JPH02244102A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
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- JPH02244102A JPH02244102A JP1065251A JP6525189A JPH02244102A JP H02244102 A JPH02244102 A JP H02244102A JP 1065251 A JP1065251 A JP 1065251A JP 6525189 A JP6525189 A JP 6525189A JP H02244102 A JPH02244102 A JP H02244102A
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
固体撮像素子等に使用するカラーフィルタの製造方法に
関し、 カラーフィルタのパターン精度や歩留りを向上するとと
もに、染料温度等の管理の手間を省くことを目的とし、 着色した第１のレジスト膜を下地の上に形成する工程と
、感光波長が前記第１のレジスト膜と異なる第２のレジ
スト膜を前記第１のレジスト膜の上方に形成する工程と
、該第２のレジスト膜を露光、現像してパターン化する
工程と、パターン化を終えた上記第２のレジスト膜をマ
スクに使用して上記第１のレジスト膜をエツチングする
工程と、該エツチング工程の後に上記第２のレジスト膜
を剥離する工程とを含み構成する。
関し、 カラーフィルタのパターン精度や歩留りを向上するとと
もに、染料温度等の管理の手間を省くことを目的とし、 着色した第１のレジスト膜を下地の上に形成する工程と
、感光波長が前記第１のレジスト膜と異なる第２のレジ
スト膜を前記第１のレジスト膜の上方に形成する工程と
、該第２のレジスト膜を露光、現像してパターン化する
工程と、パターン化を終えた上記第２のレジスト膜をマ
スクに使用して上記第１のレジスト膜をエツチングする
工程と、該エツチング工程の後に上記第２のレジスト膜
を剥離する工程とを含み構成する。
本発明は、カラーフィルタの製造方法に関し、より詳し
くは、固体撮像素子等に使用するカラーフィルタの！！
遣方法に関する。
くは、固体撮像素子等に使用するカラーフィルタの！！
遣方法に関する。
固体撮像素子上にカラーフィルタを形成する場合には、
ゼラチンやカゼインよりなる複数色のカラーフィルタを
ガラス基板上にモザイク状に形成した後、カラーフィル
タを固体１像素子に貼合わせることが行われている。ま
た、直接、固体撮像素子上に形成される場合もある。
ゼラチンやカゼインよりなる複数色のカラーフィルタを
ガラス基板上にモザイク状に形成した後、カラーフィル
タを固体１像素子に貼合わせることが行われている。ま
た、直接、固体撮像素子上に形成される場合もある。
このカラーフィルタを形成する場合は、第２図に示すよ
うに、例えば重クロム酸塩を添加したゼラチン３０をス
ピンコードによってガラス基板３１に塗布しく同図（ａ
））、この上からマスク３２をかけて紫外線により露光
した後に、１５〜２０°Ｃ程度の温度の純水で現像する
と（同図（ｂ））、露光された領域だけにゼラチン膜３
０が残存することになる（同図（ｃ））、これにより、
ゼラチン膜３０はパターン化される。
うに、例えば重クロム酸塩を添加したゼラチン３０をス
ピンコードによってガラス基板３１に塗布しく同図（ａ
））、この上からマスク３２をかけて紫外線により露光
した後に、１５〜２０°Ｃ程度の温度の純水で現像する
と（同図（ｂ））、露光された領域だけにゼラチン膜３
０が残存することになる（同図（ｃ））、これにより、
ゼラチン膜３０はパターン化される。
そして、このゼラチン膜を６０〜９０°Ｃ程度の温度の
液体染料Ａ中に浸漬して、ゼラチン膜３０を膨潤させ、
その中に染料Ａを染み込ませて着色するようにしている
。
液体染料Ａ中に浸漬して、ゼラチン膜３０を膨潤させ、
その中に染料Ａを染み込ませて着色するようにしている
。
ところで、液体染料Ａを使用する着色方法によれば、着
