JPS6259901A - 液晶表示装置用カラ−フイルタ−の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置用カラ−フイルタ−の製造方法Info
- Publication number
- JPS6259901A JPS6259901A JP60199951A JP19995185A JPS6259901A JP S6259901 A JPS6259901 A JP S6259901A JP 60199951 A JP60199951 A JP 60199951A JP 19995185 A JP19995185 A JP 19995185A JP S6259901 A JPS6259901 A JP S6259901A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dyeing
- gelatin
- substrate
- dye
- filter
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- Pending
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- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、カラー液晶表示装置のカラーフィルタＱ製造
方法に関る。
方法に関る。
従来、液晶表示装置を溝底する基板上に形成されるカラ
ーフィルタは、増感剤？加えたゼラチン膜■ような染色
母材を基板上に塗布し、所定のパターンとなる様、露光
、現像工程を行ない、次にこれを減法混色法により目的
とする色調まで、単色染色工程を複数回繰り返しカラー
フィルタを形成する。
ーフィルタは、増感剤？加えたゼラチン膜■ような染色
母材を基板上に塗布し、所定のパターンとなる様、露光
、現像工程を行ない、次にこれを減法混色法により目的
とする色調まで、単色染色工程を複数回繰り返しカラー
フィルタを形成する。
また、赤・緑・青などの複数パターンを同一基板上に形
成する場＠−は、パターンニングされたゼラチン膜上に
ポジ型フオトレジス）ｋ塗布し、所定の染色が行なえる
様、既フォトレジストヲ露光・現像して非染色部にフォ
トレジスト膜を形成してから染色し、染色終了後、フオ
トレジス） ｆｃ剥離する。他のカラーフィルタ金形成
する場合は、さらに、フォトレジスト塗布・露光・現像
・染色フォトレジスト剥離工程を繰り返すことにより、
フィルタパターンを形成する。
成する場＠−は、パターンニングされたゼラチン膜上に
ポジ型フオトレジス）ｋ塗布し、所定の染色が行なえる
様、既フォトレジストヲ露光・現像して非染色部にフォ
トレジスト膜を形成してから染色し、染色終了後、フオ
トレジス） ｆｃ剥離する。他のカラーフィルタ金形成
する場合は、さらに、フォトレジスト塗布・露光・現像
・染色フォトレジスト剥離工程を繰り返すことにより、
フィルタパターンを形成する。
しかし、前述の従来技術では、目的の色調となるまで、
禁色染色工程を繰り返す為、必要染色時間が重色時より
くり返し数に比して長くなり、湯浴性であるゼラチン層
自体の染色浴中へのとけ出しが大きく、所定濃度が得ら
れにくい。
禁色染色工程を繰り返す為、必要染色時間が重色時より
くり返し数に比して長くなり、湯浴性であるゼラチン層
自体の染色浴中へのとけ出しが大きく、所定濃度が得ら
れにくい。
また、複数パターン形成時に於ては、染色防止の為に設
けられているフォトレジストパターンに、滋色染色工程
をくり返し染色時間が長くなることにより、クラックが
発生し、このクラック部やフォトレジスト毛ツヂ部から
染色液が浸入して不要な染色が行なわれてしまうという
問題があった。
けられているフォトレジストパターンに、滋色染色工程
をくり返し染色時間が長くなることにより、クラックが
発生し、このクラック部やフォトレジスト毛ツヂ部から
染色液が浸入して不要な染色が行なわれてしまうという
問題があった。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、短時間で所定の染色濃度を得、
また所定の染色パターンを再現性良く得ることにある。
の目的とするところは、短時間で所定の染色濃度を得、
また所定の染色パターンを再現性良く得ることにある。
本発明は、所定の色を得るために必要だった複数の染色
浴中の単−染料部分を、一つの染色浴中に於て適量混合
し、この混合染色浴中で染色を行なうことを￥ｊ微とし
ている。
浴中の単−染料部分を、一つの染色浴中に於て適量混合
し、この混合染色浴中で染色を行なうことを￥ｊ微とし
ている。
本発明の上記ｍ成によれば、複数回必要であった染色工
程が一回で済むため、ゼラチンの染色浴中への溶出や、
所定染色品以外への染色が防止される。
程が一回で済むため、ゼラチンの染色浴中への溶出や、
所定染色品以外への染色が防止される。
免１図は本発明の嘉１の実施例でおり、液晶表示装置の
カラーフィルタをもつ基板の製造工程中の断面図である
。ガラス基板１へは赤・緑・青色フィルタそれぞれに対
応する透明ｍ匝５ 、６ 、７が形成されている。既ガ
ラス基板及び透明電匝上ニ重クロム酸アンモニウムで増
感されたゼラチンをスピンコーターで０．７ミクロンの
厚さで塗布し、フォトマスクを用いて露光したｉ、６０
（０の温水中で３０（秒）現鐵し、不要ゼラチン部分を
除去した。
