DE4415140A1 - Festkörper-Bildsensorelement und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents
Festkörper-Bildsensorelement und Verfahren zu dessen HerstellungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Festkörper-Bildsensorelement und
ein Verfahren zu dessen Herstellung. Spezieller betrifft sie
Mikrolinsen an einem solchen Element und die Herstellung
solcher Mikrolinsen.
Im allgemeinen weist ein Festkörper-Bildsensorelement einen
Aufbau auf, wie er in Fig. 4 dargestellt ist, bei dem Photo
dioden, die empfangene Lichtsignale in elektronische Signale
umsetzen, matrixförmig unter Einhaltung gewisser Abstände in
vertikaler und horizontaler Richtung angeordnet sind. Verti
kal-CCDs (VCCDs) zum Übertragen von in den Photodioden er
zeugter Ladungen in vertikaler Richtung sind zwischen den
Photodioden ausgebildet. An den Ausgabeenden der VCCDs ist
ein Horizontal-CCD (HCCD) angeordnet, und ein Meßverstärker
(SA) zum Messen der aus dem HCCD austretenden Ladungsmenge
ist am Ausgangsende des HCCDs vorhanden.
Die Betriebsweise eines solchen Festkörper-Bildsensorele
ments ist die folgende.
Die in den Photodioden durch einfallendes Licht erzeugten
Ladungen werden in dem Moment an die VCCDs übertragen, wenn
eine Gatevorspannung (15 V) angelegt wird. Die in die VCCDs
übertragenen Ladungen werden durch ein VCCD-Taktsignal von
-9 V bis 0 V an das HCCD übertragen, die in das HCCD über
tragenen Ladungen werden durch ein Taktsignal von 0 V bis
5 V zur Ausgangsseite transportiert, und diese Ladungen wer
den an der Ausgangsseite in ein Spannungssignal umgesetzt
und über den Meßverstärker ausgegeben.
In Fig. 5 ist ein Querschnitt durch ein herkömmliches Fest
körper-Bildsensorelement dargestellt, das dadurch herge
stellt wird, daß ein Metallfilm 11 für Lichtunterbrechung
auf einem Substrat mit Photodiodenbereichen 1 ausgebildet
wird, in dem auch Bereiche zur Ladungsübertragung und viele
Torbereiche vorhanden sind. Ein Metallfilm 2 wird zu Kon
taktflecken durch Mustern desselben ausgebildet. Auf dem
Metallfilm 2 wird ein Isolierfilm 3 wie ein Nitridfilm abge
schieden, und dieser wird selektiv in den Kontaktfleckberei
chen entfernt. Über dem Substrat wird eine ebene Schicht 4
ausgebildet, auf der Farbfilterschichten 5, 6 und 7 herge
stellt werden. Zum Einebnen wird eine obere Überzugsschicht
8 hergestellt, auf der Mikrolinsen 9 ausgebildet werden, die
jeweils so positioniert sind, daß sie einer Photodiode ent
sprechen. Die Kontaktfleckbereiche werden durch selektives
Entfernen der oberen Überzugsschicht 8 und der ebenen
Schicht 4 in den Kontaktfleckbereichen freigelegt.
Licht, das durch eine Mikrolinse 9 einfällt, strahlt durch
die obere Überzugsschicht 8, die Farbfilterschichten 5, 6
und 7 und die ebene Schicht 4 in die zugehörige Photodiode,
und das von dieser Photodiode empfangene Licht wird durch
Umsetzung in Ladung in der Photodiode, durch Transport der
Ladung durch das zugehörige VCCD und das HCCD sowie Verstär
kung durch den Meßverstärker in ein Bildsignal umgesetzt.
Wie vorstehend beschrieben, wird bei herkömmlichen Festkör
per-Bildsensorelementen das einfallende Licht durch ein Lin
senarray fokussiert, das auf den Farbfilterschichten ausge
bildet ist, um die Empfindlichkeit zu verbessern. Das Lin
senarray wird dadurch hergestellt, daß ein transparenter
Photoresist mit einem Brechungsindex von 1,6 gemustert und
angeschmolzen wird.