色工程において膨潤したゼラチン膜３０を乾燥させて元
の大きさに戻さなければならないが、膨潤と乾燥の工程
を経た膜３０はパターン精度が低下するといった不都合
があるし、また、着色時の染料温度や濃度の管理等を適
正に行ってカラーフィルタ毎の明度、彩度等のバラツキ
を防止する必要があり手間がかかるといった問題がある
。
色工程において膨潤したゼラチン膜３０を乾燥させて元
の大きさに戻さなければならないが、膨潤と乾燥の工程
を経た膜３０はパターン精度が低下するといった不都合
があるし、また、着色時の染料温度や濃度の管理等を適
正に行ってカラーフィルタ毎の明度、彩度等のバラツキ
を防止する必要があり手間がかかるといった問題がある
。
さらに、液状の染料を使用する場合には、染料容器３２
から離脱した不純物が染料とともにゼラチン膜３０の内
外に侵入し易くなり、この不純物がカラーフィルタの欠
陥を発生させるため、歩留りが低下するといった問題が
ある。
から離脱した不純物が染料とともにゼラチン膜３０の内
外に侵入し易くなり、この不純物がカラーフィルタの欠
陥を発生させるため、歩留りが低下するといった問題が
ある。
もとより、予めゼラチンやカゼインに染料を混入する方
法も考えられるが、ゼラチンやカゼインに入れた染料が
紫外光を吸収してしまい（特に赤外系）、ゼラチンが露
光工程において硬化しなくなってパターン化が不可能に
なるため、このような方法は一般に採用されていない。
法も考えられるが、ゼラチンやカゼインに入れた染料が
紫外光を吸収してしまい（特に赤外系）、ゼラチンが露
光工程において硬化しなくなってパターン化が不可能に
なるため、このような方法は一般に採用されていない。
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであって
、カラーフィルタのパターン精度や歩留りを向上すると
ともに、着色の均一化が図れカラーフィルタ作成工程を
有する固体体装置の製造方法を提供することを目的とす
る。
、カラーフィルタのパターン精度や歩留りを向上すると
ともに、着色の均一化が図れカラーフィルタ作成工程を
有する固体体装置の製造方法を提供することを目的とす
る。
上記した課題は、着色した第１のレジスト膜２を下地１
の上に形成する工程と、感光波長が前記第１のレジスト
膜２と異なる第２のレジストＩｆｉ４を前記第１のレジ
スト膜２の上方に形成する工程と、該第２のレジストＩ
Ｆ！４を露光、現像してパターン化する工程と、パター
ン化を終えた上記第２のレジスト１１！４をマスクに使
用して上記第１のレジスト膜２をエツチングする工程と
、該エツチング工程の後に上記第２のレジスト膜４を剥
離する工程とを有することを特徴とするカラーフィルタ
の製造方法により解決する。
の上に形成する工程と、感光波長が前記第１のレジスト
膜２と異なる第２のレジストＩｆｉ４を前記第１のレジ
スト膜２の上方に形成する工程と、該第２のレジストＩ
Ｆ！４を露光、現像してパターン化する工程と、パター
ン化を終えた上記第２のレジスト１１！４をマスクに使
用して上記第１のレジスト膜２をエツチングする工程と
、該エツチング工程の後に上記第２のレジスト膜４を剥
離する工程とを有することを特徴とするカラーフィルタ
の製造方法により解決する。
本発明において、例えばガラス基板や固体犠像素子を下
地１とし、この上に、色素を含有した第１のレジスト膜
２を形成する。また、この第１のレジスト膜２とは感光
波長が異なる第２のレジストｌ！！４を第１のレジスト
膜２の上に直接又は中間膜を介して形成する。
地１とし、この上に、色素を含有した第１のレジスト膜
２を形成する。また、この第１のレジスト膜２とは感光
波長が異なる第２のレジストｌ！！４を第１のレジスト
膜２の上に直接又は中間膜を介して形成する。
このように感光波長の異なるレジスト膜を２Ｎに形成し
た後に、第２のレジスト膜４を露光、現像してパターン
化する。このパターンの形状としては、例えばモザイク
状に散点させたものがある。
た後に、第２のレジスト膜４を露光、現像してパターン
