DE4415140A1 - Festkörper-Bildsensorelement und Verfahren zu dessen Herstellung - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Festkörper-Bildsensorelement und ein Verfahren zu dessen Herstellung. Spezieller betrifft sie Mikrolinsen an einem solchen Element und die Herstellung solcher Mikrolinsen.

Im allgemeinen weist ein Festkörper-Bildsensorelement einen Aufbau auf, wie er in Fig. 4 dargestellt ist, bei dem Photo­ dioden, die empfangene Lichtsignale in elektronische Signale umsetzen, matrixförmig unter Einhaltung gewisser Abstände in vertikaler und horizontaler Richtung angeordnet sind. Verti­ kal-CCDs (VCCDs) zum Übertragen von in den Photodioden er­ zeugter Ladungen in vertikaler Richtung sind zwischen den Photodioden ausgebildet. An den Ausgabeenden der VCCDs ist ein Horizontal-CCD (HCCD) angeordnet, und ein Meßverstärker (SA) zum Messen der aus dem HCCD austretenden Ladungsmenge ist am Ausgangsende des HCCDs vorhanden.

Die Betriebsweise eines solchen Festkörper-Bildsensorele­ ments ist die folgende.

Die in den Photodioden durch einfallendes Licht erzeugten Ladungen werden in dem Moment an die VCCDs übertragen, wenn eine Gatevorspannung (15 V) angelegt wird. Die in die VCCDs übertragenen Ladungen werden durch ein VCCD-Taktsignal von -9 V bis 0 V an das HCCD übertragen, die in das HCCD über­ tragenen Ladungen werden durch ein Taktsignal von 0 V bis 5 V zur Ausgangsseite transportiert, und diese Ladungen wer­ den an der Ausgangsseite in ein Spannungssignal umgesetzt und über den Meßverstärker ausgegeben.

In Fig. 5 ist ein Querschnitt durch ein herkömmliches Fest­ körper-Bildsensorelement dargestellt, das dadurch herge­ stellt wird, daß ein Metallfilm 11 für Lichtunterbrechung auf einem Substrat mit Photodiodenbereichen 1 ausgebildet wird, in dem auch Bereiche zur Ladungsübertragung und viele Torbereiche vorhanden sind. Ein Metallfilm 2 wird zu Kon­ taktflecken durch Mustern desselben ausgebildet. Auf dem Metallfilm 2 wird ein Isolierfilm 3 wie ein Nitridfilm abge­ schieden, und dieser wird selektiv in den Kontaktfleckberei­ chen entfernt. Über dem Substrat wird eine ebene Schicht 4 ausgebildet, auf der Farbfilterschichten 5, 6 und 7 herge­ stellt werden. Zum Einebnen wird eine obere Überzugsschicht 8 hergestellt, auf der Mikrolinsen 9 ausgebildet werden, die jeweils so positioniert sind, daß sie einer Photodiode ent­ sprechen. Die Kontaktfleckbereiche werden durch selektives Entfernen der oberen Überzugsschicht 8 und der ebenen Schicht 4 in den Kontaktfleckbereichen freigelegt.

Licht, das durch eine Mikrolinse 9 einfällt, strahlt durch die obere Überzugsschicht 8, die Farbfilterschichten 5, 6 und 7 und die ebene Schicht 4 in die zugehörige Photodiode, und das von dieser Photodiode empfangene Licht wird durch Umsetzung in Ladung in der Photodiode, durch Transport der Ladung durch das zugehörige VCCD und das HCCD sowie Verstär­ kung durch den Meßverstärker in ein Bildsignal umgesetzt.

Wie vorstehend beschrieben, wird bei herkömmlichen Festkör­ per-Bildsensorelementen das einfallende Licht durch ein Lin­ senarray fokussiert, das auf den Farbfilterschichten ausge­ bildet ist, um die Empfindlichkeit zu verbessern. Das Lin­ senarray wird dadurch hergestellt, daß ein transparenter Photoresist mit einem Brechungsindex von 1,6 gemustert und angeschmolzen wird.

