DE4007119A1 - Farbfilter und verfahren zu seiner herstellung - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft einen Farbfilter nach dem Oberbegriff
des Patentanspruches 1 und ein Verfahren zu seiner Herstellung.
In jüngster Zeit wird die Färbung von Festkörper-Bildsensoren,
die als Bildsensoren der nächsten Generation herausgestellt
werden und die an die Stelle von Elektronenröhren oder Bildauf
nahmeröhren treten werden, dadurch erreicht, daß über einem fo
toelektrischen Umwandlungsbereich ein Farbfilter vorgesehen
ist. Durch eine derartige Bildung eines Farbfilters über einem
fotoelektrischen Umwandlungsbereich wird auch die Färbung einer
Wiedergabeeinrichtung, wie z. B. einer Flüssigkristall-Wiederga
beeinrichtung erzielt.
Die Arten von Farbfiltern werden in organische Filter, bei de
nen ein organisches Material, wie z. B. Gelatine, mit einem Fär
bemittel eingefärbt ist, und anorganische Filter unterschieden,
bei denen die optische Interferenz ausgenutzt wird. Von den
obigen Filtern werden organische Filter aufgrund der niedrige
ren Kosten häufiger verwendet als anorganische Filter.
Fig. 1 zeigt einen Farbfilter für einen bekannten ladungsgekop
pelten Speicher (CCD) im Querschnitt. In einem Siliziumsubstrat
(1), dessen Oberseite Vertiefungen und Erhöhungen aufweist,
sind an der Oberfläche der Vertiefungen Fotodiodenreihen (2, 3,
4) und an der Oberfläche der Erhöhungen eine leitfähige Schicht
(5) und eine isolierende Schicht (6) vorgesehen. Ein Teil der
leitfähigen Schicht (5) dient zur elektrischen Verbindung des
Halbleiter-Bauelements mit einer Umhüllung und die isolierende
Schicht (6) dient dazu, die Fotodiodenreihen (2, 3, 4) elektrisch
zu isolieren.
Auf die die Vertiefungen und Erhöhungen aufweisende Oberfläche
des Siliziumsubstrats (1) sind eine planierende Schicht (7) und
Zwischenschichten (11, 17) aufgebracht.
Weiterhin sind jeweils Farbfiltermuster (8, 13, 19) vorgesehen,
auf deren Oberfläche den Fotodiodenreihen (2, 3, 4) zugeordnete
Farbgebungsschichten (9, 15, 21) aufgebracht sind. Die jeweili
gen Farbfiltermuster (8, 13, 19) befinden sich dabei in unter
schiedlicher Höhe über den jeweiligen Fotodiodenreihen (2, 3, 4).
Im folgenden wird kurz das Herstellungsverfahren für das Aus
führungsbeispiel mit der obigen Strukturierung erläutert.
Auf die mit Vertiefungen und Erhöhungen versehene Oberfläche
des Siliziumsubstrats (1) werden an der Oberfläche der Vertie
fungen die Fotodiodenreihen (2, 3, 4) und an der Oberfläche der
Erhöhungen die leitfähige Schicht (5) und die isolierende
Schicht (6) aufgebracht. Dann wird die planierende, aus einer
lichtdurchlässigen Substanz, wie z. B. Polyimid, bestehende
Schicht (7) auf die Oberfläche des Siliziumsubstrats (1) aufge
bracht.
Danach wird auf die planierende Schicht (7) eine lichtempfind
liche Substanz, wie z. B. Casein oder Gelatine, aufgebracht und
mittels Fotolithographie ein Farbfiltermuster (8) erzeugt. Als
nächstes wird ein Färbemittel auf die planierende Schicht (7)
und das Farbfiltermuster (8) aufgetragen. Durch Einfärbung des
einzigen Farbfiltermusters (8) entsteht dadurch eine Farb
schicht (9). Die Farbschicht (9) ist mit einem der Färbemittel
Magenta, Cyan oder Gelb eingefärbt, um eine der Farben magenta
rot, cyanblau oder gelb herauszufiltern. Durch Aufbringen von
Polyimid auf die Oberfläche der obigen Struktur entsteht dann
die Zwischenschicht (11).
