JPS63159810A - カラ−フイルタの製造方法 - Google Patents
カラ−フイルタの製造方法Info
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- JPS63159810A JPS63159810A JP61309544A JP30954486A JPS63159810A JP S63159810 A JPS63159810 A JP S63159810A JP 61309544 A JP61309544 A JP 61309544A JP 30954486 A JP30954486 A JP 30954486A JP S63159810 A JPS63159810 A JP S63159810A
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明はカラー液晶ＴＶなどに用いるカラーフィルタ
の製造方法に関するもので、とりわけ、ブラックストラ
イプ付きのカラーフィルタの製造方法に関するものであ
る。
の製造方法に関するもので、とりわけ、ブラックストラ
イプ付きのカラーフィルタの製造方法に関するものであ
る。
［従来の技術］
従来、赤、緑、青の３原色のカラーフィルタを設けた液
晶表示素子が知られており、そこでのカラーフィルタと
して、表示コントラストの向上や色純度の向上のため、
あるいは、アモルファスシリコンＴＰＴ （薄膜トラン
ジスタ）を形成する場合は光照射によるＴＰＴの特性劣
化を防ぐ目的で、いわゆるブラックストライプを設ける
ことがおこなわれている。
晶表示素子が知られており、そこでのカラーフィルタと
して、表示コントラストの向上や色純度の向上のため、
あるいは、アモルファスシリコンＴＰＴ （薄膜トラン
ジスタ）を形成する場合は光照射によるＴＰＴの特性劣
化を防ぐ目的で、いわゆるブラックストライプを設ける
ことがおこなわれている。
［発明が解決しようとする問題点コ
従来のブラックストライプの形成方法として、ブラック
ストライプを形成する工程をカラーフィルタを形成する
工程と別におこなっていた。したがって、そのぶん工程
が多くなり、ブラックストライプとカラーフィルタの位
置合せ等の細かい作業が増えていた。またカラーフィル
タ用とは別にブラックストライプを形成するための高価
なフォトマスクも必要で、したがってカラーフィルタの
価格は高くなっていた。
ストライプを形成する工程をカラーフィルタを形成する
工程と別におこなっていた。したがって、そのぶん工程
が多くなり、ブラックストライプとカラーフィルタの位
置合せ等の細かい作業が増えていた。またカラーフィル
タ用とは別にブラックストライプを形成するための高価
なフォトマスクも必要で、したがってカラーフィルタの
価格は高くなっていた。
［問題点を解決するための手段］
この発明は上記従来例における問題点を解決するための
もので、透明基板の上に遮光性薄膜を形成し、これをエ
ツチングしてレリーフ画像を形成し、この上に感光性樹
脂を塗布して基板の裏面より露光して、染色部を形成し
、この染色部の形成工程を繰り返して複数の染色部をパ
ターン形成して、各染色部間に残った遮光性薄膜により
ブラックストライプを形成したカラーフィルタの製造方
法を提供するものである。
もので、透明基板の上に遮光性薄膜を形成し、これをエ
ツチングしてレリーフ画像を形成し、この上に感光性樹
脂を塗布して基板の裏面より露光して、染色部を形成し
、この染色部の形成工程を繰り返して複数の染色部をパ
ターン形成して、各染色部間に残った遮光性薄膜により
ブラックストライプを形成したカラーフィルタの製造方
法を提供するものである。
［実施例コ
第１図において、ガラスなどの透明な基板１上にクロム
Ｏｒなどの遮光性薄膜２をスパッタなどの方法により０
．１μｍ程度の厚さに形成する。
Ｏｒなどの遮光性薄膜２をスパッタなどの方法により０
．１μｍ程度の厚さに形成する。
次にその」二にポジ型フォトレジスト層３をスピンコー
ドなどにより１μｍ程度の厚さに形成する。
ドなどにより１μｍ程度の厚さに形成する。
そしてフォトマスク４を用いて第２図示のように上から
露光する。レジスト３を現像して、露出した遮光性膜２
の部分をエツチングしてレリーフ画像を形成する（第３
図）。ついでその上に染色可能な感光性樹脂膜５を塗布
により形成する。ここに用いる感光性樹脂としては重ク
ロム酸アンモニウム添加ゼラチン水溶液などを用いうる
。この基板１に対して裏面より露光させる（第４図）。
露光する。レジスト３を現像して、露出した遮光性膜２
の部分をエツチングしてレリーフ画像を形成する（第３
図）。ついでその上に染色可能な感光性樹脂膜５を塗布
により形成する。ここに用いる感光性樹脂としては重ク
ロム酸アンモニウム添加ゼラチン水溶液などを用いうる
。この基板１に対して裏面より露光させる（第４図）。