化する。このパターンの形状としては、例えばモザイク
状に散点させたものがある。
この場合、第１のレジスト膜２としてはＥＢレジストや
ＤＵＶレジストがあり、第２のレジスト膜４としては通
常の紫外線により露光されるノボラック系レジスト膜が
ある。
ＤＵＶレジストがあり、第２のレジスト膜４としては通
常の紫外線により露光されるノボラック系レジスト膜が
ある。
そして、この上記第２のレジスト膜４をマスクとして使
用し、上記第１のレジスト膜２を現像剤等によってエツ
チングする。
用し、上記第１のレジスト膜２を現像剤等によってエツ
チングする。
これにより、第１のレジスト膜２のうち、第２のレジス
ト膜４から露出した領域だけが除去されることになり、
この結果、第２のレジストｌｌ！４のパターンを第１の
レジストＩｌ！２に転写したことになる。
ト膜４から露出した領域だけが除去されることになり、
この結果、第２のレジストｌｌ！４のパターンを第１の
レジストＩｌ！２に転写したことになる。
この後で、第２のレジスト！！！４を剥離すると、下地
の上には、着色された第１のレジスト膜２が残存するこ
とになり、これをカラーフィルタの１色素として使用す
る。
の上には、着色された第１のレジスト膜２が残存するこ
とになり、これをカラーフィルタの１色素として使用す
る。
このような工程を各色毎に行い、ＲＧＢ等のカラーフィ
ルタを製造することになる。なお、ＲＧＢの原色系のカ
ラーフィルター以外にＣｙ（シアン）、Ｍｇ（マゼンタ
）、 Ｙｅ （イエロー）の補色系のカラーフィルター
も同様に行うことができる。
ルタを製造することになる。なお、ＲＧＢの原色系のカ
ラーフィルター以外にＣｙ（シアン）、Ｍｇ（マゼンタ
）、 Ｙｅ （イエロー）の補色系のカラーフィルター
も同様に行うことができる。
以下に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は、本発明の一実施例を断面で示す工程図で、図
中符号１は、ガラス等の透明材よりなる基板で、この基
板１の上には、ＰＧＭ＾、ＰＭＭ＾、ＰＭＩＰＫ等の無
色透明のネガ型ＥＢレジストを着色した膜２が０．５〜
１μｍの膜厚に形成されており、また、この上にはＳｏ
Ｇ膜３及びノボラック系のフォトレジスト膜４がそれぞ
れ０．１〜０．３ｕｎ、０゜５〜１μｍの厚さに形成さ
れている。この場合、５ＯＧ１１３は、已Ｂレジスト１
ＩＩ２の保１ｇ！、２つのレジスト膜２．４の混入防止
のために設けられる。
中符号１は、ガラス等の透明材よりなる基板で、この基
板１の上には、ＰＧＭ＾、ＰＭＭ＾、ＰＭＩＰＫ等の無
色透明のネガ型ＥＢレジストを着色した膜２が０．５〜
１μｍの膜厚に形成されており、また、この上にはＳｏ
Ｇ膜３及びノボラック系のフォトレジスト膜４がそれぞ
れ０．１〜０．３ｕｎ、０゜５〜１μｍの厚さに形成さ
れている。この場合、５ＯＧ１１３は、已Ｂレジスト１
ＩＩ２の保１ｇ！、２つのレジスト膜２．４の混入防止
のために設けられる。
次に、カラフィルタ−に配列される各色素のパターンの
うち赤（Ｒ）のパターンを形成する場合について説明す
る。
うち赤（Ｒ）のパターンを形成する場合について説明す
る。
まず、第１図（ａ）に示すように、赤の色素を２〜６％
程度に添加溶解したＥＢレジストＢ２を基板１上にスピ
ナーにより塗布し、９０〜２００ ’Ｃでブレベークす
る。
程度に添加溶解したＥＢレジストＢ２を基板１上にスピ
ナーにより塗布し、９０〜２００ ’Ｃでブレベークす
る。
そして、この上にＳＯＧ膜３及びフォトレジストＭ！４
を形成した状態において、フォトレジスト膜４の上方に
レチクル等のマスク５をかけてその上から紫外線ＵＶを
照射した後、パターンを形成しない領域のフォトレジス
ト膜４をアルカリ性の現像液によって除去する（第１図
（ｂ） ）。
を形成した状態において、フォトレジスト膜４の上方に
レチクル等のマスク５をかけてその上から紫外線ＵＶを
照射した後、パターンを形成しない領域のフォトレジス
ト膜４をアルカリ性の現像液によって除去する（第１図
（ｂ） ）。
この後に、フッ化水素（ＩＰ）のようなフッ素系ガスを