In ähnlicher Weise wie oben beschrieben werden die Farbfilter
muster (13, 19), auf deren Oberfläche die Farbschichten (15,
21), die die jeweils gewünschte Farbe herausfiltern, und die
Zwischenschicht (17) ausgebildet. Die Zwischenschichten (11, 17)
schützen die bereits erzeugten Farbschichten vor einer gegen
seitigen Vermischung während der Erzeugung der Farbschichten
(15, 21).
Schließlich wird eine Schutzschicht (23) aus Polyimid auf die
gesamte Oberfläche der obigen Struktur aufgebracht und durch
Bildung einer Öffnung (25) ein Teil der Anschlußfläche (5) zur
Bildung der Elektrode freigelegt.
Ein weiterer, bekannter Farbfilter ist in der KR-PS 83-1454 of
fenbart.
Der oben beschriebene, bekannte Farbfilter hat den Nachteil,
daß seine Bildqualität aufgrund der Dispersionserscheinungen,
die durch Brechung und Reflexion des einfallenden Lichts ent
stehen, gering ist und der optische Transmissionsgrad durch die
Zwischenschichten reduziert ist, weil die den Reihen von Foto
zellen zugeordneten Farbfilterschichten in unterschiedlicher
Höhe angeordnet sind und sich die Dicke der gesamten Zwischen
schicht durch das schichtweise Aufbringen der einzelnen Zwi
schenschichten erhöht. Aus diesem Grund entstehen auch Schwie
rigkeiten bei der Erzeugung der Öffnung für die Bildung der
Elektrode.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen verbesserten
Farbfilter zu schaffen, der die oben beschriebenen Unzuläng
lichkeiten bisheriger Bauelemente beseitigt und eine gute Bild
qualität liefert.
Zur Lösung der Aufgabe sieht die Erfindung einen Farbfilter
vor, welcher wenigstens zwei voneinander verschiedene, jeweils
einer Mehrzahl von in Form einer Matrix auf einem Trägersub
strat angeordneten Bildelementen zugeordnete Filtercharakteri
stiken aufweist und folgende charakteristische Elemente enthält:
eine sich über die gesamte Oberseite des Trägersubstrats er streckende, lichtdurchlässige, planierende Schicht,
Farbfiltermuster oberhalb der planierenden Schicht, die sämtlich auf derselben Höhe über jedem jeweils zugeordneten Bildelement angeordnet sind,
selektiv in wenigstens zwei unterschiedlichen Farben eingefärb te Farbschichten auf der Oberfläche der jeweiligen Farbfilter muster und
eine lichtdurchlässige Schutzschicht auf der planierenden Schicht und den Farbschichten.
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Farbfiltermuster oberhalb der planierenden Schicht, die sämtlich auf derselben Höhe über jedem jeweils zugeordneten Bildelement angeordnet sind,
selektiv in wenigstens zwei unterschiedlichen Farben eingefärb te Farbschichten auf der Oberfläche der jeweiligen Farbfilter muster und
eine lichtdurchlässige Schutzschicht auf der planierenden Schicht und den Farbschichten.
In Ausgestaltung der Erfindung wird ein Herstellungsverfahren
für den Farbfilter geschaffen, der wenigstens zwei voneinander
verschiedene, jeweils einer Mehrzahl von in Form einer Matrix
auf dem Trägersubstrat angeordneten Bildelementen zugeordnete
Filtercharakteristiken aufweist, das durch folgende Prozeß
schritte gekennzeichnet ist:
einen ersten Prozeßschritt, in dem eine planierende, lichtdurch lässige Schicht auf die gesamte Oberfläche des Trägersubstrats aufgebracht wird,
einen zweiten Prozeßschritt, in dem auf der planierenden Schicht die einem jeden Bildelement zugeordneten Farbfiltermu ster aufgebracht und auf deren Oberfläche durch selektive Fär bung in wenigstens zwei voneinander verschiedenen Farben die Farbschichten erzeugt werden, und
einen dritten Prozeßschritt, in dem auf die planierende Schicht und die Farbschichten die lichtdurchlässige Schutzschicht auf gebracht wird.
einen ersten Prozeßschritt, in dem eine planierende, lichtdurch lässige Schicht auf die gesamte Oberfläche des Trägersubstrats aufgebracht wird,
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einen dritten Prozeßschritt, in dem auf die planierende Schicht und die Farbschichten die lichtdurchlässige Schutzschicht auf gebracht wird.
