JPH03287103A - カラーフィルターの形成法 - Google Patents
カラーフィルターの形成法Info
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 12
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 11
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical group OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000005262 ferroelectric liquid crystals (FLCs) Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
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- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
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- Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、２要式ＳＴＮ （スーパーツイストネマチッ
ク）方式、フィルム補償型ＳＴＮ方式などノーマリーグ
ークの方式を有する液晶表示素子のカラー化の際に用い
られるカラーフィルターの形成法に関する。
ク）方式、フィルム補償型ＳＴＮ方式などノーマリーグ
ークの方式を有する液晶表示素子のカラー化の際に用い
られるカラーフィルターの形成法に関する。
［従来の技術］
液晶表示素子の著しい進歩により近年パーソナルコンピ
ューターの端末表示としてカラー液晶表示素子を用いる
事がさかんに行なわれている。この液晶表示素子の方式
には大きく分けて２つの方式がある。１つは画素１個ご
とにＴＰＴ （導膜トランジスター）やダイオードなど
の能動素子を形成したアクティブマトリクス方式であり
、もう１つは液晶素子の急峻なしきい値特性を利用した
単純マトリクス方式である。
ューターの端末表示としてカラー液晶表示素子を用いる
事がさかんに行なわれている。この液晶表示素子の方式
には大きく分けて２つの方式がある。１つは画素１個ご
とにＴＰＴ （導膜トランジスター）やダイオードなど
の能動素子を形成したアクティブマトリクス方式であり
、もう１つは液晶素子の急峻なしきい値特性を利用した
単純マトリクス方式である。
この単純マトリクス方式については、現在実用化されて
いる２層式ＳＴＮ方式やフィルム補償型ＳＴＮ方式の他
、強誘電性液晶を用いる方式などが考えられているが、
いずれの場合ち急峻なしきい値特性を表示エリア全面で
均一に保ち良好な画質を得る為に、高い平坦度を有する
基板が必要となる。この単純マトリクス方式でカラー表
示を得る為には同様に高い平坦度を有するカラーフィル
ターの形成法が不可欠になっている。
いる２層式ＳＴＮ方式やフィルム補償型ＳＴＮ方式の他
、強誘電性液晶を用いる方式などが考えられているが、
いずれの場合ち急峻なしきい値特性を表示エリア全面で
均一に保ち良好な画質を得る為に、高い平坦度を有する
基板が必要となる。この単純マトリクス方式でカラー表
示を得る為には同様に高い平坦度を有するカラーフィル
ターの形成法が不可欠になっている。
このカラーフィルターの形成技術には、印刷法、染色法
、電着法などが考えられて来たが近年ネガ型レジスト材
料中に顔料を分散して調整されたカラーレジストをフォ
ト法によりパターン形成するカラーレジスト方式が実用
段階を迎えつつある。このカラーレジスト方式は印刷法
に較べ位置精度や平坦性が優れ、染色法に較べ耐熱性や
耐光性に優れ、電着法に較ベパターンの自由度、コスト
面で優れており、近年色相の改良や液の安定性などの問
題点ち解決され本命技術と目されるようになっている。
、電着法などが考えられて来たが近年ネガ型レジスト材
料中に顔料を分散して調整されたカラーレジストをフォ
