JPH0466346B2 - - Google Patents
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- JPH0466346B2 JPH0466346B2 JP15323385A JP15323385A JPH0466346B2 JP H0466346 B2 JPH0466346 B2 JP H0466346B2 JP 15323385 A JP15323385 A JP 15323385A JP 15323385 A JP15323385 A JP 15323385A JP H0466346 B2 JPH0466346 B2 JP H0466346B2
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 7
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 7
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
Description
【産業上の利用分野】
この発明は、カラー液晶テレビ等に使用される
カラーフイルタの製造に使用するフオトマスクに
関するものである。
カラーフイルタの製造に使用するフオトマスクに
関するものである。
従来のカラーフイルタの製法として、ガラスな
との透明なフイルタ基板上にAl等の金属で位置
合せ用の基準マークを形成し、その上に可染性樹
脂を塗布し、これをフオトレジストでマスクして
染色する部分だけを露出させて染色するという工
程を繰り返して、赤、緑、青の３色のストライプ
カラーフイルタを形成する方法が知られている。
（例えば、特公昭52−17376号公報）。 この公知技術において使用するフオトマスクの
枚数は、フイルタ基板に設ける基準マーク形成用
が１枚と、赤、緑、青のカラーフイルタパターン
の形成用で３枚の合計４枚となる。精度の良いカ
ラーフイルタを作るためには、フオトマスクとし
て、高価なCr等の金属マスクを使用しなければ
ならず、また、フオトマスクは破損や汚れ等によ
りその使用可能回数に限りがある等の理由によ
り、カラーフイルタの製造コストの中でフオトマ
スクの費用の占める割合は大きいものになつてい
た。 また、このようなカラーフイルタの製造におい
ては、フオトマスクの位置合せを複数回繰り返す
ことが必要であり、フオトマスクの位置合せ精度
を向上することも重要である。 このようなマスク位置合せ精度を向上すること
を目的として、特開昭56−40243号公報では、IC
やLSI等の半導体の製造プロセスにおいて、第１
のフオトマスクにより第１および第２のレジスタ
ーマーク（基準マーク）を半導体基板上に形成
し、この第１レジスターマークを基準として第２
のフオトマスクの位置合せを行ない第３のレジス
ターマークを上記半導体基板上に形成し、この後
で第２、第３のレジスターマークを基準として第
３のフオトマスクの位置合せを行なうことが提案
されている。 しかし、この技術をカラーフイルタの製造に応
用したとしてもフオトマスクは３枚が必要であ
り、位置合せ精度は向上することができるかもし
れなないが、製造コストの点では、上記第１の従
来技術と同様の問題点を有していた。 一方、カラー固体撮像装置（CCD）上に直接
にカラーフイルタを形成する方法の一つとして、
特開昭60−86504号公報が提案されている。 これは、複数色のうちの１色の光フイルタを形
成するための特定の１つのフオトマスクに、
CCDアレイの配列ピツチの整数倍の間隔をおい
て複数色の色数に応じた数のマスク位置合せ用基
準マークを設けることによつて、１枚のフオトマ
スクのみによつて複数色のカラーフイルタパター
ンを形成するというものである。 しかし、この技術でも、実際には、フオトマス
クの位置合せマークを位置合せするためにCCD
基板上に形成される基準マークは、別のフオトマ
スクを用いて行なうことが必要であり、したがつ
て少なくとも２枚のフオトマスクを必要とするも
のであつた。
との透明なフイルタ基板上にAl等の金属で位置
合せ用の基準マークを形成し、その上に可染性樹
脂を塗布し、これをフオトレジストでマスクして
染色する部分だけを露出させて染色するという工