Bei derartigen Linsenarrays ist es bevorzugt, die Abstände
zwischen den Linsen so klein wie möglich zu machen, da zwi
schen den Linsen einfallendes Licht nicht fokussiert wird.
Die Abstände sind im allgemeinen in vertikaler und horizon
taler Richtung dieselben (im allgemeinen eine Abmessung in
nerhalb der Auflösungsgrenze für den Resist). Wenn sich die
Abmessungen eines Einheitspixels (Photodiode) in vertikaler
und horizontaler Richtung voneinander unterscheiden, wird
das unter einer Linse projizierte Bild kein Quadrat, sondern
ein Rechteck (siehe Fig. 6a und 6b). Da die Krümmungen der
Linsen in vertikaler und horizontaler Richtung voneinander
verschieden sind, unterscheiden sich auch die Brennweiten.
Die Empfindlichkeitsverringerung eines Festkörper-Bildsen
sorelements aufgrund dieses Effekts kann nicht vernachläs
sigt werden. Daher wurden Festkörper-Bildsensorelemente mit
Doppelschichtlinsen vorgeschlagen.
Fig. 6a zeigt einen Fall, bei dem streifenförmige Mikrolin
sen in horizontaler Richtung ausgebildet sind und mosaik
förmige Mikrolinsen jeweils an den Orten von Photodioden auf
den streifenförmigen Mikrolinsen angeordnet sind. Fig. 6b
zeigt den entsprechenden Fall für eine vertikale Anordnung
streifenförmiger Mikrolinsen. Fig. 6c zeigt einen Quer
schnitt entlang der Linie A-A′ in Fig. 6b. Die Linsen werden
dadurch hergestellt, daß zunächst streifenförmige Mikrolin
sen 32 in horizontaler oder vertikaler Richtung über Photo
dioden 21 ausgebildet werden und anschließend mosaikförmige
Mikrolinsen 33 auf den streifenförmigen Mikrolinsen 32 her
gestellt werden. Das Bezugszeichen 35 in Fig. 6 bezeichnet
Brennpunkte.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 7a bis 7f wird nachfolgend ein
Verfahren zum Herstellen eines Festkörper-Bildsensorelements
beschrieben, das ein Array aus Doppelschichtlinsen beinhal
tet.
Zunächst wird, wie dies in Fig. 7a dargestellt ist, ein
Schwarz/Weiß-Festkörper-Bildsensorelement 25 mit Photodioden
21 und VCCDs 22 ausgebildet, und darauf wird ein Nitridfilm
26 als Passivierungsschicht hergestellt. Die Bezugszahl 23
in Fig. 7a kennzeichnet einen Kontaktfleckbereich.
Danach wird, wie dies durch Fig. 7b veranschaulicht ist,
eine Einebnungsschicht 27 auf dem Nitridfilm 26 hergestellt,
und es wird eine erste Farbschicht 28 auf der Einebnungs
schicht ausgebildet, die mit einer ersten Farbe eingefärbt
ist und die dann gehärtet wird. Auf entsprechende Weise wer
den eine zweite Farbschicht 29 und eine dritte Farbschicht
30 hergestellt, die mit einer zweiten bzw. einer dritten
Farbe eingefärbt sind, um dadurch Farbfilterschichten 28, 29
und 30 herzustellen. Anschließend wird eine obere Überzugs
schicht 31 auf dem Substrat hergestellt.
Nachdem ein Photoresist zum Ausbilden einer Schicht für
streifenförmige Mikrolinsen auf die obere Überzugsschicht 21
aufgetragen wurde, werden, wie dies durch Fig. 7c veran
schaulicht ist, ein Belichtungsvorgang, ein Entwicklungsvor
gang und ein Anschmelzen ausgeführt, um eine Schicht 32 aus
streifenförmigen Mikrolinsen zu bilden. In Fig. 7c ist die
Schicht 32 mit streifenförmigen Mikrolinsen nicht im Teil
schnitt, sondern perspektivisch dargestellt, um die runde
Form des Linsenabschnitts X zu zeigen.