ト法によりパターン形成するカラーレジスト方式が実用
段階を迎えつつある。このカラーレジスト方式は印刷法
に較べ位置精度や平坦性が優れ、染色法に較べ耐熱性や
耐光性に優れ、電着法に較ベパターンの自由度、コスト
面で優れており、近年色相の改良や液の安定性などの問
題点ち解決され本命技術と目されるようになっている。
しかし、このカラーレジスト方式を用いてカラーフィル
ターを形成する際に、従来のカラーフィルター形成技術
を用いても高平坦で安価なカラフィルタ−を作る事は出
来ない。従来のカラーフィルターの形成技術の１つは、
各画素間の隙間部に複数の色相のカラーレジストを重ね
て形成する事により遮光層を形成させる方法であるが、
この方法では重なった部分と重なりのない部分の段差が
大きく、安価ではあるが高平坦な平面は得られない。第
１図にこの重ね方式のカラーフィルターの断面図を示す
。ここて透明基板１０１の上に第１形成画素１０２を設
けた後、第２形成画素１０３を重なり部１０５を設けな
がら形成し、さらに第３形成画素１０４を重なり部１０
６．１０７を設けながら形成する事により、重なり部が
画素部の厚みとほぼ同程度の厚さで突出する。この方式
ではこのカラーフィルター上に設けられる平坦化膜を厚
膜化したり研磨したりしなければ高平坦な平面は得られ
ずコストアップの要因となってしまう。
ターを形成する際に、従来のカラーフィルター形成技術
を用いても高平坦で安価なカラフィルタ−を作る事は出
来ない。従来のカラーフィルターの形成技術の１つは、
各画素間の隙間部に複数の色相のカラーレジストを重ね
て形成する事により遮光層を形成させる方法であるが、
この方法では重なった部分と重なりのない部分の段差が
大きく、安価ではあるが高平坦な平面は得られない。第
１図にこの重ね方式のカラーフィルターの断面図を示す
。ここて透明基板１０１の上に第１形成画素１０２を設
けた後、第２形成画素１０３を重なり部１０５を設けな
がら形成し、さらに第３形成画素１０４を重なり部１０
６．１０７を設けながら形成する事により、重なり部が
画素部の厚みとほぼ同程度の厚さで突出する。この方式
ではこのカラーフィルター上に設けられる平坦化膜を厚
膜化したり研磨したりしなければ高平坦な平面は得られ
ずコストアップの要因となってしまう。
従来のカラーフィルターの形成技術の他の一つは各画素
間の隙間部に遮光用のブラックマスクをあらかしめ形成
しその上に各色相の画素を形成する方式であるが、この
場合ブラックマスクをカラレジストのようなちので形成
しては第１図に示した重なり部の突出が避けられない為
、第２図に示す様な薄膜の遮光層２０１を形成する必要
がある。この方式では遮光層２０１をメタルの蒸着で形
成しフォト法でパターン化しなければならずコストアッ
プとなるばかりか、遮光層上の各画素の隙間部による段
差が発生し重ね方式と同様、このカラーフィルター上に
設ける平坦化膜の負荷を大きくする原因となる。
間の隙間部に遮光用のブラックマスクをあらかしめ形成
しその上に各色相の画素を形成する方式であるが、この
場合ブラックマスクをカラレジストのようなちので形成
しては第１図に示した重なり部の突出が避けられない為
、第２図に示す様な薄膜の遮光層２０１を形成する必要
がある。この方式では遮光層２０１をメタルの蒸着で形
成しフォト法でパターン化しなければならずコストアッ
プとなるばかりか、遮光層上の各画素の隙間部による段
差が発生し重ね方式と同様、このカラーフィルター上に
設ける平坦化膜の負荷を大きくする原因となる。
［発明が解決しようとする課題］
本発明では、前記、従来方式のカラーフィルタ形成法の
平坦性の問題点を解決し、安価で高平坦なカラーフィル
ターを提供する事を目的とする。
平坦性の問題点を解決し、安価で高平坦なカラーフィル
ターを提供する事を目的とする。
［課題を解決するための手段］
ネガ型レジスト材料中に顔料を分散して調整されたカラ
ーレジストを用い少なくと６２色以上の色相の画素を形
成してなるカラーフィルターにおいて、第３図（Ｂ）３
０４に示す最後に塗膜される色相のカラーレジスト膜を
、第３図（Ａ）に示す既に形成された他の色相の画素１