用いてプラズマエツチングすると（第１図（Ｃ））、フ
ォトレジスト膜４から露出したＳＯＧ膜３がエツチング
されてレジストＰ４のパターンが転写されることになる
（第１図（ｄ））。
用いてプラズマエツチングすると（第１図（Ｃ））、フ
ォトレジスト膜４から露出したＳＯＧ膜３がエツチング
されてレジストＰ４のパターンが転写されることになる
（第１図（ｄ））。
この段階では、ネガ型のＥＢレジスト膜２は感光されて
いないので、有機系のＥＢレジスト現像液により溶解可
能な状態となっているため、このＥＢレジスト膜２を現
像液によりエツチングすると、ＳＯＧ膜３と同様なパタ
ーンが形成される（第１図（ｅ））。
いないので、有機系のＥＢレジスト現像液により溶解可
能な状態となっているため、このＥＢレジスト膜２を現
像液によりエツチングすると、ＳＯＧ膜３と同様なパタ
ーンが形成される（第１図（ｅ））。
この後に、フォトレジスト膜４を酸素プラズマ等により
灰化してこれを除去すると、第１図（ｆ）に示すように
、パターニングされたＥＢレジストｌＩ！２が、カラー
フィルタのうちの赤色のパターンを構成することになる
。
灰化してこれを除去すると、第１図（ｆ）に示すように
、パターニングされたＥＢレジストｌＩ！２が、カラー
フィルタのうちの赤色のパターンを構成することになる
。
この次に、青又は緑のパターンを形成する工程に移るが
、赤色のＥＢレジスト膜２を保護するために、この上に
ＳＯＧよりなる分離７１６を形成する（第１図（ｇ））
。
、赤色のＥＢレジスト膜２を保護するために、この上に
ＳＯＧよりなる分離７１６を形成する（第１図（ｇ））
。
そして、分離層６の上に青又は緑に着色した第２のネガ
型ＥＢレジスト膜７を形成しく第１図（ｈ））、赤色の
ＥＢレジスト膜２と同様な工程により第２のＥＢレジス
ト膜７をパターン化する（第１図（ｉ））、また、これ
らの工程を各色毎に繰り返すことにより、カラーフィル
タが完成する。
型ＥＢレジスト膜７を形成しく第１図（ｈ））、赤色の
ＥＢレジスト膜２と同様な工程により第２のＥＢレジス
ト膜７をパターン化する（第１図（ｉ））、また、これ
らの工程を各色毎に繰り返すことにより、カラーフィル
タが完成する。
なお、上記した実施例では已Ｂレジストにネガ型を使用
したが、ポジ型を使用することも可能である。この場合
には予め電子ビームで全体を露光する必要がある。
したが、ポジ型を使用することも可能である。この場合
には予め電子ビームで全体を露光する必要がある。
また、着色されたレジストは、ＥＢレジストに限るもの
ではなく、［）ＵＶ （遠紫外）レジスト等のようにノ
ボラック系フォトレジストと感光波長が異なる着色済み
レジストを使用することもできる。
ではなく、［）ＵＶ （遠紫外）レジスト等のようにノ
ボラック系フォトレジストと感光波長が異なる着色済み
レジストを使用することもできる。
さらに、本実施例ではフィルタを基板１上に形成したが
、固体襦像素子上に直接形成することもできる。
、固体襦像素子上に直接形成することもできる。
上記したように本発明によれば、色素を含有した第１の
レジスト膜を下地の上に形成するとともに、第１のレジ
スト膜とは感光波長が異なる第２のレジスト膜を第１の
レジス）１１１の上に直接又は中間膜を介して形成する
ようにしたので、第２のレジスト膜を露光、現像してこ
れをマスクとして使用することにより、この第２のレジ
スト膜から露出した第１のレジスト膜を除去してパター
ン化し、これをフィルタとして使用することができ、フ
ィルタのパターン精度を向上するとともにその歩留りを
高めることができる。
レジスト膜を下地の上に形成するとともに、第１のレジ
スト膜とは感光波長が異なる第２のレジスト膜を第１の
レジス）１１１の上に直接又は中間膜を介して形成する
ようにしたので、第２のレジスト膜を露光、現像してこ
れをマスクとして使用することにより、この第２のレジ
スト膜から露出した第１のレジスト膜を除去してパター
ン化し、これをフィルタとして使用することができ、フ
ィルタのパターン精度を向上するとともにその歩留りを
高めることができる。
