JPS63155002A - 固体撮像装置の製造方法 - Google Patents

固体撮像装置の製造方法

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JPS63155002A
JPS63155002A JP61301608A JP30160886A JPS63155002A JP S63155002 A JPS63155002 A JP S63155002A JP 61301608 A JP61301608 A JP 61301608A JP 30160886 A JP30160886 A JP 30160886A JP S63155002 A JPS63155002 A JP S63155002A
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JP
Japan
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pixel
picture
resist patterns
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Pending
Application number
JP61301608A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryuji Maeda
龍治 前田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP61301608A priority Critical patent/JPS63155002A/ja
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  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 固体撮像装置(イメージセンサ)の複数の画素を多層構
造から単層構造にして平坦化を図り所定の分離を行ない
正常なカラーを出力させる。
〔産業上の利用分野〕
本発明は固体撮像装置の製造方法係り、特に多層構造の
画素を単層構造にして平坦化を図る固体撮像装置の画素
平坦化法に関する。
〔従来の技術〕
固体撮像装置はイメージセンサの性質上条(のホトセン
サとスイッチを必要とする。最近シリコンのIOXIO
mm”あるいはそれ以下の小さなチップの中に約500
X 500の画素をもったイメージセンサが製造可能と
なった。
従来第2図に示すように拡散層2、Al配線層3が形成
されたシリコン基板1上にPSG層4その上にレジスト
のPGMA (ポリプリシジルメタクリレート)平坦化
層5が設けられており、その平坦化層5上に例えば赤(
R)の画素6 、PGMA層7、緑CG)の画素8、P
GMA層8、そして青(B)の画素が順次3相構造で形
成されている。上記界、緑、青のそれぞれの画素はゼラ
チン又はカゼインにそれぞれの色の染色液を付着して形
成されていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
第2図において赤の画素6は平らに形成されているが3
層構造のために緑の画素7、及び青の画素8はどうして
も傾斜面に形成されることになりその色が入射光による
屈折の理由から正常にアウトプットされなかった。
そこで本発明は全ての画素が平坦化された固体I最像装
置の形成方法を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点は本発明によれば半導体表面層に電荷結合デ
バイス(CCD)が形成された基板上に絶縁層、更に平
坦化保護層を順次形成し、該保護層上に複数の画素を形
成する固体描像装置の製造方法において、前記平坦化層
上にゼラチン又はカゼインを塗布してカゼイン又はゼラ
チン画素層を形成し、次に該画素層をパターニングし複
数の画素部を形成し、次に所定の画素部に所定の色のみ
を順次染色して複数の画素を単層に形成することを特徴
とする固体↑最像装置の製造方法によって解決される。
〔作 用〕
本発明によれば従来例えば3原色(R、G 、 B)の
各画素を3層構造で形成していたものが単層構造配置に
形成でき各画素の平坦化が図られる。
〔実施例〕
以下本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1A図から第1D図は本発明の一実施例を説明するた
めの工程断面図である。
第1A図において周知の方法により例えばSiの基板1
に拡散層2を形成し、次にSiO□層(図示せず)を形
成後アルミニウムを約9000〜10,000人の厚さ
に蒸着しRIEによりパターニングしアルミニウム配線
層3を形成し、CCDを作り、CVD法により全面にP
2O層を約10,000〜20,000人の厚さに形成
し、更にその上にホトレジス) PGMAを塗布しPG
MA層5を形成し面を平坦化する。該PGMA層5上に
ゼラチン又はカゼインをそれぞれ100cc、10%の
材料を約500人の厚さに塗布し、画素層10を形成す
る。
次に第1B図に示すように画素層ll上にホトレジスト
を塗布し、各画素に対応した位置にパターニングしレジ
ストパターン12を形成する。
次に第1C図に示すように該レジストパターン12をマ
スクとして例えば02プラズマエツチングにより画素層
11をパターニングしその後レジストパターン12を除
去し各画素6,7.8を形成する。次に例えばEB用の
レジストをPGMA層5上で各画素6.7及び8を被覆
するように形成した後画素6のみ(緑の画素となる)を
露出させるようにレジストパターン13を形成し、該レ
ジストパターン13をマスクとして画素6のみに赤の染
料例えば日本火薬■製Red 14Pを被着させる。
染色方法としては水溶性でアニオン系の染料を水に溶か
し50〜60℃の温度にて約5分間浸漬する。
以下同様にして画素8にのみ緑の染料例えば日本火薬I
I製Green IPを被着させ、次に画素10にのみ
青の染料例えば日本火薬■製器ue 5Pを被着させる
このようにして各画素が平坦でしかも従来のように各画
素間は明確に分離されており、隣の画素の色との混色の
問題もない固体撮像装置が得られる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば各色の画素が確実に
平坦に形成されるので撮像のカラーアウトプットが正常
に行なわれ画像品位が向上する。
【図面の簡単な説明】
第1A図から第1D図迄は本発明の一実施例を説明する
ための工程断面図であり、第2図は従来技術を説明する
ための断面図である。 1・・・基板、        2・・・拡散層、3・
・・アルミニウム配線層、4・・・P2O層、5・・・
PGMA層(平坦化層)、6・・・赤の画素、7.9・
・・PGMA層、     8・・・緑の画素、10・
・・青の画素、     11・・・画素層、12 、
13・・・レジストパターン。 第18図        ′ 第1D図         2 0 °亦σ)II!II系 従来例 1・・・基板 2・・・拡散層 訃°°アルミニウム層 4・・・PSG層 5・・・平坦化層 6・・・赤の画素 7.9・・・PGMA層 8・・・緑の画素 10・・・青の画素

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体表面層に電荷結合デバイス(CCD)が形成
    された基板上に絶縁層、更に平坦化保護層を順次形成し
    、該保護層上に複数の画素を形成する固体撮像装置の製
    造方法において、 前記平坦化層上にゼラチン又はカゼインを塗布してカゼ
    イン又はゼラチン画素層を形成し、次に該画素層をパタ
    ーニングし複数の画素部を形成し、次に所定の画素部に
    所定の色のみを順次染色して複数の画素を単層に形成す
    ることを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
JP61301608A 1986-12-19 1986-12-19 固体撮像装置の製造方法 Pending JPS63155002A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02156567A (ja) * 1988-12-08 1990-06-15 Fujitsu Ltd カラー固体撮像装置の製造方法
JPH03109768A (ja) * 1989-09-25 1991-05-09 Matsushita Electron Corp カラー固体撮像装置の製造方法
DE4007119A1 (de) * 1989-12-02 1991-06-13 Samsung Electronics Co Ltd Farbfilter und verfahren zu seiner herstellung
US5470760A (en) * 1993-02-17 1995-11-28 Sharp Kabushiki Kaisha Solid state imaging device having partition wall for partitioning bottom portions of micro lenses and manufacturing method therefor

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