JPS5993408A - 色フイルタの製造方法 - Google Patents
色フイルタの製造方法Info
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- JPS5993408A JPS5993408A JP57204072A JP20407282A JPS5993408A JP S5993408 A JPS5993408 A JP S5993408A JP 57204072 A JP57204072 A JP 57204072A JP 20407282 A JP20407282 A JP 20407282A JP S5993408 A JPS5993408 A JP S5993408A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02162—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はカラーカメラ等に使用する色フィルタの製造方
法に関するものである。
法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
第１図Ａ−Ｃは一般的に用いられている製造方２ 、。
法を説明するだめの断面図であり第１図Ａに示す如く捷
ず光学研磨を施したガラス基板１」二にポリビニルアル
コール、グリユー、ゼラチン、カゼイン等に重クロム酸
アンモン等で感光性を伺６した感光液を、ローラーコー
ト、ディッピング、スピンナー等で均一に塗布し、乾燥
した後マスク露光法で１色目のパターン部分だけを光硬
化させ、現像して必要なパターン以例を除去して染色ベ
ース膜２を形成した後に、所定の分光特性を有する染料
で１色目のパターンを染色する。次に染料で染色される
ことのない透明な防染膜３を全面に塗布する（第１図Ａ
）。
ず光学研磨を施したガラス基板１」二にポリビニルアル
コール、グリユー、ゼラチン、カゼイン等に重クロム酸
アンモン等で感光性を伺６した感光液を、ローラーコー
ト、ディッピング、スピンナー等で均一に塗布し、乾燥
した後マスク露光法で１色目のパターン部分だけを光硬
化させ、現像して必要なパターン以例を除去して染色ベ
ース膜２を形成した後に、所定の分光特性を有する染料
で１色目のパターンを染色する。次に染料で染色される
ことのない透明な防染膜３を全面に塗布する（第１図Ａ
）。
次に同様にして第１図Ｂに示すように前記と同じ感光液
を均一に塗布し、乾燥した後マスク露光法で露光現像し
て２色目の染色ベース膜４を形成後、所定の分光特性を
有する第２の染料で染色する。さらに前記透明々防染膜
５を全面に塗布する。
を均一に塗布し、乾燥した後マスク露光法で露光現像し
て２色目の染色ベース膜４を形成後、所定の分光特性を
有する第２の染料で染色する。さらに前記透明々防染膜
５を全面に塗布する。
次に同様にして第１図Ｃに示す」：うに前記と同じ感光
液を均一に塗布し乾燥した後マスク露光法で露光現像し
て３色目の染色ベース膜６を形成後３７、−７ 所定の分光特性を有する第３の染料で染色する。
液を均一に塗布し乾燥した後マスク露光法で露光現像し
て３色目の染色ベース膜６を形成後３７、−７ 所定の分光特性を有する第３の染料で染色する。
最後にトップコート７を塗布して第１図りに示すような
色フィルタが製造される。
色フィルタが製造される。
しかしながらこのようにマスクを用いて」二重より露光
する従来の方法では第１図Ｅに示す如く（第１図Ｅは第
１図Ｂの要部り部分の拡大図）、樹脂膜パターンエッヂ
部でダレ８が生じたりアライメント誤差のため透明部９
ができてしまい、まだパターンエッヂのダレで生じた樹
脂膜厚のムラのため、染色にムラができてしまう等の欠
点があった０ ず々わちポリビニルアルコール、グリユー、ゼラチン、
カゼイン等に重クロム酸アンモン等で感光性を持たせた
場合、ネガ型の感光物となり、通常ネガ型感光物質はパ
ターンの切れが悪く、パターンエッヂがダレるのが一般
的である。
する従来の方法では第１図Ｅに示す如く（第１図Ｅは第
１図Ｂの要部り部分の拡大図）、樹脂膜パターンエッヂ
部でダレ８が生じたりアライメント誤差のため透明部９
ができてしまい、まだパターンエッヂのダレで生じた樹
脂膜厚のムラのため、染色にムラができてしまう等の欠
点があった０ ず々わちポリビニルアルコール、グリユー、ゼラチン、
カゼイン等に重クロム酸アンモン等で感光性を持たせた
場合、ネガ型の感光物となり、通常ネガ型感光物質はパ
ターンの切れが悪く、パターンエッヂがダレるのが一般
的である。
発明の目的
本発明は以上述べてきた従来の欠点を除去するためにな
されだ色フィルタの製造方法を提供するものである。
されだ色フィルタの製造方法を提供するものである。
発明の構成
本発明は、感光性を＋ＩＩ５ したべ〜ス膜をホトマス
クにより選択露光する工程と、前記ベース膜の上面」：
り全面露光する工程と、前記選択露光＋１．’ｌの未露
光部分を染色する工程とを具備することにより、薄膜の
フィルタ製造を可能にしフィルタの）Ｙ。