Weitere Vorteile und Merkmale der Erfindung ergeben sich aus
den Unteransprüchen und der nachfolgenden Beschreibung. Die
obigen Merkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden
anhand der nachfolgenden Beschreibung eines bevorzugten, erfin
dungsgemäßen und in den Zeichnungen dargestellten Ausführungs
beispiels näher verdeutlicht.
Fig. 1 ist ein Querschnitt eines bekannten, in der Beschrei
bungseinleitung beschriebenen Farbfilters,
Fig. 2 ein Querschnitt eines Farbfilters gemäß der vor
liegenden Erfindung, und
Fig. 3A bis 3E sind Querschnitte, die aufeinanderfolgende Verfahrens
schritte zur Herstellung des Farbfilters der Fig. 2
darstellen.
In dem vertikalen Querschnitt der Fig. 2 ist ein erfindungsge
mäßer Farbfilter in Verbindung mit einem ladungsgekoppelten
Speicher-Bauelement (CCD) dargestellt. Es ist jedoch zu beach
ten, daß es genauso möglich ist, den erfindungsgemäßen Farbfil
ter in Verbindung mit anderen Festkörper-Bildsensoren und Wie
dergabegeräten anzuwenden.
Wie aus Fig. 2 zu erkennen ist, besitzt ein Siliziumsubstrat
(31) eine Struktur mit Vertiefungen und Erhöhungen. An der Ober
fläche der Vertiefungen sind Fotodiodenreihen (32, 33, 34) aus
gebildet, welche in den Bildelementen eine Rolle spielen. An
der Oberfläche der Erhöhungen sind eine leitfähige Schicht (35)
zur elektrischen Verbindung und eine isolierende Schicht (36)
gebildet. Ein Teil der leitfähigen Schicht (35) wird zur elek
trischen Verbindung des Halbleiter-Bauelements mit einer Umhül
lung und die isolierende Schicht (36) dazu verwendet, die Foto
diodenreihen (32, 33, 34) elektrisch zu isolieren.
Auf die die Vertiefungen und Erhöhungen aufweisende Oberfläche
des Siliziumsubstrats (31) ist eine planierende Schicht (37)
aufgebracht.
Auf der Oberseite der planierenden Schicht (37) sind den Foto
diodenreihen (32, 33, 34) zugeordnete Farbfiltermuster (38, 43,
49) gebildet, deren Oberfläche von Farbschichten (39, 45, 51)
umgeben ist. Die Farbfiltermuster (38, 43, 49) befinden sich
alle auf derselben Höhe bezüglich der Fotodiodenreihen (32, 33,
34).
Des weiteren ist eine Schutzschicht (53) auf die Oberfläche der
planierenden Schicht (37) und der Farbschichten (30, 45, 51)
aufgebracht und eine Öffnung zur Bildung einer Elektrode auf
der Anschlußfläche (35) gebildet.
Die Querschnitte der Fig. 3A bis 3E zeigen den Herstellungspro
zeß für das Ausführungsbeispiel der Fig. 2.
Im Prozeßstadium der Fig. 3A weist die Oberfläche des Silizium
substrats (31) die aus Vertiefungen und Erhöhungen bestehende
Struktur auf, auf welche die Fotodiodenreihen (32, 33, 34) an
der Oberfläche der Vertiefungen und eine leitfähige, aus einem
Metall, wie z. B. Al, bestehende Schicht (35) sowie eine isolie
rende Schicht (36), wie z. B. SiO2, an der Oberfläche der Er
höhungen aufgebracht sind. Darüber ist die planierende Schicht
(37), bestehend aus einer durchsichtigen Substanz, wie z. B. Po
lyimid, auf das Siliziumsubstrat (31) aufgebracht. Um das ein
fallende Licht zu über 95% zu transmittieren, ist die planie
rende Schicht (37) in einer Dicke von ca. 300 nm bezogen auf
die Erhöhungen aufgebracht. Darauf ist ein erstes Farbfiltermu
ster (38) fotolithographisch aufgebracht, nachdem Gelatine oder
eine Mischung von Casein mit Dichromatsäure in einer Dicke von
ca. 400 bis 1000 nm auf die Oberfläche der planierenden Schicht
(37) aufgetragen wurde. Dieses erste Farbfiltermuster (38) ist
der ersten Fotodiodenreihe (32) zugeordnet.
Durch kontinuierliches Aufbringen eines Färbemittels auf die
Oberfläche der obigen Struktur färbt sich die Oberfläche des
ersten Farbfiltermusters (38), womit die erste Farbschicht (39)
erzeugt ist. Als nächstes wird das auf der planierenden Schicht
(37) befindliche Färbemittel mit deionisiertem Wasser entfernt.