カラーフィルタをもつ基板の製造工程中の断面図である
。ガラス基板１へは赤・緑・青色フィルタそれぞれに対
応する透明ｍ匝５ 、６ 、７が形成されている。既ガ
ラス基板及び透明電匝上ニ重クロム酸アンモニウムで増
感されたゼラチンをスピンコーターで０．７ミクロンの
厚さで塗布し、フォトマスクを用いて露光したｉ、６０
（０の温水中で３０（秒）現鐵し、不要ゼラチン部分を
除去した。
次に必要染色部以外の染色を防止する為ポジ型フォトレ
ジスト（たとえばヘキスト社のＡ ｚ１３５０Ｊ）膜８
ｔ １．０（μｒｒＬ）の厚さでガラス及びゼラチン
上へ塗布し、フォトマスクと使用して露光した後現Ｉ＃
！を行なって所定のパターンを形成する。
ジスト（たとえばヘキスト社のＡ ｚ１３５０Ｊ）膜８
ｔ １．０（μｒｒＬ）の厚さでガラス及びゼラチン
上へ塗布し、フォトマスクと使用して露光した後現Ｉ＃
！を行なって所定のパターンを形成する。
上記手順で得られたゼラチン露出部を緑色に染める為、
例えば黄色の酸性染料とシアンとシアン色耐性染料を各
々０．５（％）、酢酸が１（４）含まれる６０（０混合
染料水溶液６０（Ｏ浴中へ前記フォトレジストパターン
付き基板を、２分間浸漬し、緑色染色を行ない、次にフ
ォトレジスト？アセトン中へ浸漬して剥離し、緑色フィ
ルタを形成した。
例えば黄色の酸性染料とシアンとシアン色耐性染料を各
々０．５（％）、酢酸が１（４）含まれる６０（０混合
染料水溶液６０（Ｏ浴中へ前記フォトレジストパターン
付き基板を、２分間浸漬し、緑色染色を行ない、次にフ
ォトレジスト？アセトン中へ浸漬して剥離し、緑色フィ
ルタを形成した。
更に前記と同様のフォトレジストバターニング工程を行
い、赤色の酸性染料０．５（４）と酢酸１（６）が含ま
れる水溶ｌｌ！（５０［Ｆ］温浴中於て２分間赤色染色
を行ない赤色フィルタ２？得、同様に前記と同様のフォ
トレジストバターニング工程の後青色の酸性染料０，５
（１）と酢酸１（４）が含まれる水溶液（イ）０中に於
て２分間前色染色を行ない、青色フィルタ４を得た。
い、赤色の酸性染料０．５（４）と酢酸１（６）が含ま
れる水溶ｌｌ！（５０［Ｆ］温浴中於て２分間赤色染色
を行ない赤色フィルタ２？得、同様に前記と同様のフォ
トレジストバターニング工程の後青色の酸性染料０，５
（１）と酢酸１（４）が含まれる水溶液（イ）０中に於
て２分間前色染色を行ない、青色フィルタ４を得た。
■２図は本発明の嘉２の実施列であり、液晶表示装置の
カラーフィルタを有する基板の断面図でおる。
カラーフィルタを有する基板の断面図でおる。
上記基板１土に、范１の実施例と同様に重クロム酸アン
モニウムで増感されたゼラチン全１．５ミクロンの厚さ
で塗布し、パターン形成した。その後、緑色に染色する
為、黄色酸性染料とシアン色酸性染料が含まれる混合染
色浴中で３分間ゼラチン３を染色した１次に混合防止膜
９を前記ゼラチン２の上に形成した。同様の工程により
得たゼラチンパターン２を赤色酸性染料によって３分間
染色後、混色防止膜９を形成し、更に同様にして得たゼ
ラチンパターン４を青色酸性染料（よって３分間染色し
、上部に保獲膜１０と透明電匝５を形成した。
モニウムで増感されたゼラチン全１．５ミクロンの厚さ
で塗布し、パターン形成した。その後、緑色に染色する
為、黄色酸性染料とシアン色酸性染料が含まれる混合染
色浴中で３分間ゼラチン３を染色した１次に混合防止膜
９を前記ゼラチン２の上に形成した。同様の工程により
得たゼラチンパターン２を赤色酸性染料によって３分間
染色後、混色防止膜９を形成し、更に同様にして得たゼ
ラチンパターン４を青色酸性染料（よって３分間染色し
、上部に保獲膜１０と透明電匝５を形成した。
以上述べたように本発明によれば、２種類以上の染料を
混合した染色浴を用いて染色を行なうので、単色染色時
と同等の染色時間で目的とする色調を得ることが可能と
なることにより、ゼラチン層自体の染色浴中へのとけ出
し量が少なく、十分な染色膜厚が確保され、従って所定
の染色濃度を得ることが容易となった。また複数パター
ン形成時に於ては、染色防止の為設けられたフォトレジ
ストパターン下への防止すべき染色液の浸入時間が最小
限に押えられることで、所定の染色パターンが容易に得
られた。更に従来−色染色するのに必要であった複数個
の染色浴槽が混合染色浴となったことにより単槽となり
、製造設備費の抵減が可能になり、また染料の必要量も
染色槽数の減少に比して少なくすることが出来、染色材
料費が六減され、製造工程に於ては染色工程時間が短縮
され、フィルタ製造コストの低減が可能となった。
混合した染色浴を用いて染色を行なうので、単色染色時
と同等の染色時間で目的とする色調を得ることが可能と
なることにより、ゼラチン層自体の染色浴中へのとけ出
し量が少なく、十分な染色膜厚が確保され、従って所定
の染色濃度を得ることが容易となった。また複数パター
ン形成時に於ては、染色防止の為設けられたフォトレジ
ストパターン下への防止すべき染色液の浸入時間が最小
限に押えられることで、所定の染色パターンが容易に得
られた。更に従来−色染色するのに必要であった複数個
の染色浴槽が混合染色浴となったことにより単槽となり
、製造設備費の抵減が可能になり、また染料の必要量も
染色槽数の減少に比して少なくすることが出来、染色材
料費が六減され、製造工程に於ては染色工程時間が短縮
され、フィルタ製造コストの低減が可能となった。
第１図は本発明のカラーフィルタ製造方法の一実施例を