この場合、遮光性薄膜２はマスクの作用をしていること
になる。現像して残った感光性樹脂を染色し５て、たと
えば赤色染色部Ｒを形成する（第５図）。
になる。現像して残った感光性樹脂を染色し５て、たと
えば赤色染色部Ｒを形成する（第５図）。
以後−１−記第２図から第５図について述べたプロセス
と同様なプロセスを繰り返して他の色の染色部、たとえ
ば緑色染色部Ｇをパターン形成する。
と同様なプロセスを繰り返して他の色の染色部、たとえ
ば緑色染色部Ｇをパターン形成する。
すなわちこの基板１の上に再び上記フォトレジスト３と
同じものを塗布し、上記フォトマスク４をずらして露光
する（第６図）。レジスト３をエツチング後、遮光性薄
膜２をエツチングしてレリーフ画像を形成する（第７図
）。再び感光性樹脂５を塗布して裏面より露光する（第
８図）。現像して残った部分を緑色に染色して緑色染色
部Ｇを形成する（第９図）。再び同様な工程を繰返して
他の染色部をパターン形成する。すなわち、フォトレジ
スト３を塗布してフォトマスク４をずらして露光しく第
１０［１）、レジスト３を現像して遮光性薄膜２をエツ
チングして、その上から感光性樹脂を塗布し、裏面から
露光し、この感光性樹脂を現像後染色して青色染色部Ｂ
を形成する（第１１図）。そして最後に、残ったフォト
レジスト３を剥離して、表面にポリイミド、ポリアミド
などの透明保護膜６を形成してカラーフィルタを完成す
る（第１２図）。染色部ＲＳＧ％Ｂ間には残った遮光性
薄膜２によりブラックストライプ７が形成されている。
同じものを塗布し、上記フォトマスク４をずらして露光
する（第６図）。レジスト３をエツチング後、遮光性薄
膜２をエツチングしてレリーフ画像を形成する（第７図
）。再び感光性樹脂５を塗布して裏面より露光する（第
８図）。現像して残った部分を緑色に染色して緑色染色
部Ｇを形成する（第９図）。再び同様な工程を繰返して
他の染色部をパターン形成する。すなわち、フォトレジ
スト３を塗布してフォトマスク４をずらして露光しく第
１０［１）、レジスト３を現像して遮光性薄膜２をエツ
チングして、その上から感光性樹脂を塗布し、裏面から
露光し、この感光性樹脂を現像後染色して青色染色部Ｂ
を形成する（第１１図）。そして最後に、残ったフォト
レジスト３を剥離して、表面にポリイミド、ポリアミド
などの透明保護膜６を形成してカラーフィルタを完成す
る（第１２図）。染色部ＲＳＧ％Ｂ間には残った遮光性
薄膜２によりブラックストライプ７が形成されている。
」−２実施例で遮光性膜エツチング後にフォトレジスト
３の付いたまま感光性樹脂５を塗布しているが、感光性
樹脂の塗布前にフォトレジストを了り離しておいてもよ
い。
３の付いたまま感光性樹脂５を塗布しているが、感光性
樹脂の塗布前にフォトレジストを了り離しておいてもよ
い。
また−色染色ごとにレジストを剥離してよいのはもちろ
んであるが、ポジタイプのフォトレジストを使用すれば
、染色後も剥離しないで、前のレジストの上から再度フ
ォトレジストを塗布してバターニングができるので、最
終染色後にまとめてレジストを剥離することができる。
んであるが、ポジタイプのフォトレジストを使用すれば
、染色後も剥離しないで、前のレジストの上から再度フ
ォトレジストを塗布してバターニングができるので、最
終染色後にまとめてレジストを剥離することができる。
さらに各染色後にタンニン酸および酒石酸アンチモニウ
ムカリウム水溶液等により、防染処理を施せばフォトレ
ジストを新たに塗布しないでも１回目に塗布したフォト
レジストにより２色１」、３色目のバターニングも可能
である。
ムカリウム水溶液等により、防染処理を施せばフォトレ
ジストを新たに塗布しないでも１回目に塗布したフォト
レジストにより２色１」、３色目のバターニングも可能
である。
なお他の実施例として染色可能な感光性樹脂の代りに、
あらかじめ染料や顔料を添加して着色した感光性樹脂を
用いてもよく、この場合は染色工程が省略出来るのでよ
り効果的である。
あらかじめ染料や顔料を添加して着色した感光性樹脂を
用いてもよく、この場合は染色工程が省略出来るのでよ
り効果的である。
［発明の効果］
この発明によるカラーフィルタの製造方法によれば、カ
ラーフィルタの製造と同時にブラックストライプが形成
できるので、ブラックストライプとカラーフィルタの位
置合せがなく工程が簡単になる。またブラックストライ
プ用の高価なフォトマスクも不要になり、カラーフィル
タの価格を低減することができる。 しかもパターニ
ング精度は、はぼフォトレジストの解像度（約数μｍ）
で決るので、固体撮像素子用などの１０μｍ前後のパタ
ーンも精度よく形成できる。
ラーフィルタの製造と同時にブラックストライプが形成
できるので、ブラックストライプとカラーフィルタの位
置合せがなく工程が簡単になる。またブラックストライ
プ用の高価なフォトマスクも不要になり、カラーフィル