Im Färbemittel wird Magenta, Cyan oder Gelb benutzt, so daß die
Farbschicht (39) eine der Farben magentarot, cyanblau oder gelb
herausfiltert. Beispielhaft ist im Färbemittel Magenta verwen
det, so daß die erste Farbschicht (39) magentarot gefärbtes
Licht herausfiltert.
Nachdem auf die Oberseite der planierenden Schicht (37) und der
ersten Farbschicht (39) Polyimid in einer Dicke von ca. 1µm
aufgetragen wurde, ist im Stadium des Prozesses der Fig. 3B die
planierende Schicht (37) im Bereich der zweiten Fotodiodenreihe
(33) durch ein fotolithographisches Verfahren freigelegt, so
daß eine erste Zwischenschicht (41) ausgebildet ist. Die
planierende Schicht (37) und die erste Zwischenschicht (41) be
stehen entweder aus derselben oder aus verschiedenen Substan
zen.
Im Falle, daß die beiden Schichten (37, 39) aus derselben Sub
stanz bestehen, wird vor dem Aufbringen der ersten Zwischen
schicht (41) und nach dem Aufbringen der planierenden Schicht
(37) thermische Energie zugeführt, so daß sich eine nachfolgen
de Belichtung nicht auf die planierende Schicht (37) auswirkt.
Im Falle zweier unterschiedlicher Substanzen werden die beiden
Schichten (37, 41) mit Licht jeweils verschiedener Wellenlänge
belichtet. Die planierende Schicht (37) wird über einen genü
gend großen Bereich freigelegt, um die danach aufzubringende
Schicht ausreichend eben gestalten zu können.
Ebenso ist sich über die gesamte Oberfläche der obigen Struktur
erstreckend im Prozeßstadium der Fig. 3C das zweite Farbfilter
muster (43) mit Hilfe derselben Substanz und Verfahrensweise
wie das erste Farbfiltermuster (38) aufgebracht. Dieses zweite
Farbfiltermuster (43) ist dann der zweiten Fotodiodenreihe (33)
zugeordnet. Als nächstes ist die zweite Farbschicht (45) auf
der Oberfläche des zweiten Farbfiltermusters (43) nach demsel
ben Verfahren wie bei der Bildung der ersten Farbschicht (38)
aufgebracht. Hierbei verhindert die erste Zwischenschicht (41)
eine Vermischung des Färbemittels für die Bildung der zweiten
Farbschicht (45) mit der ersten Farbschicht (38). Im Färbemit
tel wird Cyan verwendet, so daß die zweite Farbschicht (45)
cyanblau gefärbtes Licht herausfiltern kann.
Nachdem das Färbemittel auf der ersten Zwischenschicht (41)
mittels deionisiertem Wasser entfernt ist, wird die erste Zwi
schenschicht entwickelt bzw. durch einen Verdünner oder einen
Stripper abgelöst. Das Prozeßstadium der Fig. 3D wird dadurch
erreicht, daß als nächstes das dritte Farbfiltermuster (49) und
die dritte Farbschicht (51) durch dieselbe Methode, wie oben
beschrieben, erzeugt werden. Das dritte Farbfiltermuster (49)
ist dann der dritten Fotodiodenreihe (34) zugeordnet. Im Färbe
mittel wird Gelb verwendet, so daß die dritte Farbschicht (51)
gelb gefärbtes Licht herausfiltern kann.
Nach Entfernung des Färbemittels auf einer zweiten Zwischen
schicht (47) durch deionisiertes Wasser wird diese zweite Zwi
schenschicht (47) auf dieselbe Weise abgelöst wie die erste
Zwischenschicht (41). Nach Aufbringen der Schutzschicht (53)
aus Polyimid auf die gesamte Oberfläche der obigen Struktur in
einer Dicke von ca. 1µm wird das Prozeßstadium der Fig. 3E da
durch erreicht, daß eine Öffnung (55) zur Bildung der Elektrode
ausgebildet wird, wodurch ein Teil der Anschlußfläche (35)
freigelegt ist.
Da, wie oben beschrieben, alle den Reihen der fotoelektrischen
Elemente zugeordneten Farbschichten in derselben Höhe ange
bracht sind, können Dispersionserscheinungen aufgrund von Bre
chung und Reflexion des einfallenden Lichts verhindert werden.
