JPH07312418A - 固体撮像素子及びその製造方法 - Google Patents

固体撮像素子及びその製造方法

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JPH07312418A
JPH07312418A JP6236019A JP23601994A JPH07312418A JP H07312418 A JPH07312418 A JP H07312418A JP 6236019 A JP6236019 A JP 6236019A JP 23601994 A JP23601994 A JP 23601994A JP H07312418 A JPH07312418 A JP H07312418A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 固体撮像素子の小型化傾向に対応することが
出来るように、曲率縮小が容易で、製造が容易な固体撮
像素子のマイクロレンズ構造及びこの形成方法を提供す
ること。 【構成】 第１フォトレジストパターンが形成された基
板の全面にフォトレジストを塗布し、そのフォトレジス
トを選択的に露光及び現像して所定のパターンを形成
し、前記フォトレジストパターンをマスクとして前記ト
ップコティング層及び平坦層を選択的にエッチングし、
前記金属パッド部を露出させると同時に第１フォトレジ
ストパターンの上部を一定厚さにエッチングしてストラ
イプマイクロレンズ層を形成してそのストライプマイク
ロレンズ層の平面部上にモザイクマイクロレンズを形成
させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、固体撮像素子及びその
製造方法に関し、特に、固体撮像素子のマイクロレンズ
構造及びその形成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、固体撮像素子は、図１に示すよ
うに構成されている。光信号を受けて電気的な信号に変
換させるフォトダイオードが上下左右に一定の間隔をお
いて複数個のマトリクス状に配列され、たて方向のフォ
トダイオードの列間にフォトダイオードから生成された
電荷を垂直方向に伝送するためのＶＣＣＤ領域（ＶＣＣ
Ｄ）が形成され、このＶＣＣＤ領域から伝送されてきた
電荷を水平方向に伝送するためのＨＣＣＤ領域（ＨＣＣ
Ｄ）が各ＶＣＣＤ領域の出力側に形成され、ＨＣＣＤ領
域の電荷量を検出するためのセンスアンプ（ＳＡ）がＨ
ＣＣＤ領域の出力側に形成された構造として構成され
る。
【０００３】上記のように構成されるＣＣＤ動作は、次
の通りである。即ち、入射光によってフォトダイオード
から生成された電荷は、ＶＣＣＤ領域にトランジスタの
ゲートバイアス（１５Ｖ）がかかる順番に伝送される。
【０００４】ＶＣＣＤ領域に伝送された電荷は、−９Ｖ
〜０ＶのＶＣＣＤクロック信号により、ＨＣＣＤ領域側
に伝送され、ＨＣＣＤ領域に伝送されてきた電荷は０Ｖ
〜５Ｖのクロック信号により、出力側に伝送され、出力
側で電圧信号に変換されてセンスアンプを通じて出力さ
れる。
【０００５】図２は従来の固体撮像素子の断面構造であ
る。従来の固体撮像素子はフォトダイオード領域１と電
荷伝送及びポリゲート領域が形成された基板上の電荷伝
送及びポリゲート領域の上側に遮光用金属膜１１とを形
成し、パッド部位に金属膜を形成した後、これをパター
ニングしてパッド用金属膜２を形成し、次に、全面に窒
化膜等の絶縁膜３を蒸着してからパッド部分の絶縁膜３
を選択的に除去した後、基板全面に平坦層４を形成し、
平坦層４上にカラーフィルタ層５，６，７を形成した
後、再び平坦化用トップコティング層８を形成し、トッ
プコティング層８の上にフォトダイオード領域１に対応
するように、複数のマイクロレンズ９を形成した後、パ
ッド部分のトップコティング層８と平坦層４とを選択的
に除去してパッド部分を開口することにより、製造され
る。
【０００６】上記マイクロレンズ（９）を通じて入射さ
れる光は、トップコティング層８、カラーフィルタ層
５，６，７、平坦層４を介してフォトダイオード領域１
に照射される。この光はフォトダイオード領域１で映像
信号に変換された後、ＶＣＣＤ領域とＨＣＣＤ領域とを
介してセンスアンプにより映像信号に再現されることに
なる。
【０００７】従来の固体撮像素子は、上記のように、感
度を向上させるために、カラーフィルタ層の上部にレン
ズアレイを形成し、入射される光を集光するようにした