タの価格を低減することができる。 しかもパターニ
ング精度は、はぼフォトレジストの解像度（約数μｍ）
で決るので、固体撮像素子用などの１０μｍ前後のパタ
ーンも精度よく形成できる。
図面はこの発明の実施例を示し、第１図〜１２図は製造
工程を追って示す断面図である。 １・・・基板、 ２・・・遮光性薄膜 ５・・・感光性樹脂 ７・・・ブラックストライプ Ｒ・・・赤色染色部 Ｇ・・・緑色染色部 Ｂ・・・青色染色部 以上
工程を追って示す断面図である。 １・・・基板、 ２・・・遮光性薄膜 ５・・・感光性樹脂 ７・・・ブラックストライプ Ｒ・・・赤色染色部 Ｇ・・・緑色染色部 Ｂ・・・青色染色部 以上
Claims (2)
- （１）透明な基板の上に遮光性薄膜を形成する工程と、
上記遮光性薄膜をエッチングしてレリーフ画像を形成す
る工程と、次いで該レリーフ画像を形成した基板の上に
染色可能な感光性樹脂を塗布し、基板の裏面より露光し
た後、上記感光性樹脂の非露光部分を取除いて残された
露光部分を染色して染色部を形成する工程と、上記レリ
ーフ画像の形成から染色部の形成までの工程を繰り返し
て複数の色の染色部をパターン形成する工程とを含み、
各染色部間に残った遮光性薄膜によりブラックストライ
プを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方
法。 - （２）透明な基板の上に遮光性薄膜を形成する工程と、
上記遮光性薄膜をエッチングしてレリーフ画像を形成す
る工程と、次いで該レリーフ画像を形成した基板の上に
着色された感光性樹脂を塗布し、基板の裏面より露光し
た後、上記感光性樹脂の非露光部分を取除いて残された
部分で染色部を形成する工程と、上記レリーフ画像の形
成から染色部の形成までの工程を繰り返して複数の色の
染色部をパターン形成する工程とを含み、各染色部間に
残った遮光性薄膜によりブラックストライプを形成する
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30954486A JPH0713682B2 (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30954486A JPH0713682B2 (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63159810A true JPS63159810A (ja) | 1988-07-02 |
| JPH0713682B2 JPH0713682B2 (ja) | 1995-02-15 |
Family
ID=17994294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30954486A Expired - Lifetime JPH0713682B2 (ja) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0713682B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02157728A (ja) * | 1988-12-09 | 1990-06-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置のスペーサ形成方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5417627A (en) * | 1977-07-11 | 1979-02-09 | Dainippon Printing Co Ltd | Method of producing color stripe filter |
-
1986
- 1986-12-24 JP JP30954486A patent/JPH0713682B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5417627A (en) * | 1977-07-11 | 1979-02-09 | Dainippon Printing Co Ltd | Method of producing color stripe filter |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02157728A (ja) * | 1988-12-09 | 1990-06-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置のスペーサ形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0713682B2 (ja) | 1995-02-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |