JPH07107564B2 - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

カラーフィルタの製造方法

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JPH07107564B2
JPH07107564B2 JP30954286A JP30954286A JPH07107564B2 JP H07107564 B2 JPH07107564 B2 JP H07107564B2 JP 30954286 A JP30954286 A JP 30954286A JP 30954286 A JP30954286 A JP 30954286A JP H07107564 B2 JPH07107564 B2 JP H07107564B2
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JP
Japan
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photocurable
color filter
dyeable resin
black stripe
dyed
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Inventor
政則 藤田
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株式会社精工舎
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • G02F1/133516Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明はカラー液晶TVなどに用いるカラーフィルタの
製造方法に関するもので、とりわけ、ブラックストライ
プ付きのカラーフィルタの製造方法に関するものであ
る。
[従来の技術] 従来、赤、緑、青の3原色のカラーフィルタを設けた液
晶表示素子が知られており、そこでのカラーフィルタと
して、表示コントラストの向上や色純度の向上のため、
あるいは、アモルファスシリコンTFT(薄膜トランジス
タ)を形成する場合は光照射によるTFTの特性劣化を防
ぐ目的で、いわゆるブラックストライプを設けることが
行われている。
[発明が解決しようとする問題点] 従来のブラックストライプの形成方法として、ブラック
ストライプを形成する工程をカラーフィルタを形成する
工程と別におこなっていた。したがって、そのぶん工程
が多くなり、ブラックストライプとカラーフィルタの位
置合せ等の細かい作業が増えていた。またカラーフィル
タ用とは別にブラックストライプを形成するための高価
なフォトマスクも必要で、これらのことはカラーフィル
タの価格に反映していた。
[問題点を解決するための手段] この発明は上記従来例における問題点を解決するための
もので、透明な基板上に防染処理をほどこした染色部を
ブラックストライプ用領域を除いて設け、基板全面に光
硬化型可染性樹脂を塗布、乾燥し、その後、基板の裏側
より上記光硬化型可染性樹脂の感光波長域のうち染色部
が透過する波長域の光をカットするフィルターを用いて
露光、現像し、光硬化型可染性樹脂の未露光の部分を除
去し、光硬化型可染性樹脂の残った部分を黒色に染色し
てブラックストライプを形成するものである。
[実施例] 第2図において、ガラスなどの透明な基板1上にゼラチ
ンなどの可染性樹脂膜により、ブラックストライプを形
成すべき領域2を除いて、赤色染色部R、緑色染色部
G、青色染色部Bがそれぞれパターン形成されている。
このパターン形成方法としては、例えば、基板1上に光
硬化型可染性樹脂を塗布、乾燥した後、周知のフォトリ
ソグラフィー技術により、露光現像して、上記可染性樹
脂をパターニングしてこれを染色し、さらにタンニン酸
および酒石酸アンチモニルカリウム水溶液で防染処理を
するという工程を繰返すことによって形成する。このパ
ターニングの際、各色の部分R、G、Bを所定領域2の
間隔をもって形成する。なお防染処理の手段としては、
上記の外、防染性樹脂を染色部の上に塗布する等の方法
や、200℃以上に加熱する等の方法でもよい。
つぎに、その上にゼラチンに重クロム酸アンモニゥムを
加えた光硬化型可染性樹脂3を塗布、乾燥する。そして
基板1の裏側に、上記光硬化型可染性樹脂の感光波長域
の約250〜520nmのうち染色部R、G、Bが透過する波長
域の光をカット、すなわち吸収、または反射するような
フィルタ4を用いてマスクアライナの高圧水銀灯で露光
する。すなわちこの場合、染色部R、G、Bはマスクの
役をしていることになる。第3図のように、各染色部
R、G、Bの波長域がある場合には400nm以上の光をカ
ットして400nm未満の光を通すショートパスフィルタを
用いればよい。温水で現像すると、各染色部R、G、B
上の可染性樹脂3が除去され、染色部R、G、Bの間の
ブラックストライプに対応した所定領域部分2には可染
性樹脂が残る。これを黒色の染色浴につけて染色してブ
ラックストライプ5を形成する(第1図)。
なお第3図において350nm付近から赤色染色部Rの透過
光がみられるが、一般に使用されるガラスは350nm位か
ら透過率が下り、300nm以下はほとんど透過しないの
で、赤色の染色部R上に可染性樹脂が残ることはない。
上記実施例では、赤、緑、青の3色によるカラーフィル
タであるが、色の選択はこれに限るものではなく、可視
域に透過特性の持ち紫外部(300nm〜400nm)を吸収する
ような色であればどんな色でもよく、また何色でも適用
可能である。
[発明の効果] この発明によるカラーフィルタの製造方法によれば、カ
ラーフィルタ染色部分をマスクにして露光することによ
り、ブラックストライプのパターニングができるので、
ブラックストライプとカラーフィルタの位置合せがな
く、しかもブラックストライプ用の高価なフォトマスク
も不要になり、カラーフィルタの価格を低減することが
できる。
また染色部の間が可染性樹脂で埋るので、表面の凹凸が
少なくなり、後工程で電極パターンを形成して液晶基板
として用いた場合において、電極膜の断線や液晶の配向
不良が生じることがなくなる。
【図面の簡単な説明】
図面はこの発明の実施例を示し、第1図はカラーフィル
タの断面図、第2図は製造方法を示す断面図、第3図は
染色部の透過波長特性を示す特性図である。 1…基板、2…ブラックストライプ用領域、3…光硬化
型可染性樹脂、4…フィルタ、5…ブラックストライ
プ、R,G,B…染色部。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明な基板上に防染処理をほどこした染色
    部をブラックストライプ用領域を除いて設け、 上記基板全面に光硬化型可染性樹脂を塗布、乾燥し、 その後、上記基板の裏側より上記光硬化型可染性樹脂の
    感光波長域のうち上記染色部が透過する波長域の光をカ
    ットするフィルターを用いて露光、現像し、上記光硬化
    型可染性樹脂の未露光の部分を除去し、 上記光硬化型可染性樹脂の残った部分を黒色に染色する ことを特徴とするブラックストライプ付きのカラーフィ
    ルタの製造方法。
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