構造としていたが、従来のレンズアレイは屈折率が１．
６である透明なフォトレジストをパターニングした後、
これを熱処理により溶融させてレンズ形状としていた。
このようなレンズアレイにおいて、レンズとレンズとの
間の領域に入射される光は集光されないので、レンズと
レンズとの間隔は出来るだけ小さくするのが望ましく、
通常、レンズとレンズの間隔は、垂直、水平方向が全て
同一の寸法（一般的に、レジストの解像限界寸法）に設
計される。この時、単位画素（フォトダイオード）の垂
直方向寸法と水平方向寸法とが異なると、レンズ下面の
形状は正方形にならなく、長方形になる（図３ａ，３ｂ
参照）。従って、レンズの水平、垂直断面において、そ
の曲率が異なるので、焦点距離が異なってしまう。この
ような効果による固体撮像素子の感度劣化は、無視出来
ないものとなる。
【０００８】これにより、図３に示すように、２層構造
のレンズを採用した固体撮像素子が提案された。
【０００９】図３ａ及び図３ｂは、単位画素、即ち、フ
ォトダイオード２１の垂直方向寸法が水平方向寸法より
も大きい場合において、図３ａは、フォトダイオードの
水平方向の列全体を覆うような細長いかまぼこ状又は断
面が部分円状のストライプマイクロレンズ（ｓｔｒｉｐ
ｅ ｍｉｃｒｏｌｅｎｓ）を形成するとともに、そのス
トライプマイクロレンズの上の個々のフォトダイオード
の位置に相当する箇所に個々のレンズ、すなわちモザイ
クマイクロレンズ（ｍｏｓａｉｃ ｍｉｃｒｏｌｅｎ
ｓ）を形成した場合の平面構造を示すものであり、図３
ｂは、フォトダイオード２１の垂直方向の列に対してス
トライプマイクロレンズを形成した場合の平面構造を示
すものである。図３ｃは図３ｂのＡ−Ａ′線による断面
構造を示すものであって、フォトダイオード２１の垂直
方向の列にストライプマイクロレンズ３２を形成した
後、ストライプマイクロレンズ３２上にモザイクマイク
ロレンズ３３を形成してレンズを２層に構成した状態を
示す。図３において、３５はフォーカシングポイントを
示す。
【００１０】図４を参照して上記２層構造のレンズアレ
イを採用した固体撮像素子の製造方法を説明すると、次
の通りである。
【００１１】まず、図４ａに示すように、フォトダイオ
ード２１及びＶＣＣＤ２２からなる黒白固体撮像素子２
５を形成した後、この上にパッシベーション層として窒
化膜２６を形成する。図４において２３はパッド部位を
示す。
【００１２】次いで、図４ｂに示すように、上記窒化膜
２６の上に平坦層２７を形成し、この平坦層２７の上に
第１染色層２８を形成した後、この染色層を第１色に染
色、固着した後、続けて、第２染色層２９を形成し、こ
の第２染色層を第２色に染色、固着させた後、第３染色
層３０を形成した後、この第３染色層を第３色に染色し
た後に固着させてカラーフィルタ層２８，２９，３０を
形成する。次に、基板の全面にトップコティング層３１
を形成する。
【００１３】次に、図４ｃに示すように、上記トップコ
ティング層３１の上にストライプマイクロレンズ層の形
成のためのフォトレジストを塗布した後、露光及び現像
を施し、リフローさせてストライプマイクロレンズ層３
２を形成する。図４ｃにおいて、ストライプマイクロレ
ンズ層３２は、丸い形態のレンズ断面（Ｘ）を示すため
に、部分的に断面図にして斜視図で示した。
【００１４】続いて、図４ｄに示すように、上記ストラ
イプマイクロレンズ層３２の上にモザイクマイクロレン
ズ層の形成のためのフォトレジストを塗布した後、露光
及び現像を施し、リフローして上記それぞれのフォトダ
イオードに対応するように、図３ａ及び図３ｂに示され
た形態の楕円形のモザイクマイクロレンズ層３３を形成
する。
【００１５】次に、図４ｅに示すように、上記基板の全
面にフォトレジスト３４を塗布した後、これを選択的に
露光及び現像してパッド部位を開口させるフォトレジス
トパターン３４を形成した後、上記フォトレジストパタ
ーン３４をマスクとして上記トップコティング３１及び
平坦層２７をエッチングして上記パッド部位２３を露出
させる。
【００１６】次に、上記フォトレジスト３４を除去する
ことにより、図４ｆに示すように、２層構造のマイクロ
レンズ層を備えたカラー固体撮像素子を完成する。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の２層構造のマイクロレンズを採用した固体撮像
素子の製造においては、図３ｃに示すように、凸のレン
ズ状を有するストライプマイクロレンズ３２の丸い形状
の上部にモザイクマイクロレンズ３３を直接形成するた