Danach wird, wie dies durch Fig. 7d veranschaulicht ist,
ein Photoresist zum Herstellen einer Schicht für mosaikför
mige Mikrolinsen auf die streifenförmigen Mikrolinsen 32
aufgetragen, und dieser Photoresist wird belichtet, entwic
kelt und angeschmolzen, um eine Schicht 33 mit ovalen, mo
saikförmigen Mikrolinsen auszubilden, die jeweils so geformt
sind, wie es in den Fig. 6a und 6b dargestellt ist, und die
jeweils in bezug auf eine Photodiode positioniert sind.
Dann wird, wie dies durch Fig. 7e veranschaulicht ist, ein
Photoresist 34 auf das Substrat aufgetragen, und dieser wird
gemustert, um durch selektives Belichten und Entwickeln die
Kontaktfleckbereiche zu öffnen. Unter Verwendung des Photo
resistmusters 34 als Maske werden die obere Überzugsschicht
31 und die Einebnungsschicht 27 abgeätzt.
Durch Entfernen des Photoresists 34 wird dann ein Farbbild-
Abrasterelement mit Mikrolinsen-Doppelschichten fertigge
stellt, wie durch Fig. 7f veranschaulicht.
Bei der Herstellung herkömmlicher Festkörper-Bildsensorele
mente mit Doppelschicht-Mikrolinsen werden die mosaikförmi
gen Mikrolinsen 33 direkt auf der Oberseite des konvexen Ab
schnitts der streifenförmigen Mikrolinsen 32 ausgebildet,
wie in Fig. 6c dargestellt, was den Musterungs- und An
schmelzvorgang erschwert.
Wenn der Integrationsgrad höher wird, muß die Brennweite
kürzer werden, was eine kleinere Krümmung der Mikrolinsen
erfordert. Unter Verwendung alleine des Anschmelzprozesses
für den Photoresist zum Herstellen von Mikrolinsen, wie im
Stand der Technik ausgeführt, lassen sich die Höhe und die
Krümmung der streifenförmigen Mikrolinsen nicht gleichzeitig
verringern, weswegen diese Art der Herstellung eines Fest
körper-Bildsensorelements für die nächste Generation von
Elementen nicht anwendbar ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Festkörper-
Bildsensorelement mit Mikrolinsen zu schaffen, die einfach
hergestellt werden können und bei denen die Krümmung und die
Höhe verringert werden können, um dem Trend zu dünnen Fest
körper-Bildsensorelementen zu folgen. Der Erfindung liegt
weiterhin die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Herstellen
eines solchen Elements anzugeben.
Die Erfindung ist für das Element durch die Lehre von An
spruch 1 und für das Verfahren durch die Lehre von Anspruch
6 gegeben.
Beim erfindungsgemäßen Element sind die streifenförmigen
Mikrolinsen nur noch an ihren Rändern gekrümmt und ihre
Oberseiten sind flachgeätzt. Die mosaikförmigen Mikrolinsen
sitzen auf der ebenen Oberfläche der streifenförmigen Mikro
linsen. Das erfindungsgemäße Verfahren zeichnet sich ent
sprechend dadurch aus, daß die streifenförmigen Mikrolinsen
vor dem Aufbringen der mosaikförmigen Mikrolinsen flachge
ätzt werden.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von durch Figuren
veranschaulichten Ausführungsbeispielen näher erläutert.
Fig. 1a bis 1c zeigen eine Mikrolinsenanordnung bei einem
Festkörper-Bildsensorelement mit erfindungsgemäßen Doppel
schicht-Mikrolinsen.
Fig. 2a bis 2e veranschaulichen ein Herstellverfahren für
ein Festkörper-Bildsensorelement mit Doppelschicht-Mikrolin
sen gemäß der Erfindung.
Fig. 3a und 3b dienen zum Vergleich zwischen einer herkömm
lichen Doppelschicht-Mikrolinse und einer solchen gemäß der
Erfindung.