Da keine Zwischenschichten erforderlich sind, um eine Vermi
schung der Farben bei Aufbringen des Färbemittels zu verhin
dern, wird außerdem die optische Transmission verbessert und
der Prozeßschritt zur Herstellung der Öffnung für die Elektrode
vereinfacht.
Die vorliegende Erfindung weist daher den Vorteil auf, daß die
optische Transmission und die Bildqualität des Farbfilterbildes
durch Beseitigung der Dispersionserscheinungen aufgrund von
Brechung und Reflexion des einfallenden Lichts verbessert sind
und gleichzeitig das Herstellungsverfahren vereinfacht ist.
Claims (15)
1. Farbfilter, welcher wenigstens zwei voneinander ver
schiedene, jeweils einer Mehrzahl von in Form einer Matrix auf
einem Trägersubstrat angeordneten Bildelementen zugeordnete
Filtercharakteristiken aufweist, mit:
einer sich über die gesamte Oberseite des Trägersubstrats er streckenden, lichtdurchlässigen, planierenden Schicht,
Farbfiltermuster oberhalb der planierenden Schicht,
selektiv in wenigstens zwei unterschiedlichen Farben eingefärb ten Farbschichten auf der Oberfläche der jeweiligen Farbfilter muster und
einer lichtdurchlässigen äußeren Schutzschicht,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Farbfiltermuster (38, 43, 49) oberhalb der planierenden Schicht (37) sämtlich auf derselben Höhe über jedem jeweils zu geordneten Bildelement angeordnet sind und
die abschließende Schutzschicht (53) eine homogene Abdeckung mit gleicher Dicke über sämtlichen Farbschichten (39, 45, 51) ist.
einer sich über die gesamte Oberseite des Trägersubstrats er streckenden, lichtdurchlässigen, planierenden Schicht,
Farbfiltermuster oberhalb der planierenden Schicht,
selektiv in wenigstens zwei unterschiedlichen Farben eingefärb ten Farbschichten auf der Oberfläche der jeweiligen Farbfilter muster und
einer lichtdurchlässigen äußeren Schutzschicht,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Farbfiltermuster (38, 43, 49) oberhalb der planierenden Schicht (37) sämtlich auf derselben Höhe über jedem jeweils zu geordneten Bildelement angeordnet sind und
die abschließende Schutzschicht (53) eine homogene Abdeckung mit gleicher Dicke über sämtlichen Farbschichten (39, 45, 51) ist.
2. Farbfilter nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Farbfiltermuster aus Gelatine oder einer Mischung von Case
in und Dichromatsäure hergestellt sind.
3. Farbfilter nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich
net, daß die planierende Schicht (37) mittels einer lichtemp
findlichen Substanz gebildet ist.
4. Farbfilter nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Farbschichten selektiv in magentaroter,
cyanblauer oder gelber Farbe eingefärbt sind.
5. Verfahren zur Herstellung eines Farbfilters nach einem
der Ansprüche 1 bis 4, gekennzeichnet durch folgende Prozeß
schritte:
einem ersten Prozeßschritt, in dem die planierende, lichtdurch lässige Schicht (37) auf die gesamte Oberfläche des Trägersub strats (31) aufgebracht wird;
einem zweiten Prozeßschritt, in dem die einem jeden Bildelement zugeordneten Farbfiltermuster (38, 43, 49) auf die planierende Schicht (37) aufgebracht und die Farbschichten (39, 45, 51) auf der Oberfläche der Farbfiltermuster (38, 43, 49) durch selekti ves Einfärben in wenigstens zwei voneinander verschiedenen Far ben erzeugt werden und
einem dritten Prozeßschritt, in dem die lichtdurchlässige Schutzschicht (53) auf die planierende Schicht (37) und die Farbschichten (39, 45, 51) aufgebracht wird.