程を繰り返して、赤、緑、青の３色のストライプ
カラーフイルタを形成する方法が知られている。
（例えば、特公昭52−17376号公報）。 この公知技術において使用するフオトマスクの
枚数は、フイルタ基板に設ける基準マーク形成用
が１枚と、赤、緑、青のカラーフイルタパターン
の形成用で３枚の合計４枚となる。精度の良いカ
ラーフイルタを作るためには、フオトマスクとし
て、高価なCr等の金属マスクを使用しなければ
ならず、また、フオトマスクは破損や汚れ等によ
りその使用可能回数に限りがある等の理由によ
り、カラーフイルタの製造コストの中でフオトマ
スクの費用の占める割合は大きいものになつてい
た。 また、このようなカラーフイルタの製造におい
ては、フオトマスクの位置合せを複数回繰り返す
ことが必要であり、フオトマスクの位置合せ精度
を向上することも重要である。 このようなマスク位置合せ精度を向上すること
を目的として、特開昭56−40243号公報では、IC
やLSI等の半導体の製造プロセスにおいて、第１
のフオトマスクにより第１および第２のレジスタ
ーマーク（基準マーク）を半導体基板上に形成
し、この第１レジスターマークを基準として第２
のフオトマスクの位置合せを行ない第３のレジス
ターマークを上記半導体基板上に形成し、この後
で第２、第３のレジスターマークを基準として第
３のフオトマスクの位置合せを行なうことが提案
されている。 しかし、この技術をカラーフイルタの製造に応
用したとしてもフオトマスクは３枚が必要であ
り、位置合せ精度は向上することができるかもし
れなないが、製造コストの点では、上記第１の従
来技術と同様の問題点を有していた。 一方、カラー固体撮像装置（CCD）上に直接
にカラーフイルタを形成する方法の一つとして、
特開昭60−86504号公報が提案されている。 これは、複数色のうちの１色の光フイルタを形
成するための特定の１つのフオトマスクに、
CCDアレイの配列ピツチの整数倍の間隔をおい
て複数色の色数に応じた数のマスク位置合せ用基
準マークを設けることによつて、１枚のフオトマ
スクのみによつて複数色のカラーフイルタパター
ンを形成するというものである。 しかし、この技術でも、実際には、フオトマス
クの位置合せマークを位置合せするためにCCD
基板上に形成される基準マークは、別のフオトマ
スクを用いて行なうことが必要であり、したがつ
て少なくとも２枚のフオトマスクを必要とするも
のであつた。
そこで、本発明の目的は、１枚のフオトマスク
だけで、フイルタ基板への基準マークの形成およ
びカラーフイルタ形成のためのパターン露光を可
能とするカラーフイルタ製造用フオトマスクを提
供することにある。
だけで、フイルタ基板への基準マークの形成およ
びカラーフイルタ形成のためのパターン露光を可
能とするカラーフイルタ製造用フオトマスクを提
供することにある。
上記目的を達成するために本発明に係るカラー
フイルタ製造用フオトマスクは、マスク基板の中
央部には１色に対応するカラーフイルタ形成用パ
ターンが、上記マスク基板の相対向する２辺の一
方の外周近くにはフイルタ基板に基準マークを形
成するための各色毎の基準マーク形成用マーク
が、上記２辺の他方の外周近くには上記基準マー
ク形成用マークと同じ数のマスク位置合せマーク
がそれぞれ形成してある。そして、上記基準マー
ク形成用マークの１つはそれに対応する上記マス
ク位置合せマークのマスク中心に対する点対称の
位置にあるとともに、他の２つは対応する上記マ
スク位置合せマークのマスク中心に対する点対称
の位置から（3n＋１）ａ，（3n＋２）ａ（ただし、
ｎは０を含む整数）だけずれている。
フイルタ製造用フオトマスクは、マスク基板の中
央部には１色に対応するカラーフイルタ形成用パ
ターンが、上記マスク基板の相対向する２辺の一
方の外周近くにはフイルタ基板に基準マークを形
成するための各色毎の基準マーク形成用マーク
が、上記２辺の他方の外周近くには上記基準マー
ク形成用マークと同じ数のマスク位置合せマーク
がそれぞれ形成してある。そして、上記基準マー
ク形成用マークの１つはそれに対応する上記マス
ク位置合せマークのマスク中心に対する点対称の
位置にあるとともに、他の２つは対応する上記マ