クにより選択露光する工程と、前記ベース膜の上面」：
り全面露光する工程と、前記選択露光＋１．’ｌの未露
光部分を染色する工程とを具備することにより、薄膜の
フィルタ製造を可能にしフィルタの）Ｙ。
学特性の向上をはかるものである。
実施例の説明
本発明の色フィルタの製造方法について第２図Ａ−Ｉに
示す実施例を用いて説明する。
示す実施例を用いて説明する。
捷ず第２図Ａに示す如く、ガラス基板１−１−に全面感
光性とするだめに、重クロム酸アンモンを入れたカゼイ
ンの膜１０を０ 、５−２ 、Ｏ（ｔｍに均一塗布し、
乾燥ｌ〜だ後マスク露光法によりホトマスク１１を用い
て１色目の必要なパターン以外を過剰に露光する０１２
は光の非透過部分、１３は露光用の光である。こうした
のち、さらに、第２図Ｂの如く光１４により適正露光量
で全面露光することによって１層目に重合度の異なる部
分をつくった後、余分の重クロム酸アンモンを水で洗い
出す。
光性とするだめに、重クロム酸アンモンを入れたカゼイ
ンの膜１０を０ 、５−２ 、Ｏ（ｔｍに均一塗布し、
乾燥ｌ〜だ後マスク露光法によりホトマスク１１を用い
て１色目の必要なパターン以外を過剰に露光する０１２
は光の非透過部分、１３は露光用の光である。こうした
のち、さらに、第２図Ｂの如く光１４により適正露光量
で全面露光することによって１層目に重合度の異なる部
分をつくった後、余分の重クロム酸アンモンを水で洗い
出す。
５ へ〜ジ
次にポストベークの後、所定の分光特性を有する着色剤
例えば染料で１回目の光１３の未露光部分のみを染色し
１色目のパターン１５を染色する（第２図Ｃ）。このと
き、２回露光により過剰に露光された領域すなわち高重
合度領域１ｏは染色基を失い、染料で染色されることは
ない。
例えば染料で１回目の光１３の未露光部分のみを染色し
１色目のパターン１５を染色する（第２図Ｃ）。このと
き、２回露光により過剰に露光された領域すなわち高重
合度領域１ｏは染色基を失い、染料で染色されることは
ない。
同様にして第２図りに示す如く前記上同じ感光液を均一
に塗布し乾燥した後、光１６．マスク１７を用いたマス
ク露光法により必要なパターン以外を過剰に露光して過
剰露光部１８を形成し、さらに第２図Ｅの如く光１９に
より適正露光量で全面露光することによって２層目に重
合度の異なる部分２ｏをつくり、余分の重クロム酸アン
モンを水で洗い出し、ポストベークの後、所定の分光特
性を有する第２の染料で部分２１を染色し２色目のパタ
ーン２１を染色する（第２図Ｆ）。
に塗布し乾燥した後、光１６．マスク１７を用いたマス
ク露光法により必要なパターン以外を過剰に露光して過
剰露光部１８を形成し、さらに第２図Ｅの如く光１９に
より適正露光量で全面露光することによって２層目に重
合度の異なる部分２ｏをつくり、余分の重クロム酸アン
モンを水で洗い出し、ポストベークの後、所定の分光特
性を有する第２の染料で部分２１を染色し２色目のパタ
ーン２１を染色する（第２図Ｆ）。
次に同様にして、第２図Ｇに示す如く、前記と同じ感光
液を均一に塗布１〜乾燥した後マスク２２゜光２３によ
りマスク露光法によ！ｌｌｓ層目の必要なパターン以外
の部分２４を過剰に露光し、さらに第２図Ｈの如く光２
５で適正露光量で全面露光することによって３層目に重
合度の異なる部分をつくり、余分の重クロム酸アンモン
を水で洗い出し、ポストベークの後所定の分光特性を有
する第２の染料で３色目のパターン２６を染色する。
液を均一に塗布１〜乾燥した後マスク２２゜光２３によ
りマスク露光法によ！ｌｌｓ層目の必要なパターン以外
の部分２４を過剰に露光し、さらに第２図Ｈの如く光２
５で適正露光量で全面露光することによって３層目に重
合度の異なる部分をつくり、余分の重クロム酸アンモン
を水で洗い出し、ポストベークの後所定の分光特性を有
する第２の染料で３色目のパターン２６を染色する。
最後にトップコート２７を塗布して第２図工に示すよう
な色フィルタが製造される。
な色フィルタが製造される。
以上述べてきた実施例ではストライブフィルタを例に示
したがモザイク状フィルタでも同じ方法が使用できるこ
とけ言う丑でもない。さらに才だガラス基板の代わりに
固体撮像素子が複数個形成されたシリコン基板を用いる
と直接素子」二に色フィルタを形成できることも明らか
である。
したがモザイク状フィルタでも同じ方法が使用できるこ
とけ言う丑でもない。さらに才だガラス基板の代わりに
固体撮像素子が複数個形成されたシリコン基板を用いる
と直接素子」二に色フィルタを形成できることも明らか
である。
発明の効果
このようにして製造された色フィルタはマスク露光後現
像を必要としないためパターン周辺のダレを生じず各層
が平坦であり染色膜厚にムラがないため均一に染色がで
きる。寸だ二重露光によって重合度を増した膜は染色性
を失いその非染色部分が壁となっており、染色時に染料
が縦、横方向７ ・、 ワ に拡がるのを完全に阻止することが可能である。
像を必要としないためパターン周辺のダレを生じず各層
が平坦であり染色膜厚にムラがないため均一に染色がで
きる。寸だ二重露光によって重合度を増した膜は染色性