示す断面図。 窮２図は本発明のカラーフィルタ製造方法の第２の実施
例を示す断面図。 １・−・ガラス基板 ２・−一赤色カラーフィルタ ３・−・緑色カラーフィルタ ４−・・青色カラーフィルタ ５．６，７・Φ透明冒険 ８・・・フォトレジスト ９φ・・混色防止膜 １０・・・保護膜 以 上
示す断面図。 窮２図は本発明のカラーフィルタ製造方法の第２の実施
例を示す断面図。 １・−・ガラス基板 ２・−一赤色カラーフィルタ ３・−・緑色カラーフィルタ ４−・・青色カラーフィルタ ５．６，７・Φ透明冒険 ８・・・フォトレジスト ９φ・・混色防止膜 １０・・・保護膜 以 上
Claims (1)
- 液晶表示装置を構成する基板上にゼラチン層を塗布し、
既ゼラチン層に所定のパターンニングを施した後、２種
類以上の染料を混合して収る染色浴中に於て前記ゼラチ
ン層を染色することを特徴とする液晶表示装置用カラー
フィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60199951A JPS6259901A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 液晶表示装置用カラ−フイルタ−の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60199951A JPS6259901A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 液晶表示装置用カラ−フイルタ−の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6259901A true JPS6259901A (ja) | 1987-03-16 |
Family
ID=16416312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60199951A Pending JPS6259901A (ja) | 1985-09-10 | 1985-09-10 | 液晶表示装置用カラ−フイルタ−の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6259901A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01130102A (ja) * | 1987-11-17 | 1989-05-23 | Nippon Kayaku Co Ltd | 塗膜の染色法 |
| EP0500071A2 (en) | 1991-02-20 | 1992-08-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing a defect-free photoelectric conversion device |
| US5281541A (en) * | 1990-09-07 | 1994-01-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for repairing an electrically short-circuited semiconductor device, and process for producing a semiconductor device utilizing said method |
| US6221685B1 (en) | 1997-03-12 | 2001-04-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of producing photovoltaic element |
-
1985
- 1985-09-10 JP JP60199951A patent/JPS6259901A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01130102A (ja) * | 1987-11-17 | 1989-05-23 | Nippon Kayaku Co Ltd | 塗膜の染色法 |
| US5281541A (en) * | 1990-09-07 | 1994-01-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for repairing an electrically short-circuited semiconductor device, and process for producing a semiconductor device utilizing said method |
| EP0500071A2 (en) | 1991-02-20 | 1992-08-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing a defect-free photoelectric conversion device |
| US6221685B1 (en) | 1997-03-12 | 2001-04-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of producing photovoltaic element |
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