め、丸い表面上におけるパターニング及びリフロー工程
が容易ではない。
【００１８】また、集積度が高くなるほど、フォーカシ
ングポイント距離も短くなければならなく、これによ
り、マイクロレンズの曲率も短くなることが要求され
る。しかし、上記従来技術におけるマイクロレンズの形
成のためのフォトレジストのリフロー工程だけでは、ス
トライプマイクロレンズの高さの縮小及び曲率の減少を
同時に達成することが出来ないので、次世代固体撮像素
子の製造には適用するのが困難であった。
【００１９】本発明の目的は、固体撮像素子の小型化に
対応することが出来るように、曲率縮小が容易で、製造
が容易な固体撮像素子のマイクロレンズ構造及びこの形
成方法を提供することにある。
【００２０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の固体撮像素子は、基板と、前記基板上に形成
されたマトリクス状に配列された複数のフォトダイオー
ドからなるフォトダイオード領域と、前記フォトダイオ
ード領域を含む基板全面に形成された平坦層と、前記平
坦層上の所定の領域に形成されたカラーフィルタ層と、
前記カラーフィルタ層を含む基板全面に形成されたトッ
プコティング層と、前記トップコティング層の上部に形
成され、前記フォトダイオード領域の一方向に配列され
たフォトダイオードの列に対応するように配列された平
坦な上面を有するストライプマイクロレンズと、前記フ
ォトダイオード領域のそれぞれのフォトダイオードに対
応するように、前記ストライプマイクロレンズの平坦な
上面に形成されたモザイクマイクロレンズとを含むこと
を特徴とする。
【００２１】上記目的を達成するための本発明の固体撮
像素子の製造方法は、フォトダイオード、垂直固体撮像
素子と水平固体撮像素子及び金属パッド部が形成された
基板上にパッシベーション層を形成するステップと、前
記パッシベーション層上に平坦層を形成するステップ
と、前記パッシベーション層上にカラーフィルタ層を形
成するステップと、前記カラーフィルタ層を含む基板全
面にトップコティング層を形成するステップと、前記ト
ップコティング層上部に第１フォトレジストを塗布する
ステップと、前記第１フォトレジストを選択的に露光及
び現像して前記フォトダイオード領域の上部にストライ
プマイクロレンズパターンを形成するステップと、前記
第１フォトレジストパターンが形成された基板の全面に
フォトレジストを塗布するステップと、前記フォトレジ
ストを選択的に露光及び現像して所定のパターンを形成
するステップと、前記フォトレジストパターンをマスク
として前記トップコティング層及び平坦層を選択的にエ
ッチングして、前記金属パッド部を露出させると共に、
前記第１フォトレジストパターンの上部を一定厚さにエ
ッチングしてストライプマイクロレンズ層を形成するス
テップと、前記フォトレジストパターンの残り部分を除
去するステップと、前記ストライプマイクロレンズ層上
に第２フォトレジストを塗布するステップと、前記第２
フォトレジストを選択的に露光及び現像して前記ストラ
イプマイクロレンズ層の平坦な上面にモザイクマイクロ
レンズパターンを形成するステップと、前記第２フォト
レジストパターンを熱処理によりリフローしてモザイク
マイクロパターン層を形成するステップとを含むことを
特徴とする。
【００２２】
【実施例】以下、添付された図面を参照して本発明を詳
細に説明する。
【００２３】図５は、本発明による固体撮像素子のマイ
クロレンズ構造を示すものである。
【００２４】図５ａは、単位画素、即ち、フォトダイオ
ード２１の垂直方向の寸法が水平方向の寸法よりも大き
い場合において、フォトダイオード領域２１上に水平方
向にストライプマイクロレンズを構成してモザイクレン
ズをその上に形成した場合の平面構造を示すものであ
り、図５ｂは、フォトダイオード２１の垂直方向の寸法
が水平方向の寸法よりも大きい場合において、垂直方向
にストライプマイクロレンズを形成して、モザイクレン
ズをその上に形成した場合の平面構造を示すものであ
り、図５ｃは、図５ｂのＡ−Ａ′線による断面構造を示
すものである。
【００２５】本発明による固体撮像素子のマイクロレン
ズは、フォトダイオード領域上に水平方向または垂直方
向に表面部位３７を平坦に形成した細長いストライプマ
イクロレンズ３２Ａと、このストライプマイクロレンズ
３２Ａ上にフォトダイオードのそれぞれに対応するよう
に形成されたモザイクマイクロレンズ３３とからなる２