０２．１０３を有する透明基板１０１の裏面より露光す
る事（第３図（Ｂ）３０１に示す）により、第３図（Ｃ
）の１０４．３０２のような画素間のすべての隙間を最
終に形成された色相のカラーレジストて埋めた事により
高い平坦性を得た事を特徴とする。
ーレジストを用い少なくと６２色以上の色相の画素を形
成してなるカラーフィルターにおいて、第３図（Ｂ）３
０４に示す最後に塗膜される色相のカラーレジスト膜を
、第３図（Ａ）に示す既に形成された他の色相の画素１
０２．１０３を有する透明基板１０１の裏面より露光す
る事（第３図（Ｂ）３０１に示す）により、第３図（Ｃ
）の１０４．３０２のような画素間のすべての隙間を最
終に形成された色相のカラーレジストて埋めた事により
高い平坦性を得た事を特徴とする。
この方式において、第３図（Ｂ）に示すように裏側から
露光する際に、最後に形成される画素１０４の厚さを、
既に形成された画素１０２．１０３の厚さにそろえるた
め、膜１０４を所望の厚さまで感光させるべく調整する
事によりさらに高平坦化した事を特徴とする。
露光する際に、最後に形成される画素１０４の厚さを、
既に形成された画素１０２．１０３の厚さにそろえるた
め、膜１０４を所望の厚さまで感光させるべく調整する
事によりさらに高平坦化した事を特徴とする。
またこの方式において、第３図３０１に示すように裏側
から露光した際に、既に形成された画素１０２．１０３
を通過して、最後に塗膜されたカラーレジストＩＩＩ
３０４が感光されないよう、露光光源の波長のうち既に
形成された画素１０２．１０３を通過する波長の光を選
択的にカットするフィルターを露光光源と透明基板の間
に設ける事により、既に形成された画素１０２，１０３
の上に最後に塗膜されたカラーレジストの残膜が形成さ
れないようにした事を特徴とする。
から露光した際に、既に形成された画素１０２．１０３
を通過して、最後に塗膜されたカラーレジストＩＩＩ
３０４が感光されないよう、露光光源の波長のうち既に
形成された画素１０２．１０３を通過する波長の光を選
択的にカットするフィルターを露光光源と透明基板の間
に設ける事により、既に形成された画素１０２，１０３
の上に最後に塗膜されたカラーレジストの残膜が形成さ
れないようにした事を特徴とする。
〔実 施 例１
（１）本発明の実施に際し、カラーレジストの材料は冨
士ハントエレクトロニクステクノロジ株式会社製のもの
を用いた。このカラーレジストは商品名カラーモザイク
と言い、青色のものはＣＢＶ、赤色のちのはＣＲＹ、緑
色のものがＣＧＹという名称を有する。このカラーレジ
ストの中に含まれるネガ型レジスト材料はアクリル系感
光性樹脂であり空気中の酸素による阻害効果がある為、
酸素遮断膜（富士ハントエレクトロニクステクノロジー
株式会社製 商品名ＣＰ）を被膜した後に露光させる事
が必要でありその際、ＣＢＶ、ＣＲＹ、ＣＧＹは、それ
ぞれ、１０〜３０ｍｊ／ｃｍ２の高い感度を示す。また
露光用光源には超高圧水銀灯を用いた。また透明基板に
はソーダガラスを用いた。
士ハントエレクトロニクステクノロジ株式会社製のもの
を用いた。このカラーレジストは商品名カラーモザイク
と言い、青色のものはＣＢＶ、赤色のちのはＣＲＹ、緑
色のものがＣＧＹという名称を有する。このカラーレジ
ストの中に含まれるネガ型レジスト材料はアクリル系感
光性樹脂であり空気中の酸素による阻害効果がある為、
酸素遮断膜（富士ハントエレクトロニクステクノロジー
株式会社製 商品名ＣＰ）を被膜した後に露光させる事
が必要でありその際、ＣＢＶ、ＣＲＹ、ＣＧＹは、それ
ぞれ、１０〜３０ｍｊ／ｃｍ２の高い感度を示す。また
露光用光源には超高圧水銀灯を用いた。また透明基板に
はソーダガラスを用いた。
第１の実施例においては、上記透明ガラス基板上にまず
、赤色、緑色の２色のカラーフィルター画素を表側から
露光してストライブ上に形成し最後に青色のカラーレジ
スト膜を裏側から露光して形成する方式について述べる
。
、赤色、緑色の２色のカラーフィルター画素を表側から
露光してストライブ上に形成し最後に青色のカラーレジ