第１図（ａ）〜（ｉ）は、本発明の一実施例を断面で示
す工程図、 第２図（ａ）〜（ｄ）は、従来方法を断面で示す工程図
である。 （符号の説明） ■・・・基板、 ２・・・ＥＢレジスト膜（第１のレジスト）、３・・・
ＳＯＧ膜、 ４・・・フォトレジスト膜（第２のレジスト）５・・・
マスク、 ６・・・分離層。 出 願 人 富士通株式会社
す工程図、 第２図（ａ）〜（ｄ）は、従来方法を断面で示す工程図
である。 （符号の説明） ■・・・基板、 ２・・・ＥＢレジスト膜（第１のレジスト）、３・・・
ＳＯＧ膜、 ４・・・フォトレジスト膜（第２のレジスト）５・・・
マスク、 ６・・・分離層。 出 願 人 富士通株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 着色した第１のレジスト膜を下地の上に形成する工程と
、 感光波長が前記第１のレジスト膜と異なる第２のレジス
ト膜を前記第１のレジスト膜の上方に形成する工程と、 該第２のレジスト膜を露光、現像してパターン化する工
程と、 パターン化を終えた上記第２のレジスト膜をマスクに使
用して上記第１のレジスト膜をエッチングする工程と、 該エッチング工程の後に上記第２のレジスト膜を剥離す
る工程とを有することを特徴とするカラーフィルタの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6525189A JP2714646B2 (ja) | 1989-03-17 | 1989-03-17 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6525189A JP2714646B2 (ja) | 1989-03-17 | 1989-03-17 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02244102A true JPH02244102A (ja) | 1990-09-28 |
| JP2714646B2 JP2714646B2 (ja) | 1998-02-16 |
Family
ID=13281501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6525189A Expired - Lifetime JP2714646B2 (ja) | 1989-03-17 | 1989-03-17 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2714646B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010160212A (ja) * | 2009-01-06 | 2010-07-22 | Toshiba Corp | 選択的な光透過特性を有する金属薄膜複合体およびその製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59171909A (ja) * | 1983-03-19 | 1984-09-28 | Canon Inc | 微細色フイルタ−の製造方法 |
| JPS642002A (en) * | 1987-06-24 | 1989-01-06 | Fujitsu Ltd | Formation of solid color image pick up element |
| JPS6420504A (en) * | 1987-07-15 | 1989-01-24 | Nec Corp | Production of semiconductor device |
-
1989
- 1989-03-17 JP JP6525189A patent/JP2714646B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2714646B2 (ja) | 1998-02-16 |
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