Bei derartigen Linsenarrays ist es bevorzugt, die Abstände zwischen den Linsen so klein wie möglich zu machen, da zwi­ schen den Linsen einfallendes Licht nicht fokussiert wird. Die Abstände sind im allgemeinen in vertikaler und horizon­ taler Richtung dieselben (im allgemeinen eine Abmessung in­ nerhalb der Auflösungsgrenze für den Resist). Wenn sich die Abmessungen eines Einheitspixels (Photodiode) in vertikaler und horizontaler Richtung voneinander unterscheiden, wird das unter einer Linse projizierte Bild kein Quadrat, sondern ein Rechteck (siehe Fig. 6a und 6b). Da die Krümmungen der Linsen in vertikaler und horizontaler Richtung voneinander verschieden sind, unterscheiden sich auch die Brennweiten.

Die Empfindlichkeitsverringerung eines Festkörper-Bildsen­ sorelements aufgrund dieses Effekts kann nicht vernachläs­ sigt werden. Daher wurden Festkörper-Bildsensorelemente mit Doppelschichtlinsen vorgeschlagen.

Fig. 6a zeigt einen Fall, bei dem streifenförmige Mikrolin­ sen in horizontaler Richtung ausgebildet sind und mosaik­ förmige Mikrolinsen jeweils an den Orten von Photodioden auf den streifenförmigen Mikrolinsen angeordnet sind. Fig. 6b zeigt den entsprechenden Fall für eine vertikale Anordnung streifenförmiger Mikrolinsen. Fig. 6c zeigt einen Quer­ schnitt entlang der Linie A-A′ in Fig. 6b. Die Linsen werden dadurch hergestellt, daß zunächst streifenförmige Mikrolin­ sen 32 in horizontaler oder vertikaler Richtung über Photo­ dioden 21 ausgebildet werden und anschließend mosaikförmige Mikrolinsen 33 auf den streifenförmigen Mikrolinsen 32 her­ gestellt werden. Das Bezugszeichen 35 in Fig. 6 bezeichnet Brennpunkte.

Unter Bezugnahme auf die Fig. 7a bis 7f wird nachfolgend ein Verfahren zum Herstellen eines Festkörper-Bildsensorelements beschrieben, das ein Array aus Doppelschichtlinsen beinhal­ tet.

Zunächst wird, wie dies in Fig. 7a dargestellt ist, ein Schwarz/Weiß-Festkörper-Bildsensorelement 25 mit Photodioden 21 und VCCDs 22 ausgebildet, und darauf wird ein Nitridfilm 26 als Passivierungsschicht hergestellt. Die Bezugszahl 23 in Fig. 7a kennzeichnet einen Kontaktfleckbereich.

Danach wird, wie dies durch Fig. 7b veranschaulicht ist, eine Einebnungsschicht 27 auf dem Nitridfilm 26 hergestellt, und es wird eine erste Farbschicht 28 auf der Einebnungs­ schicht ausgebildet, die mit einer ersten Farbe eingefärbt ist und die dann gehärtet wird. Auf entsprechende Weise wer­ den eine zweite Farbschicht 29 und eine dritte Farbschicht 30 hergestellt, die mit einer zweiten bzw. einer dritten Farbe eingefärbt sind, um dadurch Farbfilterschichten 28, 29 und 30 herzustellen. Anschließend wird eine obere Überzugs­ schicht 31 auf dem Substrat hergestellt.

Nachdem ein Photoresist zum Ausbilden einer Schicht für streifenförmige Mikrolinsen auf die obere Überzugsschicht 21 aufgetragen wurde, werden, wie dies durch Fig. 7c veran­ schaulicht ist, ein Belichtungsvorgang, ein Entwicklungsvor­ gang und ein Anschmelzen ausgeführt, um eine Schicht 32 aus streifenförmigen Mikrolinsen zu bilden. In Fig. 7c ist die Schicht 32 mit streifenförmigen Mikrolinsen nicht im Teil­ schnitt, sondern perspektivisch dargestellt, um die runde Form des Linsenabschnitts X zu zeigen.