スト膜を裏側から露光して形成する方式について述べる
。
ＣＲＹをスピンコーターで塗膜し、７０℃２分プレベー
クした後、フォトマスクを介して超高圧水銀灯のＵＶ光
を１０〜３０ｍｊ照射し、アルカノ系現像液（富士ハン
トエレクトロニクステクノロジー株式会社製 商品名Ｃ
Ｄ）を用い現像し、乾燥、焼成した後、ＣＧＹを同様な
プロセスによりＣＲＹの画素の横に１０〜３０μｍの間
隔をもって形成した。この順番はＣＲＹが先てＣＧＹが
後でもまったく同等である。ＣＲＹ、ＣＧＹ、ＣＥＶの
短波長側の透過率を第４図に示す。４０１はＣＢＶ、４
０２はＣＲＹ、４０３はＣＧＹの分光透過率を示す。ま
た、ＣＲＹは３３０〜４１５ｎｍに、ＣＧＹは３３０−
４０５ｎｍに、そしてＣＢＶは３５０〜４２０ｎｍに感
光帯を有している事から、ＣＲＹとＣＧＹが形成された
透明基板の裏側から露光すると、超高圧水銀灯の３６５
ｎｍの光は、ＣＲＹを透過してくる事になる。そこで４
０４に示す分光透過率を有するＵＶカットフィルターを
光源とガラス基板の中間に設けてやる事てＣＲＹを透過
する光の多くを選択的にカットする事が出来る。このフ
ィルターを用い、スピンコーク−でＣＢＶを塗布しプレ
ベーク処理した基板について表示の見切りまでのエリア
全域に渡りフォトマスクを介し裏側より露光し現像・焼
成する事により第５図（Ａ）に示す平坦なカラーフィル
ターを作る事が出来た。裏面露光の際の露光量はＣＢＶ
上にＣＰを被膜したもので２０〜１００ｍｊ／ｃｍ”
、ＣＰを被月莫しないもので、１５０〜３００ｍｊ／ｃ
ｍ２の間てＣＲＹ、ＣＧＹ画素上のＣＢＶ残膜のない好
ましい表面状態が得られた。またＣＢＶ上にＣＰを被膜
しない状態で１５０〜２００ｍｊ／付近、ｃｐを被膜し
た状態では２０〜３０ ｍ ｊ ／ ｃ ｍ ２の露光
により第５図（Ｂ）に示す突起のない平坦な表面を得る
事が出来た。
クした後、フォトマスクを介して超高圧水銀灯のＵＶ光
を１０〜３０ｍｊ照射し、アルカノ系現像液（富士ハン
トエレクトロニクステクノロジー株式会社製 商品名Ｃ
Ｄ）を用い現像し、乾燥、焼成した後、ＣＧＹを同様な
プロセスによりＣＲＹの画素の横に１０〜３０μｍの間
隔をもって形成した。この順番はＣＲＹが先てＣＧＹが
後でもまったく同等である。ＣＲＹ、ＣＧＹ、ＣＥＶの
短波長側の透過率を第４図に示す。４０１はＣＢＶ、４
０２はＣＲＹ、４０３はＣＧＹの分光透過率を示す。ま
た、ＣＲＹは３３０〜４１５ｎｍに、ＣＧＹは３３０−
４０５ｎｍに、そしてＣＢＶは３５０〜４２０ｎｍに感
光帯を有している事から、ＣＲＹとＣＧＹが形成された
透明基板の裏側から露光すると、超高圧水銀灯の３６５
ｎｍの光は、ＣＲＹを透過してくる事になる。そこで４
０４に示す分光透過率を有するＵＶカットフィルターを
光源とガラス基板の中間に設けてやる事てＣＲＹを透過
する光の多くを選択的にカットする事が出来る。このフ
ィルターを用い、スピンコーク−でＣＢＶを塗布しプレ
ベーク処理した基板について表示の見切りまでのエリア
全域に渡りフォトマスクを介し裏側より露光し現像・焼
成する事により第５図（Ａ）に示す平坦なカラーフィル
ターを作る事が出来た。裏面露光の際の露光量はＣＢＶ
上にＣＰを被膜したもので２０〜１００ｍｊ／ｃｍ”
、ＣＰを被月莫しないもので、１５０〜３００ｍｊ／ｃ
ｍ２の間てＣＲＹ、ＣＧＹ画素上のＣＢＶ残膜のない好
ましい表面状態が得られた。またＣＢＶ上にＣＰを被膜
しない状態で１５０〜２００ｍｊ／付近、ｃｐを被膜し
た状態では２０〜３０ ｍ ｊ ／ ｃ ｍ ２の露光
により第５図（Ｂ）に示す突起のない平坦な表面を得る
事が出来た。
（２）第２実施例においては、上記透明ガラス基板上に
まず、青色、緑色の２色のカラーフィルタ画素を表側か
ら露光してストライブ状に形成し最後に赤色のカラーレ
ジスト膜を裏側がら露光して形成する方式について述べ
る。
まず、青色、緑色の２色のカラーフィルタ画素を表側か
ら露光してストライブ状に形成し最後に赤色のカラーレ
ジスト膜を裏側がら露光して形成する方式について述べ
る。
実施例（１）と同様にして形成されたＣＧＹ、ＣＢＶの
カラーフィルターの上にＣＲＹを塗膜しプレベークした