einem ersten Prozeßschritt, in dem die planierende, lichtdurch lässige Schicht (37) auf die gesamte Oberfläche des Trägersub strats (31) aufgebracht wird;
einem zweiten Prozeßschritt, in dem die einem jeden Bildelement zugeordneten Farbfiltermuster (38, 43, 49) auf die planierende Schicht (37) aufgebracht und die Farbschichten (39, 45, 51) auf der Oberfläche der Farbfiltermuster (38, 43, 49) durch selekti ves Einfärben in wenigstens zwei voneinander verschiedenen Far ben erzeugt werden und
einem dritten Prozeßschritt, in dem die lichtdurchlässige Schutzschicht (53) auf die planierende Schicht (37) und die Farbschichten (39, 45, 51) aufgebracht wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
der zweite Prozeßschritt aus einem ersten Abschnitt,in dem eine
Gruppe (38) von Farbfiltermustern, die einer Gruppe (32) aus
der Mehrzahl der Bildelemente zugeordnet sind, auf der Oberseite
der planierenden Schicht (37) ausgebildet wird und die Farb
schichten (39) erzeugt werden, welche die Oberflächen dieser
Gruppe (38) von Farbfiltermustern mit der gewünschten Farbe
einfärben, und aus einem zweiten Abschnitt besteht, in dem die
folgenden fünf Schritte wenigstens einmal in Reihenfolge wie
derholt werden:
- 1) ein erster Schritt, in dem auf der gesamten Oberfläche der planierenden Schicht (37) und der Farbschichten (39) die Zwischenschicht (41) aufgebracht wird;
- 2) ein zweiter Schritt, in dem einer Gruppe (33) der restli chen Bildelemente zugeordnete Öffnungen in der Zwischen schicht (41) ausgebildet werden;
- 3) ein dritter Schritt, in dem die Farbfiltermuster (43) auf der Oberseite des durch die Öffnungen freigelegten Teils der planierenden Schicht (37) ausgebildet werden;
- 4) ein vierter Schritt, in dem die Farbschicht (45) erzeugt wird, die mit einer von der gewählten Farbe auf der Ober fläche des vorigen Farbfiltermusters (38) verschiedenen Farbe eingefärbt ist;
- 5) ein fünfter Schritt, in dem die Zwischenschicht (41) ent fernt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeich
net, daß die Schichten (38, 43, 49) für die Farbfiltermuster
aus Gelatine oder einer Mischung von Casein mit Dichromatsäure
hergestellt werden.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch ge
kennzeichnet, daß die planierende Schicht (37) und die Zwi
schenschichten (41, 47) aus lichtempfindlichen Substanzen her
gestellt werden.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch ge
kennzeichnet, daß die planierende Schicht (37) und die Zwi
schenschichten (41, 47) aus derselben Substanz hergestellt wer
den.
10. Verfahren nach den Ansprüchen 8 und 9, dadurch gekenn
zeichnet, daß zur Ausbildung der planierenden Schicht (37) die
ser thermische Energie zugeführt wird.
11. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß
die planierende Schicht (37) und die Zwischenschicht (41) aus
unterschiedlichen Substanzen hergestellt werden, die jeweils
gegenüber Licht unterschiedlicher Wellenlänge empfindlich sind.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 8, 10 oder 11, da
durch gekennzeichnet, daß die Zwischenschichten (41, 47) nach
Bestrahlung der ganzen Oberfläche durch Entwicklung entfernt
werden.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Zwischenschichten (41, 47) entweder
durch einen Verdünner oder einen Stripper entfernt werden.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß zur Einfärbung der Farbschichten (39, 45,
51) selektiv eine magentarote, eine cyanblaube oder eine gelbe
Farbe verwendet wird.
15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß
die Farbschichten (39, 45, 51) durch selektive Einfärbung mit
Magenta, Cyan und Gelb hergestellt werden.