を失いその非染色部分が壁となっており、染色時に染料
が縦、横方向７ ・、 ワ に拡がるのを完全に阻止することが可能である。
さらに各層間に防染膜を必要としないため薄膜フィルタ
の製造が可能であるうえ同じ感光膜を重ねるため密着力
の高い色フィルタを得ることができる０
の製造が可能であるうえ同じ感光膜を重ねるため密着力
の高い色フィルタを得ることができる０
第１図（８）〜（ｑは従来の色フィルタの製造方法を示
す工程断面図、第１図［Ｄ）は同方法により製造された
色フィルタの平面図、第１図（ト））は第１図（Ｂ）の
要部Φ）の拡大図、第２図（Ａ）〜（Ｉ）は本発明の一
実施例における色フィルタの製造方法を説明するだめの
工程断面図である。 １・・・・・・ガラス基板、２，４，６，１２，１４゜
防６・・・・染色ベース膜、３，５・・・・・・防染膜
、７゜１７・・・・トップコート、１１・・・・パター
ンマスク、１１・・・・パターンマスク、１８・・・・
・・光。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第１図 ／ り 第 ２ 図 ７．３ ／ｌ−［Ｊ出出出出１出１１１ ／１０ 第２図 第２図 ？Ｊ」１ｊＪｊＪＪ［ｌｌｊ［ｌｌ
す工程断面図、第１図［Ｄ）は同方法により製造された
色フィルタの平面図、第１図（ト））は第１図（Ｂ）の
要部Φ）の拡大図、第２図（Ａ）〜（Ｉ）は本発明の一
実施例における色フィルタの製造方法を説明するだめの
工程断面図である。 １・・・・・・ガラス基板、２，４，６，１２，１４゜
防６・・・・染色ベース膜、３，５・・・・・・防染膜
、７゜１７・・・・トップコート、１１・・・・パター
ンマスク、１１・・・・パターンマスク、１８・・・・
・・光。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第１図 ／ り 第 ２ 図 ７．３ ／ｌ−［Ｊ出出出出１出１１１ ／１０ 第２図 第２図 ？Ｊ」１ｊＪｊＪＪ［ｌｌｊ［ｌｌ
Claims (3)
- （１）基板上に形成した感光性を付与したベース膜をホ
トマスフにより選択露光する工程と、前記ベース膜の上
面よりこのベース膜を全面露光する玉露と、前記選択露
光時の未露光部分を染色する工程とを備えたことを特徴
としだ色フィルタの製造方法。 - （２）基板が透光性基板であることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の色フィルタの製造方法。 - （３）基板が固体撮像素子であることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の色フィルタの製造方法０
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57204072A JPS5993408A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 色フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57204072A JPS5993408A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 色フイルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5993408A true JPS5993408A (ja) | 1984-05-29 |
| JPH031643B2 JPH031643B2 (ja) | 1991-01-11 |
Family
ID=16484296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57204072A Granted JPS5993408A (ja) | 1982-11-19 | 1982-11-19 | 色フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5993408A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60216306A (ja) * | 1984-04-12 | 1985-10-29 | Seiko Epson Corp | カラ−フイルタ− |
-
1982
- 1982-11-19 JP JP57204072A patent/JPS5993408A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60216306A (ja) * | 1984-04-12 | 1985-10-29 | Seiko Epson Corp | カラ−フイルタ− |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH031643B2 (ja) | 1991-01-11 |
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