後、光源とガラス基板の間に第４図４０５に示す分光透
過率を有する干渉フィルタを介入させ、ＣＲＹ上にＣＰ
を被膜したちので１５〜１００ｍｊ、ＣＰを被膜しない
もので１２０〜３００ｍ ｊ ／ ｃ ｍ ２の間で基
板裏側より露光してやる事でＣＢＶ、ＣＧＹ上にＣＲＹ
の残膜がなく、かつ第５図（Ａ）（Ｂ）に示すと同様な
高い平坦性を有するカラーフィルターを得る事が出来た
。
カラーフィルターの上にＣＲＹを塗膜しプレベークした
後、光源とガラス基板の間に第４図４０５に示す分光透
過率を有する干渉フィルタを介入させ、ＣＲＹ上にＣＰ
を被膜したちので１５〜１００ｍｊ、ＣＰを被膜しない
もので１２０〜３００ｍ ｊ ／ ｃ ｍ ２の間で基
板裏側より露光してやる事でＣＢＶ、ＣＧＹ上にＣＲＹ
の残膜がなく、かつ第５図（Ａ）（Ｂ）に示すと同様な
高い平坦性を有するカラーフィルターを得る事が出来た
。
［発明の効果］
本発明のカラーフィルターを用いさらに第６図６０１に
示す平坦化膜をポリイミド系樹脂がアクノル系樹脂かエ
ポキシ系樹脂かウレタン系樹脂を用い形成した後６０２
の透明導電膜ＩＴＯをスパッタ法により形成したちのを
２層式ＳＴＮ用の電極基板として使用したところ、コン
トラスト比ｌ：２０以上の高い遮光性を有する均一な表
示を得た。
示す平坦化膜をポリイミド系樹脂がアクノル系樹脂かエ
ポキシ系樹脂かウレタン系樹脂を用い形成した後６０２
の透明導電膜ＩＴＯをスパッタ法により形成したちのを
２層式ＳＴＮ用の電極基板として使用したところ、コン
トラスト比ｌ：２０以上の高い遮光性を有する均一な表
示を得た。
第１図は従来法である重ね方式により形成されたカラー
フィルターの断面を示す図。第２図は従来法であるメタ
ルブラックマスク方式により形成されたカラーフィルタ
ーの断面を示す図。第３図（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）は本発明
によるカラーフィルターの形成法を示す図。第４図はカ
ラーフィルターの分光透過率と露光の際に用いたフィル
ターの分光透過率を示す図。第５図（Ａ）（Ｂ）は本発
明により得られたカラーフィルターの断面を示す図。第
６図は実際に液晶表示素子に使用する基板の断面図を示
す図。 １０１・・・・・・ガラス基板 １０２・・・・・・第１形成画素 １０３・・・・・・第２形成画素 １０４・・・・・・最後の形成画素 １ ２ １０５〜１０７ ２０１ ・ ・ ・ ・ ２０２ ・ ・ ・ ・ ３０１ ・ ・ ・ ・ ３０２ ・ ・ ・ ・ ３０４ ・ ・ ・ ・ ０１ ０２ ０３ ０４ ４０５ ・ ・ ・ ・ ６０１ ・ ・ ・ ・ ・ ６０２ ・ ・ ・ ・ ・重なり部の突起 ・ブラックマスク ・画素間隙間 ・裏側からのＵＶ露光光 ・最後のカラーレジストによ り埋まった画素間隙間 ・最後に塗布されたカラーレ ジスト膜 ・青色画素の分光透過率 ・赤色画素の分光透過率 ・緑色画素の分光透過率 ・ＵＶカットフィルターの分 光透過率 ・干渉フィルターの分光透過 率 ・平坦化膜 ・透明導電膜 以上
フィルターの断面を示す図。第２図は従来法であるメタ
ルブラックマスク方式により形成されたカラーフィルタ
ーの断面を示す図。第３図（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）は本発明
によるカラーフィルターの形成法を示す図。第４図はカ
ラーフィルターの分光透過率と露光の際に用いたフィル
ターの分光透過率を示す図。第５図（Ａ）（Ｂ）は本発
明により得られたカラーフィルターの断面を示す図。第
６図は実際に液晶表示素子に使用する基板の断面図を示
す図。 １０１・・・・・・ガラス基板 １０２・・・・・・第１形成画素 １０３・・・・・・第２形成画素 １０４・・・・・・最後の形成画素 １ ２ １０５〜１０７ ２０１ ・ ・ ・ ・ ２０２ ・ ・ ・ ・ ３０１ ・ ・ ・ ・ ３０２ ・ ・ ・ ・ ３０４ ・ ・ ・ ・ ０１ ０２ ０３ ０４ ４０５ ・ ・ ・ ・ ６０１ ・ ・ ・ ・ ・ ６０２ ・ ・ ・ ・ ・重なり部の突起 ・ブラックマスク ・画素間隙間 ・裏側からのＵＶ露光光 ・最後のカラーレジストによ り埋まった画素間隙間 ・最後に塗布されたカラーレ ジスト膜 ・青色画素の分光透過率 ・赤色画素の分光透過率 ・緑色画素の分光透過率 ・ＵＶカットフィルターの分 光透過率 ・干渉フィルターの分光透過 率 ・平坦化膜 ・透明導電膜 以上
