JPH01142701A - カラーフィルター用基板 - Google Patents
カラーフィルター用基板Info
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- JPH01142701A JPH01142701A JP62302714A JP30271487A JPH01142701A JP H01142701 A JPH01142701 A JP H01142701A JP 62302714 A JP62302714 A JP 62302714A JP 30271487 A JP30271487 A JP 30271487A JP H01142701 A JPH01142701 A JP H01142701A
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- color filter
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 21
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- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C49/00—Blow-moulding, i.e. blowing a preform or parison to a desired shape within a mould; Apparatus therefor
- B29C49/42—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C49/56—Opening, closing or clamping means
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C49/00—Blow-moulding, i.e. blowing a preform or parison to a desired shape within a mould; Apparatus therefor
- B29C49/02—Combined blow-moulding and manufacture of the preform or the parison
- B29C49/04—Extrusion blow-moulding
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、位置合せくアラインメント）ミスを防止でき
るカラーフィルター用基板に関する。
るカラーフィルター用基板に関する。
（従来の技術）
カラーフィルター（色分解フィルター）は、カラー写真
、カラー印刷、カラーテレビなどで、被写体あるいは原
稿から２つ以上の原色について、明朗を表ν画像をつく
るために用いるフィルターであって、一般に赤、緑及び
青の３色フィルターが用いられる。
、カラー印刷、カラーテレビなどで、被写体あるいは原
稿から２つ以上の原色について、明朗を表ν画像をつく
るために用いるフィルターであって、一般に赤、緑及び
青の３色フィルターが用いられる。
ところでカラーフィルターには、フィルタ一部とそうで
ないところとのコントラストを向上するため、フィルタ
一部以外に遮光層が設けられている。遮光層はフィルタ
一部の性質の劣化を防止するため、フィルタ一部形成の
前に設けられ、その後上記３色のフィルタ一部を形成す
る。
ないところとのコントラストを向上するため、フィルタ
一部以外に遮光層が設けられている。遮光層はフィルタ
一部の性質の劣化を防止するため、フィルタ一部形成の
前に設けられ、その後上記３色のフィルタ一部を形成す
る。
ところでフィルタ一部を形成するためには、フィルタ一
部を位置合せしなければならないが、従来は遮光層に用
いる遮光性金属をカラーフィルター用基板の全面に成膜
した後、遮光性金属をパターニングして遮光層を形成す
る際、基板のフィルター形成箇所以外の箇所にアライン
メントマーク部を同時に形成し、アラインメントマーク
部からの反射光を用いて各色のフィルタ一部を位置合せ
し、カラーフィルターを形成していた。
部を位置合せしなければならないが、従来は遮光層に用
いる遮光性金属をカラーフィルター用基板の全面に成膜
した後、遮光性金属をパターニングして遮光層を形成す
る際、基板のフィルター形成箇所以外の箇所にアライン
メントマーク部を同時に形成し、アラインメントマーク
部からの反射光を用いて各色のフィルタ一部を位置合せ
し、カラーフィルターを形成していた。
（発明が解決しようとする問題点）
しかし、遮光性金属は本来遮光層用のものであるため、
反射率６０％以下の金属を用いる。従ってＣｒＯ等のよ
うに２０％程度の反射率しかない遮光性金属を用いる揚
台は、アラインメントマークの認識することができず、
位置合せに困難かあつ ｌこ 。
反射率６０％以下の金属を用いる。従ってＣｒＯ等のよ
うに２０％程度の反射率しかない遮光性金属を用いる揚
台は、アラインメントマークの認識することができず、
位置合せに困難かあつ ｌこ 。
（問題点を解決するための手段）
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、カラ
ーフィルター用基板において、アラインメントマ〜り部
の表層を反射率の高い金属膜で形成づることを特徴とす
る。
ーフィルター用基板において、アラインメントマ〜り部
の表層を反射率の高い金属膜で形成づることを特徴とす
る。
（作用）
本発明によれば、カラーフィルター用基板のフィルター
形成箇所以外の箇所に設けるアラインメントマーク部の
表層に反射率の高い金属膜を形成するため、遮光層の遮
光性には何ら関係なく、アラインメントマーク部からの
十分な反射光を基に位置合せミスを防ぐことができる。
形成箇所以外の箇所に設けるアラインメントマーク部の
表層に反射率の高い金属膜を形成するため、遮光層の遮