Fig. 4 ist eine Draufsicht auf ein herkömmliches Festkörper-
Bildsensorelement.
Fig. 5 ist ein Teilschnitt durch ein herkömmliches Festkör
per-Bildsensorelement.
Fig. 6a bis 6c zeigen Mikrolinsen eines Festkörper-Bildsen
sorelements mit herkömmlichen Doppelschicht-Mikrolinsen.
Fig. 7a bis 7f veranschaulichen ein Verfahren zum Herstellen
eines Festkörper-Bildsensorelements mit herkömmlichen Dop
pelschicht-Mikrolinsen.
In den Fig. 1a bis 1c sind Mikrolinsen eines Festkörper-
Bildsensorelements gemäß der Erfindung dargestellt. Diese
Figuren gelten für den Fall, daß sich die Vertikalabmessung
eines Einheitspixels, d. h. einer Photodiode 21, von der
Horizontalabmessung unterscheidet. Dabei ist Fig. 1a eine
Draufsicht für den Fall, daß streifenförmige Mikrolinsen und
mosaikförmige Mikrolinsen in horizontaler Richtung über den
Bereichen von Photodioden 21 angeordnet sind, während Fig.
1b für den Fall gilt, daß diese Linsen in vertikaler Rich
tung ausgebildet sind. Fig. 1c zeigt einen Querschnitt ent
lang der Linie A-A′ in Fig. 1b.
Eine Mikrolinse eines Festkörper-Bildsensorelements gemäß
der Erfindung beinhaltet eine Doppelschicht mit einer strei
fenförmigen Mikrolinse 32A mit ebener Oberfläche 37, die in
horizontaler oder vertikaler Richtung über einem Photodio
denbereich ausgebildet ist, und eine mosaikförmige Mikro
linse 33, die auf der streifenförmigen Mikrolinse 32A ent
sprechend dem Ort der Photodiode positioniert ist. Die Be
zugszahlen 35 in den Fig. 1a bis 1c bezeichnen Brennpunkte.
Wie in den Fig. 1a bis 1c dargestellt, beinhaltet die Mikro
linse eines Festkörper-Bildsensorelements gemäß der Erfin
dung eine streifenförmige Mikrolinse 32A mit ebener Ober
seite 37 sowie eine ovale, mosaikförmige Mikrolinse 33, die
auf dieser ebenen Oberseite 37 ausgebildet ist.
Da die mosaikförmige Mikrolinse auf der ebenen Oberseite der
streifenförmigen Mikrolinse ausgebildet ist, ist die Her
stellung einfacher als im Fall, bei dem eine mosaikförmige
Mikrolinse über einer als konvexe Linse ausgebildeten strei
fenförmigen Mikrolinse hergestellt wird.
Nachfolgend wird unter Bezugnahme auf die Fig. 2a bis 2e ein
Verfahren zum Herstellen eines erfindungsgemäßen Festkörper-
Bildsensorelements beschrieben.
Zunächst wird, wie dies in Fig. 2a dargestellt ist, nachdem
Schwarz/Weiß-Festkörper-Bildsensorelemente 25 mit Photodio
den 21 und VCCDs 22 hergestellt wurden, ein Nitridfilm 26
als Passivierungsschicht aufgetragen. Die Bezugszahl 23 in
Fig. 2a bezeichnet einen Kontaktfleckbereich.
Dann wird, wie dies in Fig. 2b dargestellt ist, auf dem
Nitridfilm 26 eine ebene Schicht 27 ausgebildet, und auf
dieser wird eine erste Farbschicht 28 hergestellt, die mit
einer ersten Farbe eingefärbt ist, und sie wird danach aus
gehärtet. Anschließend werden entsprechend eine mit einer
zweiten Farbe eingefärbte zweite Farbschicht 29 und eine mit
einer dritten Farbe eingefärbte dritte Farbschicht 30 herge
stellt, um schließlich Farbfilterschichten 28, 29 und 30
auszubilden. Dann wird über dem Substrat eine obere Über
zugsschicht 31 ausgebildet.