層構造である。図５において、３５はフォーカシングポ
イントを示す。
【００２６】図５に示すように、本発明の固体撮像素子
のマイクロレンズは、上部が平坦な形状を有するストラ
イプマイクロレンズ３２Ａと上記ストライプマイクロレ
ンズ３２Ａの平坦な上部面３７に形成された楕円形のモ
ザイクマイクロレンズ３３とからなる。ストライプマイ
クロレンズの平坦な面上にモザイクマイクロレンズが形
成されるので、従来の凸のレンズ形態のストライプマイ
クロレンズ上にモザイクマイクロレンズを形成する場合
よりその製造が容易になる。
【００２７】次に、図６を参照して本発明による固体撮
像素子の製造方法を説明する。
【００２８】まず、図６ａに示すように、フォトダイオ
ード２１及びＶＣＣＤ２２等からなる黒白固体撮像素子
２５を形成した後、この上にパッシベーション層として
窒化膜２６を形成する。図６において２３はパッド部位
を示す。
【００２９】続いて、図６ｂに示すように、上記窒化膜
２６上に平坦層２７を形成し、この平坦層２７上に第１
染色層２８を形成した後、この第１染色層を第１色に染
色、固着させた後、第２染色層２９を形成し、この第２
染色層を第２色に染色、固着した後、第２染色層２９を
形成し、この第２染色層を第２色に染色、固着させ、次
に、第３染色層３０を形成した後、この第３染色層を第
３色に染色した後に固着させてカラーフィルタ層２８，
２９，３０を形成する。続いて、基板の全面にトップコ
ティング層３１を形成する。
【００３０】次に、図６ｃに示すように、上記トップコ
ティング層３１の上にストライプマイクロレンズ層の形
成のためのフォトレジストを塗布した後、露光及び現像
し、リフローしてストライプマイクロレンズ層３２を一
次的に形成する。
【００３１】続いて、図６ｄに示すように、上記基板の
全面に透明なフォトレジスト３４を塗布した後、上記フ
ォトレジスト３４を選択的に露光及び現像してパッド部
位２３を開口させた後、その開口を有するフォトレジス
トパターン３４をマスクとして上記パッド部位２３上の
トップコティング層３１及び平坦層２７を選択的にエッ
チングして上記パッド部位２３を露出させる。この時、
上記トップコティング層３１及び平坦層２７のエッチン
グ工程時に、上記ストライプマイクロレンズ層３２の上
部が一定の厚さだけエッチングされるように、エッチン
グ時間を少し増やして（約２０秒〜３０秒程度）、オー
バーエッチング３６を施して上部が平坦な模様を有する
ストライプマイクロレンズ３２Ａを形成する。ここで、
ストライプマイクロレンズ３２Ａの部位は、平坦な上部
面を有するレンズ断面Ｙを示すために、部分的な断面斜
視図で示した。
【００３２】次いで、図６ｅに示すように、上記残留す
るフォトレジスト３４を除去した後、上記表面部位が平
坦なストライプマイクロレンズ層３２Ａにモザイクマイ
クロレンズ層の形成のための透明なフォトレジストを塗
布した後、露光及び現像し、リフローしてモザイクマイ
クロレンズ３３を形成することにより、２層構造のマイ
クロレンズ層を有するカラー固体撮像素子を完成する。
【００３３】上記したように、本発明はストライプマイ
クロレンズの上部をエッチング工程により平坦化させた
後、この上にモザイクマイクロレンズを形成するので、
モザイクマイクロレンズの形成が容易になる。また、上
記ストライプマイクロレンズの上部面のエッチング工程
は、上記したようにパッド部位２３を露出させるための
エッチング工程時に共に進行されるので、別の工程を追
加することなく、容易に行うことが出来る。
【００３４】一方、２層構造のマイクロレンズを製造す
ることにおいて、固体撮像素子の小型化傾向の伴い下部
のストライプマイクロレンズの高さは、低く（１μｍ）
しなければならない。このように、ストライプマイクロ
レンズの高さを低く形成すると、マイクロレンズの曲率
が大きくなる。フォトダイオード領域に光を集光させる
マイクロレンズの役割を十分に果たすためには、下部の
ストライプマイクロレンズと、その上部のモザイクマイ
クロレンズとの曲率がある程度一致していなければなら
ない。従って、モザイクマイクロレンズのレンズ面に連
続するストライプマイクロレンズの側面部位の曲率をス
トライプマイクロレンズの上部に形成された相対的に小
曲率を有するモザイクマイクロレンズの曲率に一致させ
るためには、ストライプマイクロレンズもある程度以下
の曲率を有しなければならないので、ストライプマイク
ロレンズの高さを低くすることに限界があることにな
る。
【００３５】しかし、本発明によれば、ストライプマイ