スク位置合せマークのマスク中心に対する点対称
の位置から（3n＋１）ａ，（3n＋２）ａ（ただし、
ｎは０を含む整数）だけずれている。
第１図示のフオトマスク１はガラス基板にCr
などの金属膜を形成してできており、その上方に
は十字形のマスク位置合せマーク２，３，４がク
ロム膜を除去して穴明け形成され、下方にはフイ
ルタ基板上に形成する基準マーク形成用マーク
５，６，７が穴明け形成され、中央部にはカラー
フイルタ形成用パターン８が穴明け形成されてい
る。このパターン８は、特定の１つの色に対応す
るものであり、長方形のクロム除去部が連続的に
形成されている。クロム除去部の１コマの配列ピ
ツチをａとしたとき、横方向に2aの間隔をおい
て設けられている。 マスク位置合せマーク２，３，４の間隔をx1，
x2とし、基準マーク形成用マーク５，６，７の間
隔をy1，y2としたとき、配列ピツチａとの間につ
ぎの関係が成立している。 y1＝x1＋（3n＋ｉ）ａ y2＝x2＋（3n＋ｉ）ａ ただし ｎは０を含む整数であり、ｉは１また
は２である。 本実施例においては、上記式において、ｎ＝0i
＝１とし、 y1＝x1＋ａ y2＝x2＋ａ の関係に定めてある。 そして、さらにx1＝x2，y1＝y2としてある。 要するに、この実施例では、基準マーク形成用
マーク５，６，７の間隔は、マスク位置合せマー
ク２，３，４の間隔よりもａだけ大きく設けてあ
る。 この実施例では、基準マーク形成用マーク５
は、それに対応するマスク位置合せマーク２のマ
スク中心に対する点対称の位置にある。基準マー
ク形成用マーク６は、それに対応するマスク位置
合せマーク３のマスク中心に対する点対称の位置
から横にａだけずれている。基準マーク形成用マ
ーク７は、それに対応するマスク位置合せマーク
４のマスク中心に対する点対称の位置から横に
2aだけずれている。 このフオトマスク１を用いて、位置合せマーク
２，３，４およびカラーフイルタ形成用のパター
ン８を遮蔽して、第１図示の状態より180°回転さ
せて、すなわち上下を逆にして用いて第２図示の
ようにフイルタ基板９上に基準マーク１０，１
１，１２を形成する。その方法は、従来の方法で
よく、フイルタ基板９上に全面にAl膜を設け、
その上にフオトレジストを塗布し、上述した状態
でフオトマスク１を用いて露光し、現像した後で
エツチングすることにより、Al膜の基準マーク
１０，１１，１２が形成される。 つぎに、フイルタ基板９上にゼラチンなどによ
り可染性樹脂膜１３を設け、さらにその上にフオ
トレジスト１４を塗布し、フオトマスク１をその
下方の基準マーク形成用マーク５，６，７および
上方の３つの中の２つのマスク位置合せマーク
３，４を遮蔽して、マスク位置合せマーク２をフ
イルタ基板９上の基準マーク１０と合せて露光す
る（第３図）。その後で現像して１番目の色、例
えば赤色で染色し、赤色のカラーフイルタパター
ンＲを形成する。（第４，５図）。 つぎに、上記フオトレジスト１４の残存するも
のを除去し、再びフオトレジストを塗布し、フオ
トマスク１をその下方の基準マーク形成用マーク
５，６，７および上方の３つの中の２つのマスク
位置合せマーク２，４を遮蔽して、マスク位置合
せマーク３をフイルタ基板９上の基準マーク１１
と合せて露光し、現像して、２番目の色、例えば
緑色で染色して緑色のカラーフイルタパターンＧ
を形成する（第６図）。 前述の説明から明らかなように、基板上９の基
準マーク１０，１１，１２は互に（x1＋ａ）だけ
離れているのに対し、フオトマスク１の位置合せ
マーク２，３，４は互いにx1だけ離れているの
で、２番目の緑色染色のための露光において、カ
ラーフイルタ形成用のパターン８はａだけずれて
いる。つまり、緑色のカラーフイルタパターンＧ
は、赤色のカラーフイルタパターンＲよりａだけ
ずれて形成されることになる。 つぎに、同様にして今度はフオトマスク１の位
置合せマーク４をフイルタ基板９の基準マーク１
２と合せてパターン露光させて青色のカラーフイ
ルタパターンＢを形成する（第７図）。 このようにして、赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂの三色によ
るカラーフイルタパターンが隙間なく形成され
る。 上述の実施例では、カラーフイルタ１の位置合