Danach wird, wie dies durch Fig. 2c veranschaulicht wird,
ein Photoresist zum Herstellen einer Schicht für streifen
förmige Mikrolinsen auf die obere Überzugsschicht 21 aufge
tragen, es wird belichtet, entwickelt, und dann erfolgt ein
erstes Anschmelzen zum Herstellen der Schicht 32 für strei
fenförmige Mikrolinsen.
Dann wird, wie dies durch Fig. 2d veranschaulicht wird,
nachdem ein transparenter Photoresist 34 auf das Substrat
aufgetragen wurde, ein Photoresistmuster 34 zum Öffnen der
Kontaktfleckbereiche durch selektive Belichtung und Entwick
lung des Photoresists 34 hergestellt, und die obere Über
zugsschicht 31 und die ebene Schicht 27 auf den Kontakt
fleckbereichen werden abgeätzt, wodurch die Kontaktflecke 23
unter Verwendung des Photoresistmusters 34 als Maske frei
gelegt werden. Dabei werden streifenförmige Mikrolinsen 34A
gebildet, die jeweils eine flache Oberseite aufweisen, und
zwar dadurch, daß der obere Teil der Schicht 32 für strei
fenförmige Mikrolinsen bis auf eine bestimmte Dicke überätzt
wird (Bereich 36), was durch Verlängern der Ätzzeit um eine
kleine Zeitspanne (ungefähr 20 bis 30 Sekunden) beim Ätzpro
zeß für die obere Überzugsschicht 31 und die ebene Schicht
27 erfolgt.
In diesem Fall ist der Teil mit einer streifenförmigen
Mikrolinse 32A nicht im Querschnitt sondern in Teilperspek
tive dargestellt, um einen Linsenabschnitt Y mit ebener
Oberseite zu zeigen.
Dann wird, wie dies durch Fig. 2e veranschaulicht wird,
nachdem der restliche Photoresist 34 entfernt wurde, ein
transparenter Photoresist zum Ausbilden einer Schicht für
mosaikförmige Mikrolinsen auf der Schicht 32A mit streifen
förmigen Mikrolinsen mit flacher Oberseite aufgetragen, be
lichtet, entwickelt und aufgeschmolzen, um eine Schicht 33
mit mosaikförmigen Mikrolinsen herzustellen, wodurch
schließlich ein Festkörper-Farbbildsensor-Element herge
stellt wird, das eine Mikrolinsen-Doppelschicht aufweist.
Wie es aus dem Vorstehenden erkennbar ist, ermöglicht es die
Erfindung, mosaikförmige Mikrolinsen auf einfache Weise her
zustellen, da jede der Mikrolinsen auf einer flachen Ober
seite hergestellt wird, die bei einem Ätzprozeß für den
oberen Teil der streifenförmigen Mikrolinsen hergestellt
wurde. Darüber hinaus kann die Herstellung ohne viele
Schritte erfolgen, da der Ätzprozeß für den oberen Teil der
streifenförmigen Mikrolinsen zusammen mit dem Ätzprozeß zum
Freilegen der Kontaktfleckbereiche 23 ausgeführt wird.
Beim Herstellen von Doppelschicht-Mikrolinsen muß, wenn dem
Trend zur Herstellung dünner Festkörper-Bildsensorelemente
gefolgt werden soll, die Höhe der streifenförmigen Mikrolin
sen klein sein (ungefähr 1 µm). Wenn die Höhe einer strei
fenförmigen Mikrolinse derart klein gemacht wird, wird die
Krümmung der streifenförmigen Mikrolinse größer. Damit eine
Mikrolinse jedoch die Rolle des Fokussierens von Licht auf
einen Photodiodenbereich richtig wahrnehmen kann, müssen die
Krümmungen der unten liegenden streifenförmigen Mikrolinse
und der darüber liegenden mosaikförmigen Mikrolinse in be
stimmtem Ausmaß dieselben sein. Damit die Krümmung der Sei
ten einer streifenförmigen Mikrolinse, die mit der Linsen
oberfläche der mosaikförmigen Mikrolinse verbunden sind, mit
der Krümmung der letzteren übereinstimmt, die relativ klein
ist, sollte auch die streifenförmige Mikrolinse eine Krüm
mung unter einem bestimmten Wert haben, was entsprechend die
Verringerung der Höhe der streifenförmigen Mikrolinse be
schränkt.