Danach wird, wie dies durch Fig. 7d veranschaulicht ist, ein Photoresist zum Herstellen einer Schicht für mosaikför­ mige Mikrolinsen auf die streifenförmigen Mikrolinsen 32 aufgetragen, und dieser Photoresist wird belichtet, entwic­ kelt und angeschmolzen, um eine Schicht 33 mit ovalen, mo­ saikförmigen Mikrolinsen auszubilden, die jeweils so geformt sind, wie es in den Fig. 6a und 6b dargestellt ist, und die jeweils in bezug auf eine Photodiode positioniert sind.

Dann wird, wie dies durch Fig. 7e veranschaulicht ist, ein Photoresist 34 auf das Substrat aufgetragen, und dieser wird gemustert, um durch selektives Belichten und Entwickeln die Kontaktfleckbereiche zu öffnen. Unter Verwendung des Photo­ resistmusters 34 als Maske werden die obere Überzugsschicht 31 und die Einebnungsschicht 27 abgeätzt.

Durch Entfernen des Photoresists 34 wird dann ein Farbbild- Abrasterelement mit Mikrolinsen-Doppelschichten fertigge­ stellt, wie durch Fig. 7f veranschaulicht.

Bei der Herstellung herkömmlicher Festkörper-Bildsensorele­ mente mit Doppelschicht-Mikrolinsen werden die mosaikförmi­ gen Mikrolinsen 33 direkt auf der Oberseite des konvexen Ab­ schnitts der streifenförmigen Mikrolinsen 32 ausgebildet, wie in Fig. 6c dargestellt, was den Musterungs- und An­ schmelzvorgang erschwert.

Wenn der Integrationsgrad höher wird, muß die Brennweite kürzer werden, was eine kleinere Krümmung der Mikrolinsen erfordert. Unter Verwendung alleine des Anschmelzprozesses für den Photoresist zum Herstellen von Mikrolinsen, wie im Stand der Technik ausgeführt, lassen sich die Höhe und die Krümmung der streifenförmigen Mikrolinsen nicht gleichzeitig verringern, weswegen diese Art der Herstellung eines Fest­ körper-Bildsensorelements für die nächste Generation von Elementen nicht anwendbar ist.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Festkörper- Bildsensorelement mit Mikrolinsen zu schaffen, die einfach hergestellt werden können und bei denen die Krümmung und die Höhe verringert werden können, um dem Trend zu dünnen Fest­ körper-Bildsensorelementen zu folgen. Der Erfindung liegt weiterhin die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Herstellen eines solchen Elements anzugeben.

Die Erfindung ist für das Element durch die Lehre von An­ spruch 1 und für das Verfahren durch die Lehre von Anspruch 6 gegeben.

Beim erfindungsgemäßen Element sind die streifenförmigen Mikrolinsen nur noch an ihren Rändern gekrümmt und ihre Oberseiten sind flachgeätzt. Die mosaikförmigen Mikrolinsen sitzen auf der ebenen Oberfläche der streifenförmigen Mikro­ linsen. Das erfindungsgemäße Verfahren zeichnet sich ent­ sprechend dadurch aus, daß die streifenförmigen Mikrolinsen vor dem Aufbringen der mosaikförmigen Mikrolinsen flachge­ ätzt werden.

Die Erfindung wird im folgenden anhand von durch Figuren veranschaulichten Ausführungsbeispielen näher erläutert.

Fig. 1a bis 1c zeigen eine Mikrolinsenanordnung bei einem Festkörper-Bildsensorelement mit erfindungsgemäßen Doppel­ schicht-Mikrolinsen.

Fig. 2a bis 2e veranschaulichen ein Herstellverfahren für ein Festkörper-Bildsensorelement mit Doppelschicht-Mikrolin­ sen gemäß der Erfindung.

Fig. 3a und 3b dienen zum Vergleich zwischen einer herkömm­ lichen Doppelschicht-Mikrolinse und einer solchen gemäß der Erfindung.