せマーク２，３，４とフイルタ基板９の基準マー
ク１０，１１，１２とは１ケ所で１対１で位置合
せされているが、マスク位置合せマーク２，３，
４および基準マーク形成用マーク５，６，７の数
（組数）を増して２ケ所以上で位置合せできるよ
うにして精度を上げるようにしてもよい。 また、マスク位置合せマーク２，３，４および
基準マーク形成用マーク５，６，７はいずれも十
字形をなしているが、第７図示のようにCrの非
被覆部分１３を形成して、位置合せを行い易くし
てもよい。 なお、カラーフイルタパターンの形成にあたつ
て、前述の実施例では、可染性樹脂膜の染色をお
こなつているが、その他、光硬化性樹脂に着色剤
を添加したものを基板に塗布、パターン露光、現
像して所定のカラーフイルタを作る場合にも同様
に実施できることは言うまでもない。
などの金属膜を形成してできており、その上方に
は十字形のマスク位置合せマーク２，３，４がク
ロム膜を除去して穴明け形成され、下方にはフイ
ルタ基板上に形成する基準マーク形成用マーク
５，６，７が穴明け形成され、中央部にはカラー
フイルタ形成用パターン８が穴明け形成されてい
る。このパターン８は、特定の１つの色に対応す
るものであり、長方形のクロム除去部が連続的に
形成されている。クロム除去部の１コマの配列ピ
ツチをａとしたとき、横方向に2aの間隔をおい
て設けられている。 マスク位置合せマーク２，３，４の間隔をx1，
x2とし、基準マーク形成用マーク５，６，７の間
隔をy1，y2としたとき、配列ピツチａとの間につ
ぎの関係が成立している。 y1＝x1＋（3n＋ｉ）ａ y2＝x2＋（3n＋ｉ）ａ ただし ｎは０を含む整数であり、ｉは１また
は２である。 本実施例においては、上記式において、ｎ＝0i
＝１とし、 y1＝x1＋ａ y2＝x2＋ａ の関係に定めてある。 そして、さらにx1＝x2，y1＝y2としてある。 要するに、この実施例では、基準マーク形成用
マーク５，６，７の間隔は、マスク位置合せマー
ク２，３，４の間隔よりもａだけ大きく設けてあ
る。 この実施例では、基準マーク形成用マーク５
は、それに対応するマスク位置合せマーク２のマ
スク中心に対する点対称の位置にある。基準マー
ク形成用マーク６は、それに対応するマスク位置
合せマーク３のマスク中心に対する点対称の位置
から横にａだけずれている。基準マーク形成用マ
ーク７は、それに対応するマスク位置合せマーク
４のマスク中心に対する点対称の位置から横に
2aだけずれている。 このフオトマスク１を用いて、位置合せマーク
２，３，４およびカラーフイルタ形成用のパター
ン８を遮蔽して、第１図示の状態より180°回転さ
せて、すなわち上下を逆にして用いて第２図示の
ようにフイルタ基板９上に基準マーク１０，１
１，１２を形成する。その方法は、従来の方法で
よく、フイルタ基板９上に全面にAl膜を設け、
その上にフオトレジストを塗布し、上述した状態
でフオトマスク１を用いて露光し、現像した後で
エツチングすることにより、Al膜の基準マーク
１０，１１，１２が形成される。 つぎに、フイルタ基板９上にゼラチンなどによ
り可染性樹脂膜１３を設け、さらにその上にフオ
トレジスト１４を塗布し、フオトマスク１をその
下方の基準マーク形成用マーク５，６，７および
上方の３つの中の２つのマスク位置合せマーク
３，４を遮蔽して、マスク位置合せマーク２をフ
イルタ基板９上の基準マーク１０と合せて露光す
る（第３図）。その後で現像して１番目の色、例
えば赤色で染色し、赤色のカラーフイルタパター
ンＲを形成する。（第４，５図）。 つぎに、上記フオトレジスト１４の残存するも
のを除去し、再びフオトレジストを塗布し、フオ
トマスク１をその下方の基準マーク形成用マーク
５，６，７および上方の３つの中の２つのマスク
位置合せマーク２，４を遮蔽して、マスク位置合
せマーク３をフイルタ基板９上の基準マーク１１
と合せて露光し、現像して、２番目の色、例えば
緑色で染色して緑色のカラーフイルタパターンＧ
を形成する（第６図）。 前述の説明から明らかなように、基板上９の基
準マーク１０，１１，１２は互に（x1＋ａ）だけ
離れているのに対し、フオトマスク１の位置合せ
マーク２，３，４は互いにx1だけ離れているの
