JPS6214102A - カラーフイルタ製造用フオトマスク - Google Patents
カラーフイルタ製造用フオトマスクInfo
- Publication number
- JPS6214102A JPS6214102A JP60153233A JP15323385A JPS6214102A JP S6214102 A JPS6214102 A JP S6214102A JP 60153233 A JP60153233 A JP 60153233A JP 15323385 A JP15323385 A JP 15323385A JP S6214102 A JPS6214102 A JP S6214102A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color filter
- substrate
- photomask
- marks
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Optical Filters (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Video Image Reproduction Devices For Color Tv Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明はカラーテレビ等に使用されるカラーフィルタ
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
［従来の技術］
従来のカラーフィルタの製法として、ガラス基板上にＡ
ｆｆｉ（アルミ）等の金属で位置合せマークを形成し、
その上に可染性樹脂を塗布し、これをフォトレジストで
マスクして染色する部分だけを露出させて染色するとい
う工程を繰り返して、赤、緑、青の三色のストライブカ
ラーフィルタを形成する方法が知られている（特公昭５
２−１７３７６）。
ｆｆｉ（アルミ）等の金属で位置合せマークを形成し、
その上に可染性樹脂を塗布し、これをフォトレジストで
マスクして染色する部分だけを露出させて染色するとい
う工程を繰り返して、赤、緑、青の三色のストライブカ
ラーフィルタを形成する方法が知られている（特公昭５
２−１７３７６）。
［発明が解決しようとする問題点］
上記従来例において使用するフォトマスクの枚数は、基
板に設ける位置合せマーク用が１枚と、赤、緑、青のカ
ラーフィルタパターンの形成で３枚の合計４枚となる。
板に設ける位置合せマーク用が１枚と、赤、緑、青のカ
ラーフィルタパターンの形成で３枚の合計４枚となる。
精度の良いカラーフィルタを作るためには、高価なＣｒ
（クロム）等の金属マスクを使用−しなければならず、
また、フォトマスクは破損や汚れ等によりその使用可能
回数に限りが−あり、カラーフィルタの製造コストの中
、フォトマスクの費用の占める割合は大きいものになっ
ていた。
（クロム）等の金属マスクを使用−しなければならず、
また、フォトマスクは破損や汚れ等によりその使用可能
回数に限りが−あり、カラーフィルタの製造コストの中
、フォトマスクの費用の占める割合は大きいものになっ
ていた。
［問題点を解決するための手段］
この発明は一枚のフォトマスクだけで、基板への位置合
せマークの形成およびカラーフィルタ形成のためのパタ
ーン露光が可能となるカラーフィルタの製造方法を提供
するものである。
せマークの形成およびカラーフィルタ形成のためのパタ
ーン露光が可能となるカラーフィルタの製造方法を提供
するものである。
［実施例］
第１図示のフォトマスク１はガラス基板にＣｒなとの金
属膜を形成してできており、その上方には十字形の位置
合せマーク２，３．４がクロム膜を除去して穴明は形成
され、下方には基板への位置合せマーク形成用のマーク
５，６．７が穴明は形成され、中央部にはカラーフィル
タ形成用パターン８が穴明は形成されている。このパタ
ーン８は長方形のクロム除去部が連続的に形成されてい
るもので、その１コマのピッチ幅をａとしたとき、横方
向に２ａの間隔をおいて設けられている。上記位置合せ
マーク２，３．４の間隔をＸ 、Ｘ２とし、位置合せ
マーク形成用のマーク５，６．７の間隔をｙ 、ｙ
としたとき、上記ピッチ幅ａとの間につぎの関係が成
立している。
属膜を形成してできており、その上方には十字形の位置
合せマーク２，３．４がクロム膜を除去して穴明は形成
され、下方には基板への位置合せマーク形成用のマーク
５，６．７が穴明は形成され、中央部にはカラーフィル
タ形成用パターン８が穴明は形成されている。このパタ
ーン８は長方形のクロム除去部が連続的に形成されてい
るもので、その１コマのピッチ幅をａとしたとき、横方
向に２ａの間隔をおいて設けられている。上記位置合せ
マーク２，３．４の間隔をＸ 、Ｘ２とし、位置合せ
マーク形成用のマーク５，６．７の間隔をｙ 、ｙ
