det första och det sista mönstergivande planen i gobon understiger 1 mm, företrädesvis ca 0,2 mm.

10. Goboenligtnågotavkraven5till9,kännetecknad av attgobon innefattar ett första substrat (1) med en materialtjocklek av ca 1 mm och en totalblockerande beläggning uppvisande kontrastens mönster, att på det första substratet är anordnat ytterligare substrat (2, 3, 4) vart och ett uppvisande en materialtjocklek av ca 0,1 mm och en ytbeläggning som reflekterar ett bestämt ljusvåglängdsintervall, att ljusvâglängdsintervallen motsvarar ljusvåglängdema för komplementfargema till de färger i vilka flerfargsmönstret separerats, samt att ytbeläggningama uppvisar respektive enfärgsmönstret.

11. Goboenligtnågotavkravenótill10,kännetecknad av attpådet transparenta skivformiga substratet är medelst vaccumförångliingstekriik deponerad en dikroitisk ytbeläggiiing, innefattande omväxlande skikt med högt och lågt brytningsindex åstadkommande en reflektion av infallande ljus av ett bestämt våglängdsintervall och transmission av övriga infallande våglängder, varvid bildas ett fargfilter. 12. Gobo enligtkrav 11, k ännet ecknad av att på den dikroitiska beläggningen är anordnat ett fotoresistskikt. 13. Gobo enligt något av föregående krav 5 till 12, k ä n n e t e c k n a d a v att det forsta skiktet närmast substratet uppvisar ett högre brytningsindex än det andra skiktet, att det dikroitiska skikten uppvisar en optisk tjocklek motsvarande en íjärdedel av ljusvåglängden för den färg som önskas reflekterad och att det sist deponerade skiktet i ytbeläggiiingen uppvisar en optisk tjocklek motsvarande halva ljusvåglängden för den färg som önskas reflekterad.

12. Gobo enligt något av föregående krav 11 till 13, k ä n n e t e c k n a d av att de dikroitiska skikten uppvisande högre brytningsindex uppvisar ett brytningsindex överstigande 2, att de dikroitiska skikten uppvisande lägre brytningsindex uppvisar ett brytningsindex understigande 1,6, att de dikroitiska skikten innefattar kvarts respektive titandioxid, samt att den dikroitiska beläggningen innefattar fler än 10 skikt, företrädesvis 16 skikt. Aktnr; P33 1 8781200/1' K