Fig. 4 ist eine Draufsicht auf ein herkömmliches Festkörper- Bildsensorelement.

Fig. 5 ist ein Teilschnitt durch ein herkömmliches Festkör­ per-Bildsensorelement.

Fig. 6a bis 6c zeigen Mikrolinsen eines Festkörper-Bildsen­ sorelements mit herkömmlichen Doppelschicht-Mikrolinsen.

Fig. 7a bis 7f veranschaulichen ein Verfahren zum Herstellen eines Festkörper-Bildsensorelements mit herkömmlichen Dop­ pelschicht-Mikrolinsen.

In den Fig. 1a bis 1c sind Mikrolinsen eines Festkörper- Bildsensorelements gemäß der Erfindung dargestellt. Diese Figuren gelten für den Fall, daß sich die Vertikalabmessung eines Einheitspixels, d. h. einer Photodiode 21, von der Horizontalabmessung unterscheidet. Dabei ist Fig. 1a eine Draufsicht für den Fall, daß streifenförmige Mikrolinsen und mosaikförmige Mikrolinsen in horizontaler Richtung über den Bereichen von Photodioden 21 angeordnet sind, während Fig. 1b für den Fall gilt, daß diese Linsen in vertikaler Rich­ tung ausgebildet sind. Fig. 1c zeigt einen Querschnitt ent­ lang der Linie A-A′ in Fig. 1b.

Eine Mikrolinse eines Festkörper-Bildsensorelements gemäß der Erfindung beinhaltet eine Doppelschicht mit einer strei­ fenförmigen Mikrolinse 32A mit ebener Oberfläche 37, die in horizontaler oder vertikaler Richtung über einem Photodio­ denbereich ausgebildet ist, und eine mosaikförmige Mikro­ linse 33, die auf der streifenförmigen Mikrolinse 32A ent­ sprechend dem Ort der Photodiode positioniert ist. Die Be­ zugszahlen 35 in den Fig. 1a bis 1c bezeichnen Brennpunkte.

Wie in den Fig. 1a bis 1c dargestellt, beinhaltet die Mikro­ linse eines Festkörper-Bildsensorelements gemäß der Erfin­ dung eine streifenförmige Mikrolinse 32A mit ebener Ober­ seite 37 sowie eine ovale, mosaikförmige Mikrolinse 33, die auf dieser ebenen Oberseite 37 ausgebildet ist.

Da die mosaikförmige Mikrolinse auf der ebenen Oberseite der streifenförmigen Mikrolinse ausgebildet ist, ist die Her­ stellung einfacher als im Fall, bei dem eine mosaikförmige Mikrolinse über einer als konvexe Linse ausgebildeten strei­ fenförmigen Mikrolinse hergestellt wird.

Nachfolgend wird unter Bezugnahme auf die Fig. 2a bis 2e ein Verfahren zum Herstellen eines erfindungsgemäßen Festkörper- Bildsensorelements beschrieben.

Zunächst wird, wie dies in Fig. 2a dargestellt ist, nachdem Schwarz/Weiß-Festkörper-Bildsensorelemente 25 mit Photodio­ den 21 und VCCDs 22 hergestellt wurden, ein Nitridfilm 26 als Passivierungsschicht aufgetragen. Die Bezugszahl 23 in Fig. 2a bezeichnet einen Kontaktfleckbereich.

Dann wird, wie dies in Fig. 2b dargestellt ist, auf dem Nitridfilm 26 eine ebene Schicht 27 ausgebildet, und auf dieser wird eine erste Farbschicht 28 hergestellt, die mit einer ersten Farbe eingefärbt ist, und sie wird danach aus­ gehärtet. Anschließend werden entsprechend eine mit einer zweiten Farbe eingefärbte zweite Farbschicht 29 und eine mit einer dritten Farbe eingefärbte dritte Farbschicht 30 herge­ stellt, um schließlich Farbfilterschichten 28, 29 und 30 auszubilden. Dann wird über dem Substrat eine obere Über­ zugsschicht 31 ausgebildet.