クロレンズを形成する際には透明なフォトレジストをリ
フローしてストライプマイクロレンズ層を形成させた後
にそのストライプマイクロレンズの上側部分をエッチン
グすることで所望の曲率を有する高さに形成することが
できる。従って、モザイクマイクロレンズの曲率に一致
させることが出来る程度の曲率を有しつつ、厚さの薄い
ストライプマイクロレンズを容易な工程により製造する
ことが出来る。
【００３６】図７に従来の２層構造のマイクロレンズと
本発明による２層構造のマイクロレンズを比較して示
す。図７ａは、従来のマイクロレンズの構造を示すもの
であり、図７ｂは、本発明のマイクロレンズの構造を示
すものである。従来のモザイクマイクロレンズＭ２と本
発明のモザイクマイクロレンズＭ２とが同じ曲率を有
し、従来のストライプマイクロレンズＭ１と本発明のス
トライプマイクロレンズＭ１との厚さ（ｔ）が同一であ
るとすると、モザイクマイクロレンズＭ２の曲率と一致
させることが出来る程度の曲率を有するように、ストラ
イプマイクロレンズを形成する場合、図７に示すよう
に、従来のストライプマイクロレンズの曲率が本発明の
ストライプマイクロレンズの曲率よりも大きくなる。従
って、本発明のマイクロレンズのフォーカシングポイン
ト（ｂ）が従来のマイクロレンズのフォーカシングポイ
ント（ａ）よりも短くなることがわかる。このように、
本発明によれば、マイクロレンズの曲率縮小が容易にな
るので、固体撮像素子の小型化に寄与することが出来
る。
【００３７】また、上記従来技術においては、ストライ
プマイクロレンズ層とモザイクマイクロレンズ層とを全
て形成した後に、フォトレジストを利用したフォトリゾ
グラフィエッチング工程により、パッド部を開口させる
ため、マイクロレンズ層がエッチングされることを防止
するためには、フォトレジストを少なくとも５〜６μｍ
程度の厚さに厚く塗布しなければならないので、露光工
程時に工程条件を設定するのが難しい。しかし、本発明
によれば、ストライプマイクロレンズ層を形成した後
に、フォトレジストを利用したパッド開口工程を行い、
さらに、パッド開口工程時にストライプマイクロレンズ
層の上部がオーバーエッチングされるのが許容されるの
で、平坦層とのエッチング選択費を考慮してもパッド開
口工程時に必要なフォトレジストの厚さは、３．５〜４
μｍ程度になるので、露光工程が容易になる。
【００３８】
【発明の効果】以上記述したように、本発明によれば、
固体撮像素子のマイクロレンズを容易な工程により製造
することが出来、さらに、マイクロレンズの曲率と高さ
の調節を容易に行うことができるので、固体撮像素子の
感度を向上させることが出来ると共に、固体撮像素子の
小型化に寄与することが出来ることになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 一般的な固体撮像素子の平面構造である。
【図２】 一般的な固体撮像素子の部分的な断面構造で
ある。
【図３】 従来の２層構造のマイクロレンズを備えた固
体撮像素子のマイクロレンズ構造図である。
【図４】 従来の２層構造のマイクロレンズを備えた固
体撮像素子の製造方法を示す工程手順図である。
【図５】 本発明の２層構造のマイクロレンズを備えた
固体撮像素子のマイクロレンズ構造図である。
【図６】 本発明の２層構造のマイクロレンズを備えた
固体撮像素子の製造方法を示す工程手順図である。
【図７】 従来の２層構造のマイクロレンズと本発明に
よる２層構造のマイクロレンズとを比較して示すもので
ある。
【符号の説明】
２１…フォトダイオード、２２…ＶＣＣＤ、２３…パッ
ド部位、２５…黒白固体撮像素子、２６…パッシベーシ
ョン層、２７…平坦層、２８，２９，３０…カラーフィ
ルタ層、３１…トップコティング層、３２…ストライプ
マイクロレンズ、３３…モザイクマイクロレンズ、３４
…フォトレジスト。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 31/10 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６８ ５７０ 31/10 Ａ (72)発明者 ジン・ソプ・シム 大韓民国・ギョンギ−ド・アンヤン−シ・ ガンヤン−ドン・1425・ドクオンマンショ ン507

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 平坦な上部面を有するストライプマイク