Wenn jedoch bei der Herstellung einer streifenförmigen
Mikrolinse gemäß der Erfindung der obere Teil derselben mit
einer bestimmten Dicke abgeätzt wird, nachdem das Anschmel
zen der Schicht für die streifenförmigen Mikrolinsen so er
folgte, daß eine gewünschte Krümmung erzielt wird, kann eine
streifenförmige Mikrolinse dünn, aber dennoch mit einer be
stimmten Krümmung, die zur Krümmung der mosaikförmigen
Mikrolinse paßt, auf einfache Weise hergestellt werden.
Die Fig. 3a und 3b dienen zum Vergleich zwischen einer her
kömmlichen und einer erfindungsgemäßen Doppelschicht-Mikro
linse. Dabei zeigt Fig. 3a eine herkömmliche und Fig. 3b
eine erfindungsgemäße Mikrolinse. Wenn die Krümmungen der
herkömmlichen mosaikförmigen Mikrolinse M2 und der erfin
dungsgemäßen mosaikförmigen Mikrolinse M2 übereinstimmen,
wenn die Dicken t der herkömmlichen streifenförmigen Mikro
linse Ml und der erfindungsgemäßen streifenförmigen Mikro
linse Ml übereinstimmen, und wenn die streifenförmige Mikro
linse so ausgebildet wird, daß sie eine Krümmung aufweist,
die in gewissem Umfang mit der Krümmung der mosaikförmigen
Mikrolinse übereinstimmt, wird die Krümmung bei der herkömm
lichen streifenförmigen Mikrolinse größer als diejenige bei
der streifenförmigen Mikrolinse gemäß der Erfindung.
Demgemäß ist ersichtlich, daß die Brennweite b der erfin
dungsgemäßen Mikrolinse kürzer wird als die Brennweise a
der herkömmlichen Mikrolinse. Da die Krümmungsgestaltung bei
der Erfindung einfacher wird, kann sie somit dazu dienen,
ein Festkörper-Bildsensorelement dünn auszubilden.
Darüber hinaus ist zu beachten, daß es bei den herkömmlichen
Vorgehensweisen schwierig ist, die Bearbeitungsbedingungen
für die Belichtung geeignet einzustellen, da die Kontakt
fleckbereiche mit einem Ätzprozeß unter Verwendung eines
Photoresists geöffnet werden, nachdem die Schicht für strei
fenförmige Mikrolinsen und diejenige für mosaikförmige
Mikrolinsen hergestellt wurden, wobei der Photoresist mit
einer Dicke von ungefähr 5 bis 6 µm aufgetragen wird, um zu
verhindern, daß die Mikrolinsenschichten geätzt werden.
Bei der Erfindung erfolgt jedoch der Prozeß zum Öffnen der
Kontaktfläche unter Verwendung von Photoresist nach dem Her
stellen der Schicht für streifenförmige Mikrolinsen, und bei
diesem Prozeß wird ein Überätzen des oberen Teils der
Schicht für streifenförmige Mikrolinsen zugelassen. Selbst
wenn dann das selektive Ätzverhältnis für die flache Schicht
berücksichtigt wird, wird die Dicke der für den Kontakt
fleck-Öffnungsprozeß erforderlichen Photoresistschicht nur
ungefähr 3,5 bis 4 µm, was den Belichtungsprozeß verein
facht.