で、２番目の緑色染色のための露光において、カ
ラーフイルタ形成用のパターン８はａだけずれて
いる。つまり、緑色のカラーフイルタパターンＧ
は、赤色のカラーフイルタパターンＲよりａだけ
ずれて形成されることになる。 つぎに、同様にして今度はフオトマスク１の位
置合せマーク４をフイルタ基板９の基準マーク１
２と合せてパターン露光させて青色のカラーフイ
ルタパターンＢを形成する（第７図）。 このようにして、赤Ｒ、緑Ｇ、青Ｂの三色によ
るカラーフイルタパターンが隙間なく形成され
る。 上述の実施例では、カラーフイルタ１の位置合
せマーク２，３，４とフイルタ基板９の基準マー
ク１０，１１，１２とは１ケ所で１対１で位置合
せされているが、マスク位置合せマーク２，３，
４および基準マーク形成用マーク５，６，７の数
（組数）を増して２ケ所以上で位置合せできるよ
うにして精度を上げるようにしてもよい。 また、マスク位置合せマーク２，３，４および
基準マーク形成用マーク５，６，７はいずれも十
字形をなしているが、第７図示のようにCrの非
被覆部分１３を形成して、位置合せを行い易くし
てもよい。 なお、カラーフイルタパターンの形成にあたつ
て、前述の実施例では、可染性樹脂膜の染色をお
こなつているが、その他、光硬化性樹脂に着色剤
を添加したものを基板に塗布、パターン露光、現
像して所定のカラーフイルタを作る場合にも同様
に実施できることは言うまでもない。
この発明によれば、一枚のフオトマスクで基板
を用いて、フイルタ基板への基準マークの形成と
カラーフイルタパターンの露光が可能となり、カ
ラーフイルタの製造コストを引下げることができ
る。
を用いて、フイルタ基板への基準マークの形成と
カラーフイルタパターンの露光が可能となり、カ
ラーフイルタの製造コストを引下げることができ
る。
図面は本発明の実施例を示すものであつて、第
１図はフオトマスクの平面図、第２図はフイルタ
基板上に基準マークを形成した状態の平面図、第
３，４図はカラーフイルタの製造工程の説明のた
めの断面図、第５図はフイルタ基板に赤色のカラ
ーフイルタパターンを形成した状態の平面図、第
６図はフイルタ基板に赤色および緑色のカラーフ
イルタパターンを形成した状態の平面図、第７図
はフイルタ基板に赤、緑、青の三色のカラーフイ
ルタパターンを形成した状態の平面図、第８図は
マークの他の例を示す図である。 １……フオトマスク、２，３，４……マスク位
置合せマーク、５，６，７……フイルタ基板への
基準マーク形成用マーク、８……カラーフイルタ
形成用パターン、９……フイルタ基板、１０，１
１，１２……基準マーク。
１図はフオトマスクの平面図、第２図はフイルタ
基板上に基準マークを形成した状態の平面図、第
３，４図はカラーフイルタの製造工程の説明のた
めの断面図、第５図はフイルタ基板に赤色のカラ
ーフイルタパターンを形成した状態の平面図、第
６図はフイルタ基板に赤色および緑色のカラーフ
イルタパターンを形成した状態の平面図、第７図
はフイルタ基板に赤、緑、青の三色のカラーフイ
ルタパターンを形成した状態の平面図、第８図は
マークの他の例を示す図である。 １……フオトマスク、２，３，４……マスク位
置合せマーク、５，６，７……フイルタ基板への
基準マーク形成用マーク、８……カラーフイルタ
形成用パターン、９……フイルタ基板、１０，１
１，１２……基準マーク。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ３色のカラーフイルタパターンが配列ピツチ
ａでマトリクス状に規則的に分布されるカラーフ
イルタを製造するときの露光に使用されるカラー
フイルタ製造用フオトマスクであつて、 マスク基板の中央部には１色に対応するカラー
フイルタ形成用パターンが、上記マスク基板の相
対向する２辺の一方の外周近くにはフイルタ基板
に基準マークを形成するための各色毎の基準マー
ク形成用マークが、上記２辺の他方の外周近くに
は上記基準マーク形成用マークと同じ数のマスク
位置合せマークがそれぞれ形成してあり、 上記基準マーク形成用マークの１つはそれに対
応する上記マスク位置合せマークのマスク中心に
対する点対称の位置にあるとともに、他の２つは
対応する上記マスク位置合せマークのマスク中心
に対する点対称の位置から（3n＋１）ａ，（3n＋