としたとき、上記ピッチ幅ａとの間につぎの関係が成
立している。
ただし ｎ−０又は整数、ｉ−１又は２この実施例では
上記式において、ｎｍＯ，ｉ−１としており、 が成立する。そして、さらにｘ−ｘ、ｙ。
上記式において、ｎｍＯ，ｉ−１としており、 が成立する。そして、さらにｘ−ｘ、ｙ。
” Ｙ ２としている。したがってこの実施例では要す
るに、位置合せマーク形成用マーク５，６．７の間隔は
、位置合せマーク２，３．４の間隔よりもａだけ大きく
設けである。
るに、位置合せマーク形成用マーク５，６．７の間隔は
、位置合せマーク２，３．４の間隔よりもａだけ大きく
設けである。
このフォトマスク１を用いて、位置合せマーク２．３．
４およびカラーフィルタ形成用のパターン８をマスキン
グして、第１図示の状態より１８０″回転させて、すな
わち上下を逆にして用いて第２図示のように基板９上に
位置合せマーク１０゜１１．１２を形成する。その方法
は、従来の手段でよく、基板９上に全面にＡ！膜を設け
、その上にフォトレジストを塗布し、上述した状態でフ
ォトマスク１を用いて露光させ、現像した後エツチング
して、Ａｉ膜で位置合せマーク１０．１１゜１２を形成
する。つぎに基板９上にゼラチンなどにより可染性樹脂
１１３を設け、さらにその上にフォトレジスト１４を塗
布し、フォトマスク１をその下方のマーク５，６．７お
よび上方の３つの中の２つの位置合せマーク３，４をマ
スキングして、位置合せマーク２を基板９上の位置合せ
マーク１０と合せ露光させる（第３図）。現像して１番
目の色、たとえば赤色で染色し赤色のカラーフィルタパ
ターンＲを形成する。（第４，５図）。
４およびカラーフィルタ形成用のパターン８をマスキン
グして、第１図示の状態より１８０″回転させて、すな
わち上下を逆にして用いて第２図示のように基板９上に
位置合せマーク１０゜１１．１２を形成する。その方法
は、従来の手段でよく、基板９上に全面にＡ！膜を設け
、その上にフォトレジストを塗布し、上述した状態でフ
ォトマスク１を用いて露光させ、現像した後エツチング
して、Ａｉ膜で位置合せマーク１０．１１゜１２を形成
する。つぎに基板９上にゼラチンなどにより可染性樹脂
１１３を設け、さらにその上にフォトレジスト１４を塗
布し、フォトマスク１をその下方のマーク５，６．７お
よび上方の３つの中の２つの位置合せマーク３，４をマ
スキングして、位置合せマーク２を基板９上の位置合せ
マーク１０と合せ露光させる（第３図）。現像して１番
目の色、たとえば赤色で染色し赤色のカラーフィルタパ
ターンＲを形成する。（第４，５図）。
つぎに上記フォトレジスト１４の残存するものを除去し
、再びフォトレジストを塗布し、フォトマスク１をその
下方のマーク５，６．７および上方の３つの中の２つの
位置合せマーク２，４をマスキングして、位置合せマー
ク３を基板９上の位置合せマーク１１と合せて露光させ
、現像して２番目の色、たとえば緑色いで染色して緑色
のカラーフィルタパターンＧを形成する（第６図）。前
述の説明から明らかなように、基板上９の位置合せマー
ク１０，１１．１２は互にＸ ｔ ＋ ａだけ離なれて
いるのに対し、フォトマスク１の位置合せマーク２，３
．４は互いにＸｔだけ離れているので、２番目の緑色染
色の′際における露光において、カラーフィルタ形成用
のパターン８はａだけずれる。
、再びフォトレジストを塗布し、フォトマスク１をその
下方のマーク５，６．７および上方の３つの中の２つの
位置合せマーク２，４をマスキングして、位置合せマー
ク３を基板９上の位置合せマーク１１と合せて露光させ
、現像して２番目の色、たとえば緑色いで染色して緑色
のカラーフィルタパターンＧを形成する（第６図）。前
述の説明から明らかなように、基板上９の位置合せマー
ク１０，１１．１２は互にＸ ｔ ＋ ａだけ離なれて
いるのに対し、フォトマスク１の位置合せマーク２，３
．４は互いにＸｔだけ離れているので、２番目の緑色染
色の′際における露光において、カラーフィルタ形成用
のパターン８はａだけずれる。
したがって緑色のカラーフィルタパターンＧは、赤色の
カラーフィルタパターンＲよりａだけずれて形成されて
いる。つぎに同様にして今度はフォトマスク１の位置合
せマーク４を基板９の位置合せマーク１２と合せてパタ
ーン露光させて青色のカラーフィルタパターンＢを形成
する（第７図）。
カラーフィルタパターンＲよりａだけずれて形成されて
いる。つぎに同様にして今度はフォトマスク１の位置合
せマーク４を基板９の位置合せマーク１２と合せてパタ
ーン露光させて青色のカラーフィルタパターンＢを形成
する（第７図）。
このようにして、赤Ｒ１緑Ｇ、青Ｂの三色によるカラー
フィルタパターンが隙間なく形成される。
フィルタパターンが隙間なく形成される。
上述の実施例では、カラーフィルタ１の位置合せマーク
２，３．４と基板９の位置合せマーク１０．１１．１２
とは一ケ所で一対一で位置合せされ−でいるが、フォト