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Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5229595A (en) * | 1991-12-19 | 1993-07-20 | Xerox Corporation | Fluid-filled color filtered input scanner arrays |
KR950011567B1 (ko) * | 1992-02-21 | 1995-10-06 | 삼성전자주식회사 | 칼라필터 제조방법 |
US5654202A (en) * | 1992-03-24 | 1997-08-05 | Eastman Kodak Company | Stabilization of a patterned planarizing layer for solid state imagers prior to color filter pattern formation |
KR960003482B1 (ko) * | 1992-12-14 | 1996-03-14 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치의 칼라 필터 제조방법 |
US5514503A (en) * | 1994-10-17 | 1996-05-07 | Corning Incorporated | Apparatus and method for printing a color filter |
US6001515A (en) * | 1993-11-03 | 1999-12-14 | Corning Incorporated | Method for printing a color filter |
US5578404A (en) * | 1995-03-27 | 1996-11-26 | Polaroid Corporation | Process for the production of liquid crystal display |
US5677202A (en) * | 1995-11-20 | 1997-10-14 | Eastman Kodak Company | Method for making planar color filter array for image sensors with embedded color filter arrays |
KR970067920A (ko) * | 1996-03-07 | 1997-10-13 | 문정환 | 고체촬상소자의 제조방법 |
EP0959505A3 (de) * | 1998-05-18 | 2000-01-26 | Eastman Kodak Company | Verfahren zur Planarisierung der Topographie einer Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung |
US7157302B2 (en) * | 1998-06-04 | 2007-01-02 | Micron Technology, Inc. | Imaging device and method of manufacture |
US20020084407A1 (en) * | 2000-12-28 | 2002-07-04 | Xerox Corporation | Systems and methods for fabricating an electro-optical device used for image sensing |
JP4223743B2 (ja) * | 2002-06-26 | 2009-02-12 | 光寶科技股▲分▼有限公司 | カラーセクションディスプレイユニットの製造方法 |
US6660641B1 (en) | 2002-07-05 | 2003-12-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for forming crack resistant planarizing layer within microelectronic fabrication |
US20040265481A1 (en) * | 2003-06-27 | 2004-12-30 | Yoshihiro Kobayashi | Method for manufacturing electroluminescent element |
US7232697B2 (en) * | 2003-12-23 | 2007-06-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device having enhanced photo sensitivity and method for manufacture thereof |
CN100399571C (zh) * | 2005-07-19 | 2008-07-02 | 联华电子股份有限公司 | 影像传感器的制作方法 |
CN104968162A (zh) * | 2015-05-26 | 2015-10-07 | 维沃移动通信有限公司 | 一种印刷电路板的加工方法及印刷电路板 |
JPWO2019044277A1 (ja) * | 2017-08-30 | 2020-10-01 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法およびカラーフィルタ |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2745289B2 (de) * | 1976-10-08 | 1980-01-10 | Eastman Kodak Co., Rochester, N.Y. (V.St.A.) | Farbbild-Abtastanordnung |
KR830001454A (ko) * | 1979-08-17 | 1983-04-30 | 이시하라 다까시 | 무저직기(無저織機)의 위사(緯사)절단장치 |
JPS608803A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-17 | Toshiba Corp | カラ−フイルタ−の製造方法 |
JPS61295505A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Seikosha Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
JPS62229204A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-08 | Dainippon Printing Co Ltd | カラ−フイルタ− |
JPS63155002A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-28 | Fujitsu Ltd | 固体撮像装置の製造方法 |
JPS63188104A (ja) * | 1987-01-30 | 1988-08-03 | Mitsubishi Electric Corp | カラ−フイルタの製造方法 |
US4764670A (en) * | 1986-06-20 | 1988-08-16 | Eastman Kodak Company | Color filter arrays |
JPS643605A (en) * | 1987-06-25 | 1989-01-09 | Mitsubishi Electric Corp | Production of color filter |
DE3842507A1 (de) * | 1987-12-18 | 1989-06-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Verfahren zur herstellung eines mehrfarbigen musters fuer farbfilter |
JPH06321604A (ja) * | 1993-05-13 | 1994-11-22 | Taisei Corp | 耐強硫酸性モルタル、コンクリート |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50147339A (de) * | 1974-05-16 | 1975-11-26 | ||
JPS556342A (en) * | 1978-06-28 | 1980-01-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of multicolor optical filter |
US4383018A (en) * | 1979-09-04 | 1983-05-10 | Eastman Kodak Company | Color imaging devices having integral color filter arrays |
JPS5642481A (en) * | 1979-09-13 | 1981-04-20 | Canon Inc | Color picture detector |