Danach wird, wie dies durch Fig. 2c veranschaulicht wird, ein Photoresist zum Herstellen einer Schicht für streifen­ förmige Mikrolinsen auf die obere Überzugsschicht 21 aufge­ tragen, es wird belichtet, entwickelt, und dann erfolgt ein erstes Anschmelzen zum Herstellen der Schicht 32 für strei­ fenförmige Mikrolinsen.

Dann wird, wie dies durch Fig. 2d veranschaulicht wird, nachdem ein transparenter Photoresist 34 auf das Substrat aufgetragen wurde, ein Photoresistmuster 34 zum Öffnen der Kontaktfleckbereiche durch selektive Belichtung und Entwick­ lung des Photoresists 34 hergestellt, und die obere Über­ zugsschicht 31 und die ebene Schicht 27 auf den Kontakt­ fleckbereichen werden abgeätzt, wodurch die Kontaktflecke 23 unter Verwendung des Photoresistmusters 34 als Maske frei­ gelegt werden. Dabei werden streifenförmige Mikrolinsen 34A gebildet, die jeweils eine flache Oberseite aufweisen, und zwar dadurch, daß der obere Teil der Schicht 32 für strei­ fenförmige Mikrolinsen bis auf eine bestimmte Dicke überätzt wird (Bereich 36), was durch Verlängern der Ätzzeit um eine kleine Zeitspanne (ungefähr 20 bis 30 Sekunden) beim Ätzpro­ zeß für die obere Überzugsschicht 31 und die ebene Schicht 27 erfolgt.

In diesem Fall ist der Teil mit einer streifenförmigen Mikrolinse 32A nicht im Querschnitt sondern in Teilperspek­ tive dargestellt, um einen Linsenabschnitt Y mit ebener Oberseite zu zeigen.

Dann wird, wie dies durch Fig. 2e veranschaulicht wird, nachdem der restliche Photoresist 34 entfernt wurde, ein transparenter Photoresist zum Ausbilden einer Schicht für mosaikförmige Mikrolinsen auf der Schicht 32A mit streifen­ förmigen Mikrolinsen mit flacher Oberseite aufgetragen, be­ lichtet, entwickelt und aufgeschmolzen, um eine Schicht 33 mit mosaikförmigen Mikrolinsen herzustellen, wodurch schließlich ein Festkörper-Farbbildsensor-Element herge­ stellt wird, das eine Mikrolinsen-Doppelschicht aufweist.

Wie es aus dem Vorstehenden erkennbar ist, ermöglicht es die Erfindung, mosaikförmige Mikrolinsen auf einfache Weise her­ zustellen, da jede der Mikrolinsen auf einer flachen Ober­ seite hergestellt wird, die bei einem Ätzprozeß für den oberen Teil der streifenförmigen Mikrolinsen hergestellt wurde. Darüber hinaus kann die Herstellung ohne viele Schritte erfolgen, da der Ätzprozeß für den oberen Teil der streifenförmigen Mikrolinsen zusammen mit dem Ätzprozeß zum Freilegen der Kontaktfleckbereiche 23 ausgeführt wird.

Beim Herstellen von Doppelschicht-Mikrolinsen muß, wenn dem Trend zur Herstellung dünner Festkörper-Bildsensorelemente gefolgt werden soll, die Höhe der streifenförmigen Mikrolin­ sen klein sein (ungefähr 1 µm). Wenn die Höhe einer strei­ fenförmigen Mikrolinse derart klein gemacht wird, wird die Krümmung der streifenförmigen Mikrolinse größer. Damit eine Mikrolinse jedoch die Rolle des Fokussierens von Licht auf einen Photodiodenbereich richtig wahrnehmen kann, müssen die Krümmungen der unten liegenden streifenförmigen Mikrolinse und der darüber liegenden mosaikförmigen Mikrolinse in be­ stimmtem Ausmaß dieselben sein. Damit die Krümmung der Sei­ ten einer streifenförmigen Mikrolinse, die mit der Linsen­ oberfläche der mosaikförmigen Mikrolinse verbunden sind, mit der Krümmung der letzteren übereinstimmt, die relativ klein ist, sollte auch die streifenförmige Mikrolinse eine Krüm­ mung unter einem bestimmten Wert haben, was entsprechend die Verringerung der Höhe der streifenförmigen Mikrolinse be­ schränkt.