マスクおよび基板の位置合せマークの数を増して２ケ所
以上で位置合せできるようにして精度を上げるようにし
てもよい。
２，３．４と基板９の位置合せマーク１０．１１．１２
とは一ケ所で一対一で位置合せされ−でいるが、フォト
マスクおよび基板の位置合せマークの数を増して２ケ所
以上で位置合せできるようにして精度を上げるようにし
てもよい。
またフォトマスク１の位置合せマーク２，３゜４および
驕板への位置合せマーク形成用のマーク５．６．７はい
ずれも十字形をなしているが、いずれか一方を第７図示
のようにＣｒの非被覆部分１３を形成して、位置合せし
やすくしてもよい。
驕板への位置合せマーク形成用のマーク５．６．７はい
ずれも十字形をなしているが、いずれか一方を第７図示
のようにＣｒの非被覆部分１３を形成して、位置合せし
やすくしてもよい。
さらに基板９への位置合せマーク１０．１１゜１２の形
成はＡＱなどの金属によらなければならないものではな
く、染色により一色目のカラーフィルタ部を形成する際
に同時に形成してもよい。
成はＡＱなどの金属によらなければならないものではな
く、染色により一色目のカラーフィルタ部を形成する際
に同時に形成してもよい。
なおりラーフィルタパターンの形成にあたって前述の実
施例では、可染性樹脂膜の染色をおこなっているが、そ
の他、光硬化性樹脂に着色剤を添加したものを基板に塗
布、パターン露光、現像して所定のカラーフィルタを作
る場合にも同様に実施できることはいうまでもない。
施例では、可染性樹脂膜の染色をおこなっているが、そ
の他、光硬化性樹脂に着色剤を添加したものを基板に塗
布、パターン露光、現像して所定のカラーフィルタを作
る場合にも同様に実施できることはいうまでもない。
「発明の効果］
この発明によれば、一枚のフォトマスクで基板の位置合
せマークとカラーフィルタパターンの露光か＝”Ｔ能と
なり、カラーフィルタの製造コストを引下げることがで
きる。
せマークとカラーフィルタパターンの露光か＝”Ｔ能と
なり、カラーフィルタの製造コストを引下げることがで
きる。
図面は本発明の実施例を示し、第１図はフォトマスクの
平面図、第２図は基板上に位置合せマークを形成した状
態の平面図、第３，４図はカラーフィルタの製造工程の
説明のための断面図、第５図は基板に赤色のカラーフィ
ルタパターンを形成した状態の平面図、第６図は基板に
赤色および緑色のカラーフィルタパターンを形成した状
帖の！μ面図、第７図は基板に赤、緑、青の三色のカラ
ーフィルタパターンを形成した状態の平面図、第８図は
位置合せマークの他の例を示す図である。 ｌ・・・・・・フォトマスク ２．３．４・・・・・・位置合せマーク５．６．７・・
・・・・基板への位置合せマーク形成用のマーク ８・・・・・・カラーフィルタ形成用のパターン９・・
・・・・基板 １０．１１．１２・・・・・・位置合せマーク。 以 上 第６図 第７図
平面図、第２図は基板上に位置合せマークを形成した状
態の平面図、第３，４図はカラーフィルタの製造工程の
説明のための断面図、第５図は基板に赤色のカラーフィ
ルタパターンを形成した状態の平面図、第６図は基板に
赤色および緑色のカラーフィルタパターンを形成した状
帖の！μ面図、第７図は基板に赤、緑、青の三色のカラ
ーフィルタパターンを形成した状態の平面図、第８図は
位置合せマークの他の例を示す図である。 ｌ・・・・・・フォトマスク ２．３．４・・・・・・位置合せマーク５．６．７・・
・・・・基板への位置合せマーク形成用のマーク ８・・・・・・カラーフィルタ形成用のパターン９・・
・・・・基板 １０．１１．１２・・・・・・位置合せマーク。 以 上 第６図 第７図
Claims (2)
- （１）基板への位置合せマークの形成およびカラーフィ
ルタパターンの形成において、一枚のフォトマスクに基
板への位置合せマーク形成用のマークと、カラーフィル
タ形成用のパターンと、位置合せマークとを形成したも
のを用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法
。 - （２）上記フォトマスクの位置合せマーク形成用のマー
クを用いて基板上に位置合せマークを形成し、上記フォ
トマスクの位置合せマークを上記基板上に形成した位置
合せマークと合せて上記カラーフィルタ形成用のパター
ンを用いてカラーフィルタパターンを形成することを特
徴とする特許請求の範囲第１項のカラーフィルタの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60153233A JPS6214102A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | カラーフイルタ製造用フオトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60153233A JPS6214102A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | カラーフイルタ製造用フオトマスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6214102A true JPS6214102A (ja) | 1987-01-22 |