    ロレンズと、 前記ストライプマイクロレンズの平坦な上部面に形成さ
    れたモザイクマイクロレンズとからなる２層構成のマイ
    クロレンズを有することを特徴とする固体撮像素子。
  2. 【請求項２】 基板と、 前記基板上に形成されたマトリクス状に配列された複数
    のフォトダイオードからなるフォトダイオード領域と、 前記フォトダイオード領域を含む基板の全面に形成され
    た平坦層と、 前記平坦層上の所定の領域に形成されたカラーフィルタ
    層と、 前記カラーフィルタ層を含む基板の全面に形成されたト
    ップコティング層と、 前記トップコティング層の上部に形成され、前記フォト
    ダイオード領域の一方向に配列されたフォトダイオード
    列に対応するように配列された平坦な上部面を有するス
    トライプマイクロレンズと、 前記フォトダイオード領域のそれぞれのフォトダイオー
    ドに対応するように、前記ストライプマイクロレンズの
    平坦な上部面に形成されたモザイクマイクロレンズとを
    含むことを特徴とする固体撮像素子。
  3. 【請求項３】 前記モザイクマイクロレンズは、前記ス
    トライプマイクロレンズの長軸に長く形成された楕円形
    の形状を有することを特徴とする請求項２記載の固体撮
    像素子。
  4. 【請求項４】 基板上に第１フォトレジストを塗布する
    ステップと、 前記第１フォトレジストを選択的に露光及び現像してス
    トライプマイクロレンズパターンを形成するステップ
    と、 前記第１フォトレジストパターンを熱処理により、リフ
    ローするステップと、 前記第１フォトレジストパターンの上部を一定厚さだけ
    エッチングして平坦な上部面を有するストライプマイク
    ロレンズを形成するステップと、 前記ストライプマイクロレンズが形成された基板上に第
    ２フォトレジストを塗布するステップと、 前記第２フォトレジストを選択的に露光及び現像して前
    記ストライプマイクロレンズ層の平坦な上部面にモザイ
    クマイクロレンズパターンを形成するステップと、 前記第２フォトレジストパターンを熱処理により、リフ
    ローしてモザイクマイクロレンズを形成するステップと
    を含むことを特徴とする固体撮像素子の製造方法。
  5. 【請求項５】 前記基板は、固体撮像素子のカラーフィ
    ルタ層であることを特徴とする請求項４記載の固体撮像
    素子の製造方法。
  6. 【請求項６】 フォトダイオード、垂直固体撮像素子と
    水平固体撮像素子及び金属パッド部が形成された基板上
    にパッシベーション層を形成するステップと、 前記パッシベーション層上に平坦層を形成するステップ
    と、 前記平坦層上にカラーフィルタ層を形成するステップ
    と、 前記カラーフィルタ層を含む基板の全面にトップコティ
    ング層を形成するステップと、 前記トップコティング層の上部に第１フォトレジストを
    塗布するステップと、 前記第１フォトレジストを選択的に露光及び現像して前
    記フォトダイオード領域の上部にストライプマイクロレ
    ンズパターンを形成するステップと、 前記第１フォトレジストパターンを熱処理により、リフ
    ローするステップと、 前記第１フォトレジストパターンが形成された基板の全
    面にフォトレジストを塗布するステップと、 前記フォトレジストを選択的に露光及び現像して、所定
    のパターンを形成するステップと、 前記フォトレジストパターンをマスクとして前記トップ
    コティング層及び平坦層を選択的にエッチングし、前記
    金属パッド部を露出させると共に、前記第１フォトレジ
    ストパターンの上部を一定厚さだけエッチングしてスト
    ライプマイクロレンズ層を形成するステップと、 前記フォトレジストパターンの残り部分を除去するステ
    ップと、 前記ストライプマイクロレンズ層上に第２フォトレジス
    トを塗布するステップと、 前記第２フォトレジストを選択的に露光及び現像して前
    記ストライプマイクロレンズ層の平坦な上部面にモザイ
    クマイクロレンズパターンを形成するステップと、 前記第２フォトレジストパターンを熱処理によりリフロ
    ーしてモザイクマイクロレンズ層を形成するステップと
    を含むことを特徴とする固体撮像素子の製造方法。
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