Wie vorstehend beschrieben, dient die Erfindung zum Verbes
sern der Empfindlichkeit von Festkörper-Bildsensorelementen,
und sie gestaltet diese dünn aus, weswegen sie es erlaubt,
Mikrolinsen in einem Festkörper-Bildsensorelement durch
einen einfachen Prozeß herzustellen, wobei die Einstellung
der Krümmung und der Höhe einfach vorgenommen werden können.
Claims (6)
1. Festkörper-Bildsensorelement mit Doppelschicht-Mikro
linsen (M1, M2) mit einer streifenförmigen Mikrolinse (32A;
M1) und mosaikförmigen Mikrolinsen (33; M2), die jeweils auf
der Oberfläche einer streifenförmigen Mikrolinse ausgebildet
sind, dadurch gekennzeichnet, daß jede streifenförmige
Mikrolinse eine ebene Oberfläche aufweist.
2. Festkörper-Bildsensorelement nach Anspruch 1, gekenn
zeichnet durch
- - ein Substrat;
- - Photodiodenbereiche (21) mit mehreren matrixförmig auf dem Substrat angeordneten Photodioden;
- - eine Einebnungsschicht (26, 27), die über dem Substrat einschließlich der Photodiodenbereiche ausgebildet ist;
- - Farbfilterschichten (28, 29, 30), die in vorgegebenen Be reichen auf der Einebnungsschicht ausgebildet sind;
- - eine obere Überzugsschicht (31), die über dem Substrat einschließlich der Farbfilterbereiche ausgebildet ist;
- - streifenförmige Mikrolinsen (32A), die jeweils entlang einer Richtung des Photodiodenarrays über der oberen Über zugsschicht ausgebildet sind; und
- - mosaikförmige Mikrolinsen (33) auf der ebenen Oberfläche jeder streifenförmigen Mikrolinse in Lagen, die jeweils der Lage einer Photodiode entsprechen.
3. Festkörper-Bildsensorelement nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß jede der Mikrolinsen (33) oval ausgebil
det ist, wobei die längere Achse entlang der Längsachse der
zugehörigen streifenförmigen Linse (32A) steht.
4. Verfahren zum Herstellen eines Festkörper-Bildsensor
elements mit den folgenden Schritten:
- - Auftragen eines ersten Photoresists (32) auf einem Sub strat; und
- - Ausbilden eines Musters streifenförmiger Mikrolinsen (32A) durch selektives Belichten und Entwickeln des ersten Photo resists;
- - Anschmelzen des ersten Photoresistmusters durch eine Wär mebehandlung;
- - Auftragen eines zweiten Photoresistmusters (34) mit der Schicht streifenförmiger Mikrolinsen;
- - Herstellen eines Musters mosaikförmiger Mikrolinsen auf den streifenförmigen Mikrolinsen durch Belichten und Ent wickeln des zweiten Photoresists; und
- - Herstellen der mosaikförmigen Mikrolinsen (33) durch An
schmelzen des zweiten Photoresistmusters;
dadurch gekennzeichnet, daß die durch Anschmelzen herge stellten streifenförmigen Mikrolinsen dadurch mit einer ebenen Oberseite ausgebildet werden, daß sie von oben her bis auf eine bestimmte Dicke abgeätzt werden, bevor das zweite Photoresistmuster aufgetragen wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
ein Substrat mit Farbfilterschichten (28, 29, 30) verwendet
wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
auf einem Grundsubstrat, in dem Photodioden, Vertikal-CCDs,
mindestens ein Horizontal-CCD und Kontaktfleckbereiche aus
Metall hergestellt wurden, eine Passivierungsschicht (26)
aufgetragen wird;
- - eine Einebnungsschicht (27) auf der Passivierungsschicht hergestellt wird;
- - Farbfilterschichten (28, 29, 30) auf der Einebnungsschicht hergestellt werden;
- - eine obere Überzugsschicht (31) auf dem Substrat ein schließlich der Farbfilterschichten hergestellt wird;
- - der erste Photoresist (32) auf die obere Überzugsschicht aufgetragen wird; und
- - die streifenförmigen und die mosaikförmigen Mikrolinsen hergestellt werden.
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