Wenn jedoch bei der Herstellung einer streifenförmigen Mikrolinse gemäß der Erfindung der obere Teil derselben mit einer bestimmten Dicke abgeätzt wird, nachdem das Anschmel­ zen der Schicht für die streifenförmigen Mikrolinsen so er­ folgte, daß eine gewünschte Krümmung erzielt wird, kann eine streifenförmige Mikrolinse dünn, aber dennoch mit einer be­ stimmten Krümmung, die zur Krümmung der mosaikförmigen Mikrolinse paßt, auf einfache Weise hergestellt werden.

Die Fig. 3a und 3b dienen zum Vergleich zwischen einer her­ kömmlichen und einer erfindungsgemäßen Doppelschicht-Mikro­ linse. Dabei zeigt Fig. 3a eine herkömmliche und Fig. 3b eine erfindungsgemäße Mikrolinse. Wenn die Krümmungen der herkömmlichen mosaikförmigen Mikrolinse M2 und der erfin­ dungsgemäßen mosaikförmigen Mikrolinse M2 übereinstimmen, wenn die Dicken t der herkömmlichen streifenförmigen Mikro­ linse Ml und der erfindungsgemäßen streifenförmigen Mikro­ linse Ml übereinstimmen, und wenn die streifenförmige Mikro­ linse so ausgebildet wird, daß sie eine Krümmung aufweist, die in gewissem Umfang mit der Krümmung der mosaikförmigen Mikrolinse übereinstimmt, wird die Krümmung bei der herkömm­ lichen streifenförmigen Mikrolinse größer als diejenige bei der streifenförmigen Mikrolinse gemäß der Erfindung.

Demgemäß ist ersichtlich, daß die Brennweite b der erfin­ dungsgemäßen Mikrolinse kürzer wird als die Brennweise a der herkömmlichen Mikrolinse. Da die Krümmungsgestaltung bei der Erfindung einfacher wird, kann sie somit dazu dienen, ein Festkörper-Bildsensorelement dünn auszubilden.

Darüber hinaus ist zu beachten, daß es bei den herkömmlichen Vorgehensweisen schwierig ist, die Bearbeitungsbedingungen für die Belichtung geeignet einzustellen, da die Kontakt­ fleckbereiche mit einem Ätzprozeß unter Verwendung eines Photoresists geöffnet werden, nachdem die Schicht für strei­ fenförmige Mikrolinsen und diejenige für mosaikförmige Mikrolinsen hergestellt wurden, wobei der Photoresist mit einer Dicke von ungefähr 5 bis 6 µm aufgetragen wird, um zu verhindern, daß die Mikrolinsenschichten geätzt werden.

Bei der Erfindung erfolgt jedoch der Prozeß zum Öffnen der Kontaktfläche unter Verwendung von Photoresist nach dem Her­ stellen der Schicht für streifenförmige Mikrolinsen, und bei diesem Prozeß wird ein Überätzen des oberen Teils der Schicht für streifenförmige Mikrolinsen zugelassen. Selbst wenn dann das selektive Ätzverhältnis für die flache Schicht berücksichtigt wird, wird die Dicke der für den Kontakt­ fleck-Öffnungsprozeß erforderlichen Photoresistschicht nur ungefähr 3,5 bis 4 µm, was den Belichtungsprozeß verein­ facht.

Wie vorstehend beschrieben, dient die Erfindung zum Verbes­ sern der Empfindlichkeit von Festkörper-Bildsensorelementen, und sie gestaltet diese dünn aus, weswegen sie es erlaubt, Mikrolinsen in einem Festkörper-Bildsensorelement durch einen einfachen Prozeß herzustellen, wobei die Einstellung der Krümmung und der Höhe einfach vorgenommen werden können.