光性には何ら関係なく、アラインメントマーク部からの
十分な反射光を基に位置合せミスを防ぐことができる。
（実施例）
以下添附図面を参照して、本発明の詳細な説明する。
夫ｊ」ＬＬ
第３図に示すように、ガラス基板６の全面にＣｒ０層８
．０１層１０．及びＣｒ０層１２の順で真空蒸着し、３
層からなる薄膜１４を形成する。
．０１層１０．及びＣｒ０層１２の順で真空蒸着し、３
層からなる薄膜１４を形成する。
次いでＣｒ０層１２上にパターニング用のポジレジスト
ＡＺを塗布した後、第５図及び第２図に示す個別パター
ン３１内の周縁部３２、画素３３の間３４、及びスクラ
イブライン３５、並びに７ラインメントマ一ク部１８を
除く基板周縁部３９（アラインメントマーク部１８の十
字形の箇所を含む）をマスクして露光する。次いで露光
したガラス基＃ｉ６を現像、エツチングする。その結果
第６図に示す個別パターン３１内の周縁部３２、画素３
３の間３４、及びスクライブライン３５、並びにアライ
ンメントマーク部１８を除く周縁部３９に１ｉｉＧ１４
が残る。アラインメントマーク部１８の中でも十字形の
箇所２０には薄膜１４が残つている。
ＡＺを塗布した後、第５図及び第２図に示す個別パター
ン３１内の周縁部３２、画素３３の間３４、及びスクラ
イブライン３５、並びに７ラインメントマ一ク部１８を
除く基板周縁部３９（アラインメントマーク部１８の十
字形の箇所を含む）をマスクして露光する。次いで露光
したガラス基＃ｉ６を現像、エツチングする。その結果
第６図に示す個別パターン３１内の周縁部３２、画素３
３の間３４、及びスクライブライン３５、並びにアライ
ンメントマーク部１８を除く周縁部３９に１ｉｉＧ１４
が残る。アラインメントマーク部１８の中でも十字形の
箇所２０には薄膜１４が残つている。
次に十字形の箇所２０にＣｒ０１１２だけを選択的にエ
ツチングするエツチング液を滴下する。
ツチングするエツチング液を滴下する。
その結果第１図に示すように、十字形の箇所２゜に０１
層１０が露出する。Ｃｒ０層の反射率は約２０％、Ｃｒ
ｇのそれは約６０％なので、アラインメントマーク部に
反射率の高い金属膜が形成されたことになる。
層１０が露出する。Ｃｒ０層の反射率は約２０％、Ｃｒ
ｇのそれは約６０％なので、アラインメントマーク部に
反射率の高い金属膜が形成されたことになる。
こうしてアラインメントマーク部からの反射光が従来よ
り格段に強いものが得られため、各色のフィルタ一部形
成の際のアラインメントに要する時間を従来より面域で
き、かつアラインメントずれが全くなかった。
り格段に強いものが得られため、各色のフィルタ一部形
成の際のアラインメントに要する時間を従来より面域で
き、かつアラインメントずれが全くなかった。
！
第４図に示すように、実施例１と同じ透明なガラス基板
６の全面に、Ｃｒ０層８及び０１層１０の順で？ｉ１１
膜を積層する。次いでアラインメントマーク部１８を遮
光する治具２２でマスクした後、アラインメントマーク
部以外の箇所２４にＣｒ０層１２を蒸着する。最後に治
具２２を取り外して実施例１と同じように７ラインメン
トマ一タ部１８に十字形の反射率の高いＣＮＩＱを露出
させた。
６の全面に、Ｃｒ０層８及び０１層１０の順で？ｉ１１
膜を積層する。次いでアラインメントマーク部１８を遮
光する治具２２でマスクした後、アラインメントマーク
部以外の箇所２４にＣｒ０層１２を蒸着する。最後に治
具２２を取り外して実施例１と同じように７ラインメン
トマ一タ部１８に十字形の反射率の高いＣＮＩＱを露出
させた。
このカラーフィルター用基板を位置合せしたところ、実
施例１と同様にアラインメント効率の向上及びアライン
メントずれの防止について成果があった。
施例１と同様にアラインメント効率の向上及びアライン
メントずれの防止について成果があった。
なお上記実施例においては、反射率の高い金属膜及びそ
の金属酸化物膜としてそれぞれＣ「・及びＣｒＯを用い
たが、これらに限られるものではなく、八２、ＡＣＩ、
Ａｕ又はＴｉ及びこれらの酸化物であってもよい。
の金属酸化物膜としてそれぞれＣ「・及びＣｒＯを用い
たが、これらに限られるものではなく、八２、ＡＣＩ、
Ａｕ又はＴｉ及びこれらの酸化物であってもよい。
（発明の効果）
本発明によればアラインメントずれのないカラーフィル
ター用基板が得られ、またアラインメント効率を高める
ことができる。
ター用基板が得られ、またアラインメント効率を高める
ことができる。
第１図は本発明の一実施例に係るカラーフィルター用基
板のアラインメントマーク部の平面拡大図、第２図は同
カラーフィルター用基板の平面図、第３図は同カラーフ
ィルター用基板のアラインメントマーク部の断面図、第
４図は本発明の他の実施例に係るカラーフィルター用基
板のアラインメントマーク部の断面図、及び第５図はフ
ィルター部の拡大平面図である。 ６・・・・・・ガラス基板、８・・・・・・Ｃｒ０層、
１０・・・・・・Ｃｒｔ？ｉＪ、１２・・・・・・Ｃｒ
ｏ題、１８・・・・・・アラインメントマーク部、２０
・・・・・・十字形の箇所。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第２図 第３図 フッ 第４図 第５図
板のアラインメントマーク部の平面拡大図、第２図は同
カラーフィルター用基板の平面図、第３図は同カラーフ
ィルター用基板のアラインメントマーク部の断面図、第
４図は本発明の他の実施例に係るカラーフィルター用基
板のアラインメントマーク部の断面図、及び第５図はフ
ィルター部の拡大平面図である。 ６・・・・・・ガラス基板、８・・・・・・Ｃｒ０層、
１０・・・・・・Ｃｒｔ？ｉＪ、１２・・・・・・Ｃｒ
ｏ題、１８・・・・・・アラインメントマーク部、２０
・・・・・・十字形の箇所。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第２図 第３図 フッ 第４図 第５図
Claims (3)
- （１）アラインメントマーク部の表層が反射率の高い金