Claims (4)
- （１）ネガ型レジスト材料中に顔料を分散して調整され
たカラーレジストを用い少なくとも２色以上の色相の画
素を形成してなるカラーフィルターにおいて、最後に塗
膜される色相のカラーレジストを、既に形成された他の
色相の画素を有する透明基板の裏面より露光する事によ
り画素間のすべての隙間を最終に形成された色相のカラ
ーレジストで埋めた事を特徴とするカラーフィルターの
形成法。 - （２）特許請求範囲第一項において前記カラーレジスト
の色相が赤、緑、青の３原色であり、最後に透明基板の
裏面より露光される事により形成される画素の色相が、
この３原色のカラーレジストのいずれかである事を特徴
とするカラーフィルターの形成法。 - （３）特許請求範囲第一項において、最後に塗膜される
色相のカラーレジストを透明基板の裏側より露光する際
に所望の厚さまで感光されるべく露光量を調整する事に
より、最終色相の画素の形成表面を平坦にした事を特徴
とするカラーフィルターの形成法。 - （４）特許請求範囲第一項において、最後に塗膜される
色相のカラーレジストを透明基板の裏側より露光する際
に、露光光源の波長のうち既に形成された他の色相の画
素を通過する波長の光を選択的にカットする為に露光光
源と透明基板の間にフィルターを設けた事によりカラー
レジストの残膜が既に形成された画素上に残らないよう
にする事により高い平坦性と高い色純度を確保した事を
特徴とするカラーフィルターの形成法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2087980A JPH03287103A (ja) | 1990-04-02 | 1990-04-02 | カラーフィルターの形成法 |
| DE69126165T DE69126165T2 (de) | 1990-04-02 | 1991-03-26 | Verfahren zur Herstellung eines Farbfilters |
| EP91302651A EP0450840B1 (en) | 1990-04-02 | 1991-03-26 | Process for forming a colour filter |
| KR1019910004905A KR920018516A (ko) | 1990-04-02 | 1991-03-28 | 칼라 필터의 형성법 |
| US07/677,533 US5093738A (en) | 1990-04-02 | 1991-04-01 | Color filter manufacturing method using negative photoresist material for the filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2087980A JPH03287103A (ja) | 1990-04-02 | 1990-04-02 | カラーフィルターの形成法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03287103A true JPH03287103A (ja) | 1991-12-17 |
Family
ID=13929974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2087980A Pending JPH03287103A (ja) | 1990-04-02 | 1990-04-02 | カラーフィルターの形成法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5093738A (ja) |
| EP (1) | EP0450840B1 (ja) |
| JP (1) | JPH03287103A (ja) |
| KR (1) | KR920018516A (ja) |
| DE (1) | DE69126165T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2005173092A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルター基板およびこれを用いたディスプレイ、並びにカラーフィルター基板の製造方法 |
| JP2011507008A (ja) * | 2007-11-20 | 2011-03-03 | イーストマン コダック カンパニー | マルチカラーマスク |
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| US5661371A (en) * | 1990-12-31 | 1997-08-26 | Kopin Corporation | Color filter system for light emitting display panels |
| US5751261A (en) * | 1990-12-31 | 1998-05-12 | Kopin Corporation | Control system for display panels |
| US5444557A (en) * | 1990-12-31 | 1995-08-22 | Kopin Corporation | Single crystal silicon arrayed devices for projection displays |
| JP2794499B2 (ja) | 1991-03-26 | 1998-09-03 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
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| CA2658804A1 (en) | 2006-07-25 | 2008-01-31 | Vecta Ltd. | Compositions and methods for inhibiting gastric acid secretion using derivatives of small dicarboxylic acids in combination with ppi |
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- 1990-04-02 JP JP2087980A patent/JPH03287103A/ja active Pending
-
1991
- 1991-03-26 DE DE69126165T patent/DE69126165T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-03-26 EP EP91302651A patent/EP0450840B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-28 KR KR1019910004905A patent/KR920018516A/ko not_active Application Discontinuation
- 1991-04-01 US US07/677,533 patent/US5093738A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0450840B1 (en) | 1997-05-21 |
| DE69126165D1 (de) | 1997-06-26 |
| EP0450840A2 (en) | 1991-10-09 |
| US5093738A (en) | 1992-03-03 |
| DE69126165T2 (de) | 1997-08-28 |
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