| JPH0466346B2 JPH0466346B2 (ja) | 1992-10-22 |
Family
ID=15557963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60153233A Granted JPS6214102A (ja) | 1985-07-11 | 1985-07-11 | カラーフイルタ製造用フオトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6214102A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01142701A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-05 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルター用基板 |
| JP2011170144A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Hitachi High-Technologies Corp | フォトマスク、プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のアライメントマーク検出方法 |
| JP2016515223A (ja) * | 2013-03-12 | 2016-05-26 | マイクロニック アーベーＭｙｃｒｏｎｉｃ Ａｂ | 機械的に形成されるアライメント基準体の方法及び装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5640243A (en) * | 1979-09-11 | 1981-04-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Mask alignment |
| JPS6086504A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-16 | Mitsubishi Electric Corp | カラ−固体撮像装置の製造方法 |
-
1985
- 1985-07-11 JP JP60153233A patent/JPS6214102A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5640243A (en) * | 1979-09-11 | 1981-04-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Mask alignment |
| JPS6086504A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-16 | Mitsubishi Electric Corp | カラ−固体撮像装置の製造方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01142701A (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-05 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルター用基板 |
| JP2011170144A (ja) * | 2010-02-19 | 2011-09-01 | Hitachi High-Technologies Corp | フォトマスク、プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のアライメントマーク検出方法 |
| JP2016515223A (ja) * | 2013-03-12 | 2016-05-26 | マイクロニック アーベーＭｙｃｒｏｎｉｃ Ａｂ | 機械的に形成されるアライメント基準体の方法及び装置 |
| JP2019056924A (ja) * | 2013-03-12 | 2019-04-11 | マイクロニック アーベーＭｙｃｒｏｎｉｃ Ａｂ | 機械的に形成されるアライメント基準体の方法及び装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0466346B2 (ja) | 1992-10-22 |
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