２）ａ（ただし、ｎは０を含む整数）だけずれて
いる ことを特徴とするカラーフイルタ製造用フオトマ
スク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60153233A JPS6214102A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | カラーフイルタ製造用フオトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60153233A JPS6214102A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | カラーフイルタ製造用フオトマスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6214102A JPS6214102A (ja) | 1987-01-22 |
| JPH0466346B2 true JPH0466346B2 (ja) | 1992-10-22 |
Family
ID=15557963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60153233A Granted JPS6214102A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | カラーフイルタ製造用フオトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6214102A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2546300B2 (ja) * | 1987-11-30 | 1996-10-23 | 凸版印刷株式会社 | カラーフィルター用基板 |
| JP2011170144A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Hitachi High-Technologies Corp | フォトマスク、プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のアライメントマーク検出方法 |
| JP6453780B2 (ja) * | 2013-03-12 | 2019-01-16 | マイクロニック アーベーＭｙｃｒｏｎｉｃ Ａｂ | 機械的に形成されるアライメント基準体の方法及び装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5640243A (en) * | 1979-09-11 | 1981-04-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Mask alignment |
| JPS6086504A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-16 | Mitsubishi Electric Corp | カラ−固体撮像装置の製造方法 |
-
1985
- 1985-07-11 JP JP60153233A patent/JPS6214102A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5640243A (en) * | 1979-09-11 | 1981-04-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Mask alignment |
| JPS6086504A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-16 | Mitsubishi Electric Corp | カラ−固体撮像装置の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6214102A (ja) | 1987-01-22 |
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