JPS61295505A - カラ−フイルタの製造方法 - Google Patents

カラ−フイルタの製造方法

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Publication number
JPS61295505A
JPS61295505A JP60138287A JP13828785A JPS61295505A JP S61295505 A JPS61295505 A JP S61295505A JP 60138287 A JP60138287 A JP 60138287A JP 13828785 A JP13828785 A JP 13828785A JP S61295505 A JPS61295505 A JP S61295505A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photomask
substrate
color filter
mask
resin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60138287A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihiro Kondo
近藤 宣裕
Masanori Fujita
政則 藤田
Tadashi Miyamoto
正 宮本
Kenji Muta
牟田 健二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seikosha KK
Original Assignee
Seikosha KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Seikosha KK filed Critical Seikosha KK
Priority to JP60138287A priority Critical patent/JPS61295505A/ja
Publication of JPS61295505A publication Critical patent/JPS61295505A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明はカラーテレビ等に使用されるカラーフィルタ
の製造方法に関するものである。
[従来の技術] カラーテレビ等に用いられるカラーフィルタは赤色、緑
色、青色のストライプが微細に形成されたもので、三色
のフィルタを決められた位置に正確に形成するために、
第11図示のように、ガラスなどの透明基板21にアル
ミニウムなどの金属膜で位置合せ用のマーク22を設け
ておき、これに各色相のフォトマスクの位置合せ用のマ
ーク23を第12図示のように合せて露光させている。
そこで従来のカラーフィルタの製造方法を示すと第13
図のように基板21にA1等の金属膜24を設け、この
上にレジスト25をバターニングして(第14図)金属
膜24をエツチングしく第15図)、レジストを剥離し
て位置合せマーク22を形成している(第15図)。つ
ぎに染色工程に入り、第16図のように、ゼラチンなど
の染色膜26を塗布し、ざらにその上にフォトレジスト
27を塗布し、フォトマスク28を、その位置合せマー
クを基板21の所定の位置合せマーク22と合せて露光
する。レジストをバターニングして染色マスク29を形
成しく第17図)、一番目の色たとえば赤色で染色しカ
ラーフィルタパターンRを形成1゛る(第18図)。同
様の染色工程を繰り返して二番目、三番目の染料で染色
して、赤R1緑G、青Bの三色によるカラーフィルタを
形成している(第19図)。
[発明が解決しようとする問題点] 上記従来例においては、基板にめらかしめ位置合せマー
クを設けるため工程が複雑になり、また三色で染め分【
ブるには、染色マスクを形成するために三枚のフォトマ
スクによる位置合せ工程が必要でめった。
[問題点を解決するための手段] この発明は上記従来技術における欠点を解決するための
もので、基板に一色目のカラーフィルタパターンを形成
する際に同時に基板に位置合せマークも形成するように
することにより、金属膜による位置合せマークの形成を
不用としたものである。
[実施例] 第1図において、基板1はガラスなどの透明な材料で形
成され、この上に可染性樹脂膜2が設けられている。可
染性樹脂膜2の材料としてはゼラチンなどを用いること
ができる。この可染性樹脂II! 2の上にフォトレジ
スト3を塗布し、フォトマスク4を用いて露光し、現像
して染色マスク5を形成する(第2図)。そして青色の
染料で染色することにより、可染性樹脂膜2に青色のカ
ラーフィルタパターンBおよび位置合せマーク6.7を
形成する(第3図)。第1色目を青色とすると、青色の
位置合せマーク6.7が形成され、イエロールーム内で
後工程において位置合せする場合にも見やすくて作業が
しやすい。つぎに再び全面にフtトレジス1−8を塗布
し、フォトマスク9を用いて露光する(第4図)。その
際フォトマスク9の位置合せは上記位置合せマーク6.
7とフォトマスク9のマークとを合せておこなう。現像
して染色マスク10を形成する(第5図)。そして2番
目の色、たとえば赤色の染料で染色することにより、可
染性樹脂膜2に赤色のカラーフィルタパターンRを形成
する(第6図)。同様にして、フォトレジスト11を塗
布し、フォトマスク12を用いて露光しく第7図)、現
像して染色マスク13を形成する(第8図)。そして3
番目の色たとえば緑色の染料で染色することにより可染
性樹脂膜2に緑色のカラーフィルタパターンGを形成す
る(第9図)。
なお上述の実施例では基板1上に位置合せマーク6.7
が青色に染色された可染性樹脂膜2によって形成されて
いるが、この位置合せマークを見やすくするために、第
10図示のように、基板の位置合せマークを付す部分に
あらかじめアルミニウム等の金属膜14を設けておいて
もよい。このようにすることにより銀色の散乱地の中に
青色の位置合せマーク6.7が形成されることになりよ
り兄やすくなる。
[発明の効果] この発明によれば、一色目のカラーフィルタパターンを
形成する際に一緒に位置合せマークを形成するので、基
板上に必らかしめ八 等の金属膜で位置合せマークを形
成する工程が不要となり、また、一色目の染色マスクを
形成する際の露光において、フォトマスクの位置合せが
不要となるので工程の簡素化をはかることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第9図は本発明の実施例を工程順に示す断面説
明図、第10図は本発明の実施例の基板の平面図、第1
1図は従来の基板の平面図、第12図はフォトマスクの
位置合ぜの説明図、第13図〜第19図は従来例を製造
工程を追って示す断面図である。 1・・・・・・基板 2・・・・・・可染性樹脂膜 3・・・・・・フォトレジスト 4・・・・・・フォトマスク 5・・・・・・染色マスク 6・・・・・・位置合せマーク 7・・・・・・位置合せマーク 8・・・・・・フォトレジスト 9・・・・・・フォトマスク 10・・・・・・染色マスク 11・・・・・・フォトレジスト 12・・・・・・フォトマスク 13・・・・・・染色マスク B・・・・・・青色のカラーフィルタパターンR・・・
・・・赤色のカラーフィルタパターンG・・・・・・緑
色のカラーフィルタパターン以上

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板上に可染性樹脂膜を設け、さらにフォトレジ
    スト膜を設けこれをフォトマスクを用いて露光、現像し
    て染色マスクを形成し、一色目の染料で上記可染性樹脂
    膜を染色してカラーフィルタパターンと位置合せマーク
    とを形成し、ついで上記位置合せマークを利用して染色
    マスクの形成および染色をくり返して上記可染性樹脂膜
    を赤色、緑色および青色で染め分ける ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
  2. (2)上記一色目の染料は青色である特許請求の範囲第
    1項のカラーフィルタの製造方法。
JP60138287A 1985-06-25 1985-06-25 カラ−フイルタの製造方法 Pending JPS61295505A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6446704A (en) * 1987-08-17 1989-02-21 Casio Computer Co Ltd Manufacture of color filter
JPS6456417A (en) * 1987-08-27 1989-03-03 Sharp Kk Color filter for liquid crystal display body
DE4007119A1 (de) * 1989-12-02 1991-06-13 Samsung Electronics Co Ltd Farbfilter und verfahren zu seiner herstellung
CN112291464A (zh) * 2020-10-30 2021-01-29 维沃移动通信有限公司 摄像头镜片制作方法、摄像头镜片及电子设备

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JPS6086504A (ja) * 1983-10-17 1985-05-16 Mitsubishi Electric Corp カラ−固体撮像装置の製造方法

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