Claims (6)

1. Festkörper-Bildsensorelement mit Doppelschicht-Mikro­ linsen (M1, M2) mit einer streifenförmigen Mikrolinse (32A; M1) und mosaikförmigen Mikrolinsen (33; M2), die jeweils auf der Oberfläche einer streifenförmigen Mikrolinse ausgebildet sind, dadurch gekennzeichnet, daß jede streifenförmige Mikrolinse eine ebene Oberfläche aufweist.

2. Festkörper-Bildsensorelement nach Anspruch 1, gekenn­ zeichnet durch

• - ein Substrat;
• - Photodiodenbereiche (21) mit mehreren matrixförmig auf dem Substrat angeordneten Photodioden;
• - eine Einebnungsschicht (26, 27), die über dem Substrat einschließlich der Photodiodenbereiche ausgebildet ist;
• - Farbfilterschichten (28, 29, 30), die in vorgegebenen Be­ reichen auf der Einebnungsschicht ausgebildet sind;
• - eine obere Überzugsschicht (31), die über dem Substrat einschließlich der Farbfilterbereiche ausgebildet ist;
• - streifenförmige Mikrolinsen (32A), die jeweils entlang einer Richtung des Photodiodenarrays über der oberen Über­ zugsschicht ausgebildet sind; und
• - mosaikförmige Mikrolinsen (33) auf der ebenen Oberfläche jeder streifenförmigen Mikrolinse in Lagen, die jeweils der Lage einer Photodiode entsprechen.

3. Festkörper-Bildsensorelement nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß jede der Mikrolinsen (33) oval ausgebil­ det ist, wobei die längere Achse entlang der Längsachse der zugehörigen streifenförmigen Linse (32A) steht.

4. Verfahren zum Herstellen eines Festkörper-Bildsensor­ elements mit den folgenden Schritten:

• - Auftragen eines ersten Photoresists (32) auf einem Sub­ strat; und
• - Ausbilden eines Musters streifenförmiger Mikrolinsen (32A) durch selektives Belichten und Entwickeln des ersten Photo­ resists;
• - Anschmelzen des ersten Photoresistmusters durch eine Wär­ mebehandlung;
• - Auftragen eines zweiten Photoresistmusters (34) mit der Schicht streifenförmiger Mikrolinsen;
• - Herstellen eines Musters mosaikförmiger Mikrolinsen auf den streifenförmigen Mikrolinsen durch Belichten und Ent­ wickeln des zweiten Photoresists; und
• - Herstellen der mosaikförmigen Mikrolinsen (33) durch An­ schmelzen des zweiten Photoresistmusters;
  dadurch gekennzeichnet, daß die durch Anschmelzen herge­ stellten streifenförmigen Mikrolinsen dadurch mit einer ebenen Oberseite ausgebildet werden, daß sie von oben her bis auf eine bestimmte Dicke abgeätzt werden, bevor das zweite Photoresistmuster aufgetragen wird.

5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß ein Substrat mit Farbfilterschichten (28, 29, 30) verwendet wird.

6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß auf einem Grundsubstrat, in dem Photodioden, Vertikal-CCDs, mindestens ein Horizontal-CCD und Kontaktfleckbereiche aus Metall hergestellt wurden, eine Passivierungsschicht (26) aufgetragen wird;

• - eine Einebnungsschicht (27) auf der Passivierungsschicht hergestellt wird;
• - Farbfilterschichten (28, 29, 30) auf der Einebnungsschicht hergestellt werden;
• - eine obere Überzugsschicht (31) auf dem Substrat ein­ schließlich der Farbfilterschichten hergestellt wird;
• - der erste Photoresist (32) auf die obere Überzugsschicht aufgetragen wird; und
• - die streifenförmigen und die mosaikförmigen Mikrolinsen hergestellt werden.