JPS56165362A (en) * | 1980-05-26 | 1981-12-18 | Hitachi Ltd | Manufacture of solid state color image pickup element |
JPS5720481A (en) * | 1980-07-11 | 1982-02-02 | Sony Corp | Production of solid-state image sensing device |
JPS6034085B2 (ja) * | 1981-04-20 | 1985-08-07 | 松下電器産業株式会社 | カラ−フイルタの製造方法 |
NL8105071A (nl) * | 1981-11-10 | 1983-06-01 | Philips Nv | Kleurenbeeldopneeminrichting. |
US4580159A (en) * | 1982-10-15 | 1986-04-01 | Nec Corporation | Color solid-state imager with color filter array formed by layers of hydrophilic and hydrophobic dye receiving resins |
JPS6041256A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-04 | Toshiba Corp | カラ−固体撮像素子およびその製造方法 |
JPS60188927A (ja) * | 1984-03-08 | 1985-09-26 | Toshiba Corp | カラ−・マトリツクス型液晶表示装置の製造方法 |
JPS61290408A (ja) * | 1985-06-18 | 1986-12-20 | Fuji Xerox Co Ltd | カラ−密着型イメ−ジセンサおよびその製造方法 |
JPS61292960A (ja) * | 1985-06-21 | 1986-12-23 | Toshiba Corp | 固体撮像装置 |
JP2677786B2 (ja) * | 1986-07-10 | 1997-11-17 | ソニー株式会社 | 固体撮像装置の製造方法 |
JPS6394670A (ja) * | 1986-10-09 | 1988-04-25 | Fujitsu Ltd | 固体撮像素子及びその製造方法 |
JPS63143504A (ja) * | 1986-12-05 | 1988-06-15 | Toshiba Corp | カラ−固体撮像装置の製造方法 |
US4786148A (en) * | 1986-12-10 | 1988-11-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Color filter having different primary color pigment densities, inter alia |
EP0277385A3 (en) * | 1987-01-27 | 1990-11-14 | Agfa-Gevaert Naamloze Vennootschap | Process for the manufacture of a relief element |
US4855724A (en) * | 1987-03-23 | 1989-08-08 | Tektronix, Inc. | Color filter grouping for addressing matrixed display devices |
JPS63276003A (ja) * | 1987-05-08 | 1988-11-14 | Casio Comput Co Ltd | カラ−フィルタの製造方法 |
JP2567257B2 (ja) * | 1987-09-30 | 1996-12-25 | 日本化薬株式会社 | カラーフィルター |
JPH01149459A (ja) * | 1987-12-04 | 1989-06-12 | Nec Corp | カラー固体撮像素子 |
US4934791A (en) * | 1987-12-09 | 1990-06-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Color filter |
-
1989
- 1989-12-02 KR KR1019890017828A patent/KR920005444B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1990
- 1990-03-07 DE DE4007119A patent/DE4007119A1/de not_active Ceased
- 1990-03-08 FR FR9002936A patent/FR2655501B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-09 US US07/491,101 patent/US5053298A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-10 JP JP5975990A patent/JP2609339B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-15 GB GB9005809A patent/GB2238689B/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2745289B2 (de) * | 1976-10-08 | 1980-01-10 | Eastman Kodak Co., Rochester, N.Y. (V.St.A.) | Farbbild-Abtastanordnung |
KR830001454A (ko) * | 1979-08-17 | 1983-04-30 | 이시하라 다까시 | 무저직기(無저織機)의 위사(緯사)절단장치 |
JPS608803A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-17 | Toshiba Corp | カラ−フイルタ−の製造方法 |
JPS61295505A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Seikosha Co Ltd | カラ−フイルタの製造方法 |
JPS62229204A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-08 | Dainippon Printing Co Ltd | カラ−フイルタ− |
US4764670A (en) * | 1986-06-20 | 1988-08-16 | Eastman Kodak Company | Color filter arrays |
JPS63155002A (ja) * | 1986-12-19 | 1988-06-28 | Fujitsu Ltd | 固体撮像装置の製造方法 |
JPS63188104A (ja) * | 1987-01-30 | 1988-08-03 | Mitsubishi Electric Corp | カラ−フイルタの製造方法 |
JPS643605A (en) * | 1987-06-25 | 1989-01-09 | Mitsubishi Electric Corp | Production of color filter |
DE3842507A1 (de) * | 1987-12-18 | 1989-06-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | Verfahren zur herstellung eines mehrfarbigen musters fuer farbfilter |
JPH06321604A (ja) * | 1993-05-13 | 1994-11-22 | Taisei Corp | 耐強硫酸性モルタル、コンクリート |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Patent Abstracts of JP P-681, March 29, 1988, Vol. 12/No. 95 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB9005809D0 (en) | 1990-05-09 |
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US5053298A (en) | 1991-10-01 |
FR2655501B1 (fr) | 1996-08-14 |
GB2238689B (en) | 1994-08-10 |
KR920005444B1 (ko) | 1992-07-04 |
GB2238689A (en) | 1991-06-05 |
JP2609339B2 (ja) | 1997-05-14 |
FR2655501A1 (fr) | 1991-06-07 |
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