属膜で形成されているカラーフィルター用基板。 - （２）前記金属膜の材料がＡｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｔｉ又は
Ｃｒである特許請求の範囲第１項記載のカラーフィルタ
ー用基板。 - （３）前記アラインメントマーク部がＣｒＯ及びＣｒの
順で積層された２層からなり、カラーフィルターの遮光
層がＣｒＯ、Ｃｒ及びＣｒＯの順で積層された、３層か
らなる特許請求の範囲第１項記載のカラーフィルター用
基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30271487A JP2546300B2 (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | カラーフィルター用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30271487A JP2546300B2 (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | カラーフィルター用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01142701A true JPH01142701A (ja) | 1989-06-05 |
| JP2546300B2 JP2546300B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=17912294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30271487A Expired - Fee Related JP2546300B2 (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | カラーフィルター用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2546300B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0349530U (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-15 | ||
| JPH0380414U (ja) * | 1989-12-01 | 1991-08-19 | ||
| US7989967B2 (en) * | 2006-10-31 | 2011-08-02 | Intel Corporation | High-contrast laser mark on substrate surfaces |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5834409A (ja) * | 1981-08-26 | 1983-02-28 | Fuji Photo Optical Co Ltd | カラ−モザイクフイルタ− |
| JPS61295504A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Seikosha Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
| JPS6214102A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Seikosha Co Ltd | カラーフイルタ製造用フオトマスク |
| JPS6385601A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-16 | Minolta Camera Co Ltd | カラ−フイルタ−を有する受光素子の製造方法 |
-
1987
- 1987-11-30 JP JP30271487A patent/JP2546300B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5834409A (ja) * | 1981-08-26 | 1983-02-28 | Fuji Photo Optical Co Ltd | カラ−モザイクフイルタ− |
| JPS61295504A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Seikosha Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
| JPS6214102A (ja) * | 1985-07-11 | 1987-01-22 | Seikosha Co Ltd | カラーフイルタ製造用フオトマスク |
| JPS6385601A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-16 | Minolta Camera Co Ltd | カラ−フイルタ−を有する受光素子の製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0349530U (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-15 | ||
| JPH0380414U (ja) * | 1989-12-01 | 1991-08-19 | ||
| US7989967B2 (en) * | 2006-10-31 | 2011-08-02 | Intel Corporation | High-contrast laser mark on substrate surfaces |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2546300B2 (